專利名稱：具有彈性膜的多區(qū)域承載體的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明有關(guān)一種具有一彈性膜的化學(xué)機(jī)械研磨承載體，及其相關(guān)方法。
背景技術(shù)：
集成電路通常是借著一連串導(dǎo)電層、半導(dǎo)體層或絕緣層的沉積步驟而形成于基材上，特別是硅晶片上。在沉積了每一膜層之后，會蝕刻該些膜層以產(chǎn)生出電路特征。當(dāng)連續(xù)沉積且蝕刻一系列的膜層時，基材的暴露表面會漸漸變得不平坦。而此不平坦表面會在集成電路制程的光微影步驟中造成問題。因此，需要周期性地平坦化該基材表面。
化學(xué)機(jī)械研磨(chemical mechanical polishing，CMP)是一種已被接受的平坦化方法。此種平坦化方法通常要求將基材安置在一承載體或研磨頭上，并使該基材的暴露表面緊靠一移動的研磨表面，例如一旋轉(zhuǎn)研磨墊。該研磨墊可以是一個具有一耐用粗糙表面的「標(biāo)準(zhǔn)」研磨墊，或是一個在包含介質(zhì)中固定有研磨劑顆粒的「固定式研磨劑(fixed-abrasive)」研磨墊。承載體提供基材一個可控制的負(fù)荷，以推擠基材使其緊靠研磨墊。而用來提供研磨顆粒的研磨漿料則被供應(yīng)至研磨墊的表面上。
某些承載體包含一個具有一放置表面(mounting surface)的彈性膜，用以接受基材。該彈性膜后方的腔室被加壓，造成該彈性膜向外擴(kuò)張而對該基材施加負(fù)荷。多種承載體亦可包含一個環(huán)繞基材的定位環(huán)(retaining ring)，例如用來將基材固定在位于該彈性膜下方的承載體中。某些承載體包含復(fù)數(shù)個腔室，以對基材的不同區(qū)域提供不同的壓力。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的一方面是關(guān)于一種用于機(jī)材的化學(xué)機(jī)械研磨的承載體，該承載體包含一基底與一個延伸在基底下方的彈性膜。該彈性膜包括一個具有一外表面的中心部位，以提供一基材接收表面；一邊緣部位，以連接該中心部位與該基底；以及至少一個由該中心部位的內(nèi)表面延伸出的褶板。該褶板將彈性膜與基底之間的容積分割成數(shù)個腔室，且該褶板包括一個橫向延伸的第一部位與一個彎曲的第二部位(an angled second section)。該彎曲的第二部位延伸在該第一部位的下方，且將該橫向延伸的第一部位連接至該中心部位。
本發(fā)明的實(shí)施例可包含一或多個下述特征。該第一部位可以水平的方式伸展。該第二部位可具有一水平加載區(qū)(horizontal loading area)，并設(shè)計該水平加載區(qū)的大小，使其足以作用掉該第一部位上的一部份的向下力，該向下力是由位在該彈性膜與該基底之間的腔室壓力所產(chǎn)生出來，而非由該基底的作用產(chǎn)生。該第二部位可具有一個約為二分之一該第一部位的大小的水平加載區(qū)。該褶板的第二部位對該中心部位的一接觸點(diǎn)，可垂直對齊于介于該第一部位與該基底的接觸點(diǎn)及該第一部位與該第二部位的接觸點(diǎn)之間的該第一部位的中點(diǎn)。該邊緣部位可直接連接至該基底。一定位環(huán)可能環(huán)繞著位在該基材接收表面上的一基材。該第一部位可作垂直移動，如此一來，施加至一基材上的壓力行程(pressure profile)才不受定位環(huán)磨損影響。彈性膜可包括多個褶板，每個褶板包含一個橫向延伸的第一部位，以及一個彎曲且延伸在該第一部位下方的第二部位?？梢原h(huán)狀且同心的方式來安置該些褶板，且可設(shè)計該些褶板以提供三個獨(dú)立壓力腔室。該第一部位及該第二部位約具有相同的剛性(rigidity)，或該第二部位的剛性可能較該第一部位更高。該第一部位與該第二部位可能具有相同的厚度，或是該第二部位可能較該第一部位的厚度更厚。該褶板可能包含一個垂直的第三區(qū)域，其位于該橫向延伸的第一部位與該彎曲的第二部位之間，及/或包含一個垂直的第四區(qū)域，該第四區(qū)域位于該彎曲的第二部位與該中心部位之間。一角度α介于該橫向延伸的第一部位與該彎曲的第二部位之間，其角度可能介于20°與80°之間，例如約為45°。該些多個腔室可能提供可獨(dú)立調(diào)整的壓力至相關(guān)的該基材接收表面的多個區(qū)域上，且可架構(gòu)該彈性膜，以在相鄰區(qū)域內(nèi)的不同壓力之間提供一致的變化(uniform transition)。
本發(fā)明的另一方面是有關(guān)一種用于基材的化學(xué)機(jī)械研磨的承載體。該承載體包括一基底與一個延伸在該基底下方的彈性膜，以提供一基材接收表面且定義出多個腔室，該些腔室是用來將可獨(dú)立調(diào)整的壓力提供至該基材接收表面的相關(guān)的多個區(qū)域。該彈性膜是設(shè)計成用以在相鄰區(qū)域內(nèi)的不同壓力之間提供一實(shí)質(zhì)相同的變化。
本發(fā)明的實(shí)行可包含一或多種下述特征。
可設(shè)計該彈性膜的形狀以在相鄰區(qū)域內(nèi)的不同壓力之間提供一個實(shí)質(zhì)呈單調(diào)性的變化。該彈性膜包括一個具有一外表面的中心部位，以提供一基材接收表面；一個連接該中心部位至該基底的邊緣部位；以及至少一個由中心部位的內(nèi)表面延伸出的褶板。該褶板將彈性膜與基底之間的容積分割成數(shù)個腔室，且該褶板包括一個橫向延伸的第一部位與一個彎曲的第二部位。該彎曲的第二部位延伸在該第一部位的下方，且連接該橫向延伸的第一部位至該中心部位。該第二部位可能具有一水平加載區(qū)，并設(shè)計該水平加載區(qū)的大小，使其足以作用掉該第一部位上的一部份的向下力，，該向下力是由其中一個該些腔室內(nèi)的壓力所產(chǎn)生出來，而非由該基底作用而產(chǎn)生。該第二部位可具有一個約為二分之一該第一部位的大小的水平加載區(qū)。該褶板的第二部位對該中心部位的一接觸點(diǎn)，可垂直對齊于介于該第一部位與該基底的接觸點(diǎn)及該第一部位與該第二部位的接觸點(diǎn)之間的該第一部位的中點(diǎn)。
本發(fā)明又一方面是有關(guān)一種與基材化學(xué)機(jī)械研磨設(shè)備的承載體搭配使用的彈性膜。該彈性膜包括一個中心部位，其具有一個用來提供一基材接受表面的外表面；一邊緣部位，用來連接該中心部位至該承載體的基底；以及至少一個由該中心部位的內(nèi)表面延伸出的褶板。該褶板包含一橫向延伸的第一部位，及一個延伸在該第一部位下方的彎曲的第二部位。
本發(fā)明的另一方面是有關(guān)一種研磨基材的方法。該方法包括將一基材安置在一化學(xué)機(jī)械研磨設(shè)備的一承載體上，使得該基材的第一面鄰接該承載體，并利用一研磨墊與相對于該基材的第一面的第二面接觸，以研磨該基材；以及對多個腔室施加不同壓力，以在基材上創(chuàng)造出具有不同壓力的區(qū)域。該承載體包含一基底部分、一定位環(huán)及一彈性膜，該彈性膜提供一個基材放置表面并定義出多個腔室。該彈性膜可被設(shè)計成可在相鄰區(qū)域內(nèi)的不同壓力之間提供一致的變化。
本發(fā)明的另一方面是有關(guān)一種彈性膜的褶板的運(yùn)作方法。該褶板連接于一承載體與用來提供一基材接收表面的該彈性膜的中心部位之間。該方法包括在腔室之間提供一壓力差，以作用在該褶板的不同面上；允許該褶板的一水平部位作垂直方向的偏移；以及借由壓力差而產(chǎn)生一垂直作用力作用在該褶板上。
實(shí)施本發(fā)明可獲得下述的優(yōu)點(diǎn)?？傮w而言，可設(shè)計該彈性膜的形狀，以在相鄰的可加壓腔室(pressurizable chamber)或區(qū)域的邊界上的不同壓力之間，提供較一致的變化(例如單調(diào)性的升高或降低)。特別是，該彈性膜可被設(shè)計成能降低或消除該些發(fā)生在用來分隔腔室的彈性褶板與用來提供一基材接收表面的該彈性膜中心部位的結(jié)合處的壓力尖突現(xiàn)象(pressure spikes)。結(jié)果是，借著適當(dāng)選擇該些腔室中的壓力來補(bǔ)償研磨速率的變異及所得基材膜層厚度的變異，使得在完成研磨程序后，經(jīng)本發(fā)明的具有彈性膜的承載體研磨后的基材具有較佳的平坦度。此外，亦可設(shè)計該彈性膜，使得借由一化學(xué)機(jī)械研磨設(shè)備的承載體所施加的壓力能對定位環(huán)磨損較不敏感。
于附圖及下述內(nèi)容中記載有本發(fā)明的一或多個實(shí)施例的細(xì)節(jié)?？筛鶕?jù)該些敘述內(nèi)容、附圖及申請專利范圍來了解本發(fā)明的其他特征與優(yōu)點(diǎn)。


圖1為一個包含一彈性膜的承載體的剖面圖。
圖2為圖1的承載體的局部放大圖。
圖3為一示意圖，顯示數(shù)個施力作用至彈性膜上。
各圖中的標(biāo)號是對應(yīng)至相關(guān)元件。
具體實(shí)施例方式
如上所述，部分承載體包含一個用以提供基材一放置表面的彈性膜。此外，部分承載體包含復(fù)數(shù)個腔室位在該彈性膜后方。每一個腔室可獨(dú)立加壓，以使該彈性膜向外延伸，而對該基材的不同區(qū)域上施加不同的負(fù)荷。
不幸的是，在某些彈性膜的設(shè)計中，在不同區(qū)域間的過渡區(qū)上的壓力分布并不均勻一致。特別是，該些膜的外型設(shè)計可能造成區(qū)域間的邊界上的壓力尖突。壓力尖突可能在研磨行程(polishing profile)中產(chǎn)生不想要的非均勻性(non-uniformity，或不一致性)。因此，一種在鄰接且可獨(dú)立加壓的區(qū)域之間具有較均勻壓力變化的承載體是有用的。
參考圖1，是利用一個具有一承載體100的化學(xué)機(jī)械研磨設(shè)備來研磨一個或多個基材10。并可在美國專利案5,738,574號中找有關(guān)適合的CMP設(shè)備的敘述，且將其全文納入此處以供參考。
承載體100包含一個基底組合物104(其可直接或間接地連接至一旋轉(zhuǎn)驅(qū)動軸74)、一定位環(huán)110以及一彈性膜108。彈性膜108延伸在該基底104下方，且與該基底104連接，以提供多個可加壓腔室。該些腔室包括一環(huán)狀內(nèi)腔室106a、一同心環(huán)狀中間腔室106b以及一同心環(huán)狀外腔室106c。通道112a、112b與112c形成于該基底組合物中且貫穿該基底組合物，以分別與該些腔室106a、106b與106c作流體性耦合，以對該研磨設(shè)備中的調(diào)控裝置(regulator)施壓。雖然圖1顯示三個腔室，但該承載體所具有的腔室數(shù)目亦可為兩個或四個。
雖然該承載體的結(jié)構(gòu)已如圖所示，但該承載體可包括其他元件，例如一個固定至該驅(qū)動軸的收納室，且該基底104可活動性地自該收納室中脫離；或是具有一個平衡頭機(jī)構(gòu)(gimbal mechanism，其可能被認(rèn)為是該基底組合物的一部份)也允許基底104作旋轉(zhuǎn)運(yùn)動；又或是具有一負(fù)荷腔室位在該基底與該收納室之間、一或多個支撐結(jié)構(gòu)位在該些腔室106a-c中，或一或多個與彈性膜108的內(nèi)表面接觸的內(nèi)膜(internal membrane)以對該基材施加一支撐壓力等。例如，可如美國專利案6,183,354號、美國專利申請案09/712,389號(于1999年12月23日申請)或如美國專利申請案09/470,820號(于200年11月13日申請)中所述那樣設(shè)計該承載體100，且上述文獻(xiàn)的整體內(nèi)容均納入本文以供參考。
彈性膜108是由一種具彈性與伸縮性的流體不滲透性材料(fluid-impermeable material)所形成，例如氯丁(neoprene)、氯丁二烯(chloroprene)、乙烯-丙烯(ethylene propylene)橡膠或硅膠等。例如，該彈性膜108可由模壓成型硅膠或液態(tài)射出成型硅膠所形成。
對于研磨程序來說，彈性膜108需為疏水性、耐用且化學(xué)惰性的。彈性膜可包含一個中心部位120、一環(huán)狀邊緣部位124與一個或多個環(huán)狀同心內(nèi)褶板(concentric annular inner flaps)128a與128b，其中該中心部位120具有一外表面以提供基材一放置表面122，該環(huán)狀邊緣部位由該研磨表面向外延伸以連接至基底104，同心環(huán)狀內(nèi)褶板128a與128b是從該中心部位120的內(nèi)表面126向外延伸，并連接至基底104，以將介于該彈性膜108與該基底104之間的容積分割成多個可獨(dú)立加壓的腔室106a-c?？衫铆h(huán)狀夾環(huán)114(annular clamp ring)將褶板128a與128b的末端固定于基底104，并可將環(huán)狀夾環(huán)114視為基底104的一部份。亦可利用環(huán)狀夾環(huán)116將邊緣部位124的末端固定于基底104上，而夾環(huán)116同樣可被視為是基底104的一部份，或是將邊緣部位的末端夾在定位環(huán)與基底之間。雖然以如圖1所示地顯示出兩個褶板128a與128b，然而承載體100可僅包含一個褶板，或包含三個或更多的褶板。
彈性膜108的中心部位120可如美國專利案6,210,255所討論的內(nèi)容那樣包含一彈性邊緣部位(flexible lip portion)。
參考圖2，每個內(nèi)褶板(如褶板128a)包含一個水平的上方部位140(upperportion)以及一個彎曲延伸部位142(angled extension portion)，該彎曲伸展部位142連接該水平部位140至該中心部位120。
水平部位140具有一個固定在基底140上的末端144，例如利用夾環(huán)114將其固定在基底104上。彎曲部位142往回彎折而鄰近該水平部位140，使得介于該水平部位140與該彎曲部位142之間的ㄇ形角度呈現(xiàn)銳角，而非鈍角。該形角度可介于20°至80°之間，例如約為45°。特別是，可設(shè)計該彈性膜108，以使彎曲部位142與中心部位120的內(nèi)表面126結(jié)合的點(diǎn)垂直對齊于該水平部位140的中點(diǎn)(如圖中虛線所示)，例如從水平部位固定在基底104上的位置到水平部位與該彎曲部位142連接處的一半距離。
通常，彎曲部位142可具有一加載區(qū)，以作用掉該水平部位140上的一部份的向下力，該向下力是由腔室106a中的壓力所產(chǎn)生，而非由基底104所作用出來，且關(guān)于此點(diǎn)，于下方內(nèi)容中有更詳細(xì)的描述。因此，彎曲部位142的大小可能為水平部位140的加載區(qū)的大小的一半(可借著將彎曲部位142投射至一水平平面上來決定該彎曲部位142的負(fù)載區(qū)的大小)。
該褶板可能包括短的垂直部位150與152，其分別位于該彎曲部位142與該水平部位140及/或該中心部位120之間。
彎曲部位142與水平部位140兩者的厚度可相等，并可由相同材料來制造兩者，使其具有相同的剛性。
或可制造該彎曲部位142，使其剛性大于該水平部位140。彎曲部位142可較該水平部位140的厚度更厚，例如其厚度較該水平部位再多增加50％至100％的厚度。例如，水平部位140的厚度可約為20密耳(mils)，而該彎曲部位142可具有約為30至40密耳的厚度。此外(亦或者)，形成彎曲部位的材料可與形成水平部位的材料不同?；蚴菑澢课豢珊幸话裨?embedded element)或與一襯墊層(backing layer)結(jié)合，以增加該彎曲部位的剛性。通常在此種實(shí)施例中，可借著彎曲該水平部位140來造成一主要的垂直偏移，而彎曲部位142則可扮演一隔片(spacer)的角色，以隔離該中心部位120與該基底104。
參考圖3，一腔室(如內(nèi)腔室106a)內(nèi)的壓力會施加一向下力FD作用在該水平部位140上，以及施加一向外力FO作用在該彎曲部位142上。該向外力FO可分解成一向上力FU以及一水平力FH。假設(shè)該彎曲部位142的加載區(qū)的大小約為該水平部位的加載區(qū)大小的二分之一，那么向上力FU的大小則約為該向下力FD的一半。此外，約二分之一的向下力FD是由基底本身所提供，因此作用在該褶板128a的凈垂直作用力為零。所得結(jié)果是，褶板128a將不會向下或向上推擠該中心部位120，且因此該折板128a不會引導(dǎo)一壓力尖突作用在折板與中心部位接合的位置上。結(jié)論是，鄰接區(qū)域之間(例如由腔室106a與腔室106b所形成的區(qū)域之間)的變化將會較為均勻一致，例如在區(qū)域之間的整個邊界上的壓力呈現(xiàn)單調(diào)性地升高或降低。
當(dāng)定位環(huán)110磨損時，折板128a-128c至該基底104的接觸點(diǎn)會朝研磨墊靠近。然而，水平部位140能有效地順應(yīng)定位環(huán)的磨損而作調(diào)整，而使施加在基材上的壓力實(shí)質(zhì)不變。
不似彈性膜的其他部位，邊緣部位124較不需順應(yīng)上述變化而作變形。例如，邊緣部位124可相對較厚于中心部位120或褶板部位128a與128b?；蛘?，可使用剛性較該彈性膜其他部位材質(zhì)的剛性更高的材料來形成邊緣部位124，該些剛性較高的材料可包括如強(qiáng)化材料(reinforce materials)，又或是使該些材料繞在一支撐或墊片結(jié)構(gòu)上而延展，以避免變形?；蛉?003年4月7號申請的美國專利申請案10/409,637號中所敘述的，邊緣部位可能包含一撓性部分(flexure)，并將此參考文獻(xiàn)的全體揭示內(nèi)容納入此處以作參考。
本發(fā)明的數(shù)個較佳實(shí)施例以揭示如上。然而需明白在不偏離本發(fā)明精神與范圍下，可作各種修改或變化。例如，該彈性膜可固定在承載體上的不同位置，例如可被固定在定位環(huán)與基底之間，或被固定在定位環(huán)上。褶板的水平部位可向外延伸，而非向內(nèi)延伸。彈性膜可附著在一或多個懸置或安放在腔室內(nèi)的支撐結(jié)構(gòu)上。彈性膜可以一體成形的方式來制造，或由多個薄膜接合而成，例如利用一黏著劑來接合多片薄膜以形成一彈性膜。此外，彈性膜的邊緣部位可直接連接至基底，例如邊緣部位可被連接在一剛硬的支撐結(jié)構(gòu)上，隨后可借著如一個撓性部分將該剛硬的支撐結(jié)構(gòu)連接至基底。再者，需明白到，即使是彈性膜的特定造型對于定位環(huán)磨損的敏感性確實(shí)降低，但該彈性膜的形狀結(jié)構(gòu)可能仍然有用。例如，承載體所具有的定位環(huán)無法接觸到研磨墊，甚至根本不具有定位環(huán)時，該彈性膜的結(jié)構(gòu)仍能發(fā)揮如上述的作用。又再者，「水平(horizontal)」與「垂直(vertical)」的用詞是指該彈性膜的組件相對應(yīng)于基材接收表面的位置，因此當(dāng)承載體的位向隨著基材上方的研磨表面或隨著一垂直研磨表面而變動時，本發(fā)明仍可套用于該些情況中。故其他較佳實(shí)施例仍為本發(fā)明范圍所涵蓋。
權(quán)利要求
1.一種用于基材的化學(xué)機(jī)械研磨的承載體，該承載體包括一基底；以及一彈性膜延伸在該基底下方，該彈性膜包括一中心部位、一邊緣部位及至少一褶板，該中心部位具有一外表面以提供一基材接受表面，該邊緣部位連接該中心部位至該基底，該褶板由該中心部位的一內(nèi)表面延伸出，該褶板將位在該彈性膜與該基底之間的一容積劃分成復(fù)數(shù)個腔室，該褶板包括一橫向延伸第一部位與一彎曲第二部位，該第二部位延伸在該第一部位下方且連接該橫向延伸第一部位至該中心部位。
2.如權(quán)利要求1所述的承載體，其特征在于該第一部位是水平地延伸。
3.如權(quán)利要求1所述的承載體，其特征在于該第二部位具有一水平加載區(qū)，該水平加載區(qū)的大小足以作用掉該第一部位上的一部份的向下力，該向下力是由位在該彈性膜與該基底之間一腔室中的壓力所產(chǎn)生，而非由該基底所產(chǎn)生。
4.如權(quán)利要求1所述的承載體，其特征在于該第二部位具有一水平加載區(qū)，其大小約為該第一部位大小的二分之一。
5.如權(quán)利要求1所述的承載體，其特征在于該褶板的第二部位對該中心部位的一接觸點(diǎn)是垂直對齊于介于該第一部位與該基底的接觸點(diǎn)及該第一部位與該第二部位的接觸點(diǎn)之間的該第一部位的中點(diǎn)。
6.如權(quán)利要求1所述的承載體，其特征在于該邊緣部位是與該基底直接連接。
7.如權(quán)利要求1所述的承載體，其特征在于該彈性膜包括復(fù)數(shù)個環(huán)狀同心褶板，每一個該些褶板包括一橫向延伸第一部位；以及延伸在該第一部位下方的一彎曲第二部位。
8.如權(quán)利要求1所述的承載體，其特征在于該第二部位具有一厚度，該厚度約相等或大于該第一部位的厚度。
9.如權(quán)利要求1所述的承載體，其特征在于該第二部位的剛性相等或大于該第一部位的剛性。
10.如權(quán)利要求1所述的承載體，其特征在于該褶板包括一垂直部位，位在該橫向延伸第一部位與該彎曲第二部位之間。
11.如權(quán)利要求1所述的承載體，其特征在于該褶板包括一垂直部位，位在該彎曲第二部位與該中心部位之間。
12.如權(quán)利要求1所述的承載體，其特征在于一角度α介于該橫向延伸第一部位與該彎曲第二部位之間，且該角度α的范圍介于20°至80°之間。
13.如權(quán)利要求12所述的承載體，其特征在于該角度α約為45°。
14.一種用于基材化學(xué)機(jī)械研磨的承載體，其包括一基底；以及一彈性膜，該彈性膜延伸在該基底下方，以提供一基材接受表面且定義出復(fù)數(shù)個腔室，該些腔室提供可獨(dú)立調(diào)整的壓力至與該基材接收表面相關(guān)的復(fù)數(shù)個區(qū)域，該彈性膜是被設(shè)計成用來在鄰接區(qū)域內(nèi)的不同壓力之間提供一致變化。
15.如權(quán)利要求14所述的承載體，其特征在于該彈性膜是被設(shè)計成用來在相鄰區(qū)域內(nèi)中的不同壓力之間提供一單調(diào)性變化。
16.如權(quán)利要求14所述的承載體，其特征在于該彈性膜包括一中心部位、一邊緣部位及至少一褶板，該中心部位具有一外表面以提供一基材接受表面，該邊緣部位連接該中心部位與該基底，該褶板由該中心部位的一內(nèi)表面延伸出，該褶板將位在該彈性膜與該基底之間的一容積劃分成復(fù)數(shù)個腔室，該褶板包括一橫向延伸第一部位與一彎曲第二部位，該第二部位延伸在該第一部位下方且連接該橫向延伸第一部位至該中心部位。
17.一種可與一基材化學(xué)機(jī)械研磨設(shè)備的一承載體并用的彈性膜，該彈性膜包括一中心部位，其具有一外表面，以提供一基材接收表面；一邊緣部位，用來連接該中心部位至該承載體的基底；以及至少一褶板，由該中心部位的一內(nèi)表面延伸出來，該褶板包括一橫向延伸第一部位以及延伸在該第一部位下方的一彎曲第二部位。
18.一種研磨基材的方法，包括放置一基材在一化學(xué)機(jī)械研磨設(shè)備的一承載體上，使該基材的第一面鄰接該承載體，該承載體包括一基底部位、一定位環(huán)及一彈性膜，該彈性膜提供該基材一放置表面且定義出復(fù)數(shù)個腔室；施加不同壓力至該些腔室，以在該基材上產(chǎn)生出具不同壓力的復(fù)數(shù)個區(qū)域；以及利用一研磨墊接觸該基材的一第二面來研磨該基材，該第二面是位在該基材的第一面的對側(cè)上；其中該彈性膜是被設(shè)計成用來在鄰接區(qū)域內(nèi)的不同壓力之間提供一致變化。
19.一種操作一彈性膜的褶板的方法，該褶板被連接在一承載體與該彈性膜的一中心部位之間并可提供一基材接收表面，該方法包括在復(fù)數(shù)個腔室之間產(chǎn)生一壓力差，以作用于該褶板的不同面上；允許該褶板的一水平部位作垂直偏移；以及將由該壓力差在該褶板上所造成的一垂直作用力加以作用掉。
全文摘要
一種用于基材的化學(xué)機(jī)械研磨程序的承載體(carrier head，或稱承載頭)，其包括一基底與一個延伸在基底下方的彈性膜。該彈性膜包括一個具有一外表面的中心部位，以提供一基材接收表面；一邊緣部位，以連接該中心部位與該基底；以及至少一個由該中心部位的內(nèi)表面延伸出的褶板。該褶板將彈性膜與基底之間的容積分割成數(shù)個腔室，且該褶板包括一個橫向延伸的第一部位與一個彎曲的第二部位，該彎曲的第二部位延伸在該第一部位的下方，且連接該橫向延伸的第一部位至該中心部位。
文檔編號C23F1/00GK1697153SQ200510060159
公開日2005年11月16日 申請日期2005年3月25日 優(yōu)先權(quán)日2004年3月26日
發(fā)明者陳琿馳, 吳鐘鉉, 茨辛·修, 托馬斯·布雷佐斯基, 史蒂文·M·蘇尼加 申請人:應(yīng)用材料股份有限公司