專利名稱：鍍膜用基板支架、鍍膜設備及鍍膜方法
技術領域：
本發(fā)明涉及鍍膜技術領域，尤其涉及一種鍍膜用基板支架、鍍膜設備及一種鍍膜方法。
背景技術：
鍍膜技術是一種新穎的材料合成與加工新技術，是表面工程技術領域的重要組成部分。鍍膜技術是利用物理、化學手段在固體表面涂覆一層特殊性能的薄膜，從而使固體表面具有耐磨損、耐高溫、耐腐蝕、抗氧化、防輻射、導電、導磁或絕緣等許多優(yōu)越性能，從而達到提高產(chǎn)品質(zhì)量、延長產(chǎn)品壽命、節(jié)約能源和獲得顯著技術經(jīng)濟效益的作用。鍍膜技術已在國民經(jīng)濟各個領域得到應用，如航空、航天、電子、信息、機械、石油、化工、環(huán)保、軍事等領域。因此，鍍膜技術被譽為最具發(fā)展前途的重要技術之一。
隨著光電技術的發(fā)展，光學鍍膜的應用愈來愈不可或缺，而且品質(zhì)上的要求也愈來愈高。目前，光學鍍膜已普遍用于照相機、數(shù)碼相機、照相手機鏡頭模組等光學產(chǎn)品中。
現(xiàn)有技術提供的光學鍍膜方法中，膜料蒸發(fā)源與基板大多相對固定設置，形成的光學薄膜結晶方向單一，光學性能上無法達到各向同性，入射光的方向?qū)鈱W薄膜的折射率影響明顯，導致光學薄膜的光學性能不佳。

發(fā)明內(nèi)容有鑒于此，有必要提供一種能鍍制較佳光學性能的光學薄膜的鍍膜用基板支架、鍍膜設備及一種鍍膜方法。
一種鍍膜用基板支架，該基板支架能夠在一定角度范圍內(nèi)擺動，以在鍍膜過程中改變基板與鍍膜設備中的膜料蒸發(fā)源發(fā)出的蒸汽流之間的夾角。
一種鍍膜設備，其包括一個鍍膜腔；一個用于設置基板的基板支架；及至少一個膜料蒸發(fā)源。所述基板支架和膜料蒸發(fā)源都設于鍍膜腔中。所述基板支架能夠在一定角度范圍內(nèi)擺動，以在鍍膜過程中改變基板與所述膜料蒸發(fā)源發(fā)出的蒸汽流之間的夾角。
一種鍍膜方法，將基板夾緊在基板支架上，該基板支架裝在一個內(nèi)設有膜料蒸發(fā)源的容器中，在鍍膜過程中不斷改變基板與膜料蒸發(fā)源產(chǎn)生的蒸汽流之間的夾角。
相較于現(xiàn)有技術，所述鍍膜設備及其鍍膜方法在鍍膜過程中能不斷改變基板與所述膜料蒸發(fā)源發(fā)出的蒸汽流之間的夾角，使得光學薄膜結晶方向眾多，且各個方向結晶均勻，光學性能基本各向同性，光學薄膜對各個方向上的入射光的折射率基本相同，從而提高光學薄膜的光學性能。

圖1是本發(fā)明的實施例提供的鍍膜設備示意圖。
具體實施方式
下面結合附圖對本發(fā)明作進一步詳細說明。
請參閱圖1，為本發(fā)明的實施例提供的鍍膜設備10，其包括一個鍍膜腔；一個用于設置基板2的基板支架1；及兩個膜料蒸發(fā)源3a和3b，所述基板支架1和膜料蒸發(fā)源3a和3b都設在鍍膜腔中。
由于在鍍膜過程中，鍍膜腔中氣壓越高膜結構越粗越松散，因此優(yōu)選地，所述鍍膜腔為一個真空鍍膜腔。
所述基板支架1用于設置基板2，其可為平板或夾具等各種形狀，只要能夠設置基板2即可，本實施例中所述基板支架為一個平板，優(yōu)選地，所述平板為一個圓形平板。所述基板支架1能夠在一定角度φ范圍內(nèi)擺動，以在鍍膜過程中改變基板2與所述膜料蒸發(fā)源3發(fā)出的蒸汽流之間的夾角。本實施例中，所述基板支架1擺動方向為沿基板支架1的厚度方向。所述基板支架1擺動的角度φ可根據(jù)膜料蒸發(fā)源3相對于基板支架1的具體位置來調(diào)整大小，以得到光學性能更好的光學薄膜。所述基板支架1還可如圖1中所示沿垂直于基板2的厚度方向往復移動。為能夠得到厚度更加均勻的光學薄膜，本實施例中的基板支架1還可沿中心軸O做對稱性旋轉(zhuǎn)。
所述基板2從材料上分可為塑料鏡片或玻璃鏡片，從形狀上分可為球面透鏡或非球面透鏡。
本實施例中，所述鍍膜設備10包括兩個膜料蒸發(fā)源3a和3b。所述膜料蒸發(fā)源3a和3b內(nèi)設置的膜料的蒸發(fā)方法可為熱電阻加熱蒸發(fā)法或電子束轟擊蒸發(fā)法。本實施例中采用電子束轟擊蒸發(fā)法，通過在鍍膜腔中設置兩個電子束發(fā)射源4a和4b分別對兩個膜料蒸發(fā)源3a和3b轟擊，以使膜料蒸發(fā)源3a和3b中的膜料蒸發(fā)。所述鍍膜腔內(nèi)還進一步設有一個電磁場，用于對所述電子束發(fā)射源4a和4b產(chǎn)生的電子束加速和偏轉(zhuǎn)。在其它實施例中，所述膜料蒸發(fā)源可為一個或多個，以設置不同種類的膜料。當需于基板2上僅鍍制一層膜時，所述膜料蒸發(fā)源可僅為一個。當需于基板2上鍍制多層膜時，所述膜料蒸發(fā)源可為多個。
另外，本發(fā)明還提供了一種鍍膜方法，在該方法中先將基板2夾緊在基板支架1上，該基板支架1裝在一個內(nèi)設有膜料蒸發(fā)源的容器中，該方法的特點是在鍍膜過程中不斷改變基板2與膜料蒸發(fā)源3a，3b產(chǎn)生的蒸汽流之間的夾角，以鍍制結晶方向多樣的光學薄膜。所述改變基板2與膜料蒸發(fā)源3a，3b產(chǎn)生的蒸汽流之間的夾角的方法有多種，如通過移動膜料蒸發(fā)源3a，3b來改變或移動基板2來改變等，本實施例中通過使基板2在一定角度φ內(nèi)擺動來改變基板2與膜料蒸發(fā)源產(chǎn)生的蒸汽流之間的夾角。
在鍍膜過程中，所述基板2還可沿垂直于基板2的厚度方向往復移動以及沿中心軸O做對稱性旋轉(zhuǎn)。所述容器具體可為一個鍍膜腔，優(yōu)選地，所述鍍膜腔為一個真空鍍膜腔。
本實施例中，利用所述鍍膜方法在一個基板2上鍍制一個具有四層膜的抗反射光學薄膜。其包括以下步驟步驟一將基板2夾緊在基板支架1上，在兩個膜料蒸發(fā)源3a和3b中分別設置一種較高折射率膜料和一種較低折射率膜料。
步驟二用電子束轟擊具有較高折射率膜料的膜料蒸發(fā)源3a，在基板上鍍制第一膜層，在鍍制第一膜層過程中不斷改變基板2與膜料蒸發(fā)源3a產(chǎn)生的蒸汽流之間的夾角。
步驟三用電子束轟擊具有較低折射率膜料的膜料蒸發(fā)源3b，在基板2上鍍制第二膜層覆蓋在所述第一膜層上，在鍍制第二膜層過程中不斷改變基板2與膜料蒸發(fā)源3b產(chǎn)生的蒸汽流之間的夾角。
步驟四用電子束轟擊具有較高折射率膜料的膜料蒸發(fā)源3a，在基板2上鍍制第三膜層覆蓋在所述第二膜層上，在鍍制第三膜層過程中不斷改變基板2與膜料蒸發(fā)源3a產(chǎn)生的蒸汽流之間的夾角。
步驟五用電子束轟擊具有較低折射率膜料的膜料蒸發(fā)源3b，在基板2上鍍制第四膜層覆蓋在所述第三膜層上，在鍍制第四膜層過程中不斷改變基板2與膜料蒸發(fā)源3b產(chǎn)生的蒸汽流之間的夾角，得到所述抗反射光學薄膜。
所述較高折射率膜料可選自二氧化鈦、五氧化二鈮或五氧化二鉭等中的一種，所述較低折射率膜料一般使用二氧化硅。本實施例中所述較高折射率膜料為二氧化鈦，其折射率為2.35，較低折射率膜料為二氧化硅，其折射率為1.46。所述第一膜層厚度為100～150納米，第二膜層厚度為250～350納米，第三膜層厚度為800～1200納米，第四膜層厚度為700～1400納米。按本實施例提供的鍍膜方法得到的抗反射光學薄膜對于波長為400～700納米的光的透射率可達97.5％～99.5％，優(yōu)選地為98％～99％。
相較于現(xiàn)有技術，所述鍍膜設備及其鍍膜方法在鍍膜過程中能不斷改變基板與所述膜料蒸發(fā)源發(fā)出的蒸汽流之間的夾角，使得光學薄膜結晶方向眾多，且各個方向結晶均勻，光學性能基本各向同性，光學薄膜對各個方向上的入射光的折射率基本相同，從而提高光學薄膜的光學性能。
可以理解的是，對于本領域的普通技術人員來說，可以根據(jù)本發(fā)明的技術構思做出其它各種相應的改變與變形，而所有這些改變與變形都應屬于本發(fā)明權利要求的保護范圍。
權利要求
1.一種鍍膜用基板支架，其特征在于該基板支架能夠在一定角度范圍內(nèi)擺動，以在鍍膜過程中改變基板與鍍膜設備中的膜料蒸發(fā)源發(fā)出的蒸汽流之間的夾角。
2.如權利要求1所述的鍍膜用基板支架，其特征在于，所述基板支架能夠沿垂直于基板的厚度方向往復移動。
3.如權利要求1所述的鍍膜用基板支架，其特征在于，所述基板支架能夠沿其中心軸做對稱性旋轉(zhuǎn)。
4.如權利要求1所述的鍍膜用基板支架，其特征在于，所述基板支架擺動的角度可以調(diào)整。
5.如權利要求1所述的鍍膜用基板支架，其特征在于，所述基板為塑料鏡片或玻璃鏡片。
6.一種鍍膜設備，其包括一個鍍膜腔；一個用于設置基板的基板支架；及至少一個膜料蒸發(fā)源，所述基板支架和膜料蒸發(fā)源都設于鍍膜腔中，其特征在于所述基板支架為權利要求1至6任一項所述的基板支架。
7.如權利要求6所述的鍍膜設備，其特征在于，所述鍍膜腔為真空鍍膜腔。
8.如權利要求6所述的鍍膜設備，其特征在于，所述鍍膜腔內(nèi)進一步設有至少一個電子束發(fā)射源，用于發(fā)射電子使所述膜料蒸發(fā)源中的膜料蒸發(fā)。
9.如權利要求8所述的鍍膜設備，其特征在于，所述鍍膜腔內(nèi)還設有一個電磁場，用于對所述電子束發(fā)射源產(chǎn)生的電子束加速和偏轉(zhuǎn)。
10.一種鍍膜方法，將基板夾緊在基板支架上，該基板支架裝在一個內(nèi)設有膜料蒸發(fā)源的容器中，其特征在于在鍍膜過程中不斷改變基板與膜料蒸發(fā)源產(chǎn)生的蒸汽流之間的夾角。
11.如權利要求10所述的鍍膜方法，其特征在于，在鍍膜過程中，所述基板支架能夠沿垂直于基板的厚度方向往復移動。
12.如權利要求10所述的鍍膜方法，其特征在于，在鍍膜過程中，所述基板支架能夠沿其中心軸做對稱性旋轉(zhuǎn)。
全文摘要
本發(fā)明提供一種鍍膜用基板支架、鍍膜設備及一種鍍膜方法。所述鍍膜設備包括一個鍍膜腔；一個用于設置基板的基板支架；及至少一個膜料蒸發(fā)源。所述基板支架和膜料蒸發(fā)源都設于鍍膜腔中。所述基板支架能夠在一定角度范圍內(nèi)擺動，以在鍍膜過程中改變基板與所述膜料蒸發(fā)源發(fā)出的蒸汽流之間的夾角。所述鍍膜方法在鍍膜過程中不斷改變基板與膜料蒸發(fā)源產(chǎn)生的蒸汽流之間的夾角。所述鍍膜設備及其鍍膜方法在鍍膜過程中能不斷改變基板與所述膜料蒸發(fā)源發(fā)出的蒸汽流之間的夾角，使得光學薄膜光學性能基本各向同性，從而提高光學薄膜的光學性能。
文檔編號C23C14/54GK101041889SQ200610034599
公開日2007年9月26日 申請日期2006年3月21日 優(yōu)先權日2006年3月21日
發(fā)明者陳杰良 申請人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司