專利名稱：一種去除納米氧化鋁模板背面鋁層的裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及去除納米氧化鋁模板背面鋁層的裝置。
背景技術(shù)：
自氧化鋁模板問(wèn)世以來(lái)，去鋁層過(guò)程一直是其制備過(guò)程中最難于控制的一步。美國(guó)《應(yīng)用物理快訊》(Appl.Phys.Lett.，1997年，第71卷，第2770頁(yè)；及2000年，第76卷，第2011頁(yè))提到，傳統(tǒng)去鋁層的方法，是將模板漂浮在氯化汞溶液表面(有時(shí)需借助紅外燈的烘烤)，鋁層接觸液面，直至整個(gè)鋁層都與汞置換。這種方法存在兩大弊病一是被鋁還原出來(lái)的汞有劇毒，不便操作；二是氯化汞溶液將模板周圍的鋁環(huán)也一起除去，使得模板周圍沒(méi)有堅(jiān)固的一圈鋁環(huán)做載體，不易保存和對(duì)其進(jìn)行下一步操作。中國(guó)專利申請(qǐng)?zhí)?1113724提出的《去除納米氧化鋁模板背面剩余鋁的方法》，將模板直接浸入活性低于鋁的金屬氯化物飽和溶液中來(lái)除去模板的鋁層。這種方法模板浸入溶液的時(shí)間不易控制，且周圍鋁環(huán)同樣容易一起被除去；即使控制時(shí)間得當(dāng)且周圍鋁環(huán)未完全置換，模板與鋁環(huán)也容易分離，而且周圍鋁環(huán)變得很薄、表面變得粗糙，不便對(duì)其進(jìn)行下一步的操作。
技術(shù)內(nèi)容本實(shí)用新型提供一種去除納米氧化鋁模板背面鋁層的裝置，可以快速便捷地去除納米氧化鋁模板背面中心鋁層，而對(duì)周邊的鋁環(huán)沒(méi)有影響。
這種去除納米氧化鋁模板背面鋁層的裝置，其特征在于，由中空柱體、墊圈、墊片和底座依次疊接而成；所述中空柱體的下部為帶有外螺紋的中空接口，螺帽形底座內(nèi)壁為與中空柱體接口外螺紋相配合的內(nèi)螺紋，螺帽形底座的內(nèi)底為開(kāi)有小孔的平面；墊片、氧化鋁模板與墊圈自下至上依次疊于柱體接口和底座內(nèi)底平面之間。
使用時(shí)，將氧化鋁模板置于墊片和墊圈之間，將螺帽形底座與中空柱體之間的螺紋接口調(diào)節(jié)到松緊適當(dāng)，使之既不漏液，又不壓壞模板；將去鋁溶液注入中空柱體中保持適當(dāng)時(shí)間，直至將納米氧化鋁模板背面的鋁層去除，將中空柱體5中的溶液倒出，擰開(kāi)裝置將中空柱體和螺帽形底座分離，用條狀物通過(guò)底座小孔將橡膠墊片、氧化鋁模板和橡膠墊圈輕輕頂出；取出的模板用蒸餾水沖洗后，置于烘箱中，在低于60℃下烘干。
由于本實(shí)用新型裝置在螺帽形底座與中空柱體之間采用內(nèi)、外螺紋相配合的接口，可將墊片、氧化鋁模板、墊圈之間調(diào)節(jié)到松緊適當(dāng)，使之既不漏液，又不壓壞模板；將模板置于墊片和墊圈之間，既減小了機(jī)械應(yīng)力對(duì)模板的損傷，又避免了溶液與模板周圍的鋁環(huán)反應(yīng)，使鋁環(huán)保存了原始鋁片的厚度和平整的表面；這樣也就可不必十分嚴(yán)格地控制模板與溶液接觸的時(shí)間，解決了現(xiàn)有技術(shù)中時(shí)間難于控制的問(wèn)題；而氧化鋁模板的背面則與去鋁溶液浸潤(rùn)，使去鋁反應(yīng)均勻進(jìn)行；墊圈的內(nèi)孔形狀和大小決定了去除鋁層的形狀和大小，從而使去除模板背面鋁層的大小和形狀可控；底座的底面開(kāi)的小孔，是為了在去鋁過(guò)程結(jié)束后，可以用條狀物通過(guò)這小孔將橡膠墊片和模板輕輕頂出。本實(shí)用新型裝置構(gòu)思巧妙，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，可用來(lái)方便、快速、有效地去除納米氧化鋁模板背面中心鋁層，而對(duì)周邊的鋁環(huán)沒(méi)有影響，采用本實(shí)用新型裝置去除背面鋁層后的納米氧化鋁模板，其周圍鋁環(huán)可以充當(dāng)很好的載體和電極。


圖1為本實(shí)用新型去除納米氧化鋁模板背面鋁層的裝置的配置示意圖。
圖2是利用本實(shí)用新型裝置去除背面鋁層后的納米氧化鋁模板圖。
具體實(shí)施方式
實(shí)施例1首先，按圖1所示的配置示意圖，根據(jù)欲去除背面鋁層的納米氧化鋁模板形狀尺寸，設(shè)計(jì)、組裝去除納米氧化鋁模板背面鋁層的裝置中空柱體5和螺帽形底座1均采用不與去鋁溶液反應(yīng)的材料，如塑料、銅、有機(jī)玻璃或聚四氟乙烯等做成。欲去除一片外徑24mm，原始鋁片厚0.2mm，模板部分厚0.06mm的氧化鋁模板背面的鋁層，得到中心直徑10mm的氧化鋁模板，中空柱體5可以采用一塊高60mm、直徑40mm的圓柱形材料，上部做成高40mm，內(nèi)徑30mm的圓筒，下部做成內(nèi)徑10mm，外徑25mm，高15mm帶有外螺紋的中空接口；螺帽形底座1用一塊高25mm、直徑40mm的圓柱形材料，上部做成內(nèi)徑25mm、高20mm帶有內(nèi)螺紋的接口，底平面開(kāi)一直徑15mm的孔；墊圈4和墊片2采用橡膠等較軟材料，分別做成外徑24mm、厚3mm的圓片和外徑24mm、內(nèi)徑10mm、厚3mm的圓環(huán)。將墊片2、氧化鋁模板3與墊圈4自下至上依次疊放于底座1內(nèi)的底平面上，鋁層朝上；將裝置柱體5與底座1之間的螺紋擰到松緊適度，使之既不漏液，又不壓壞模板。模板置于墊片和墊圈之間，既減小了機(jī)械應(yīng)力對(duì)模板的損傷，又避免了溶液與模板周圍鋁環(huán)反應(yīng)，可使鋁環(huán)保存原始鋁片的厚度和平整的表面。
取1M CuCl2和0.1M HCl混合去鋁溶液5～15ml注入中空柱體5中，去鋁溶液的用量與欲去除鋁層的體積成正比；氧化鋁模板的背面與去鋁溶液浸潤(rùn)，使去鋁反應(yīng)均勻進(jìn)行；根據(jù)本實(shí)施例中的模板和去鋁溶液的情況，5分鐘后納米氧化鋁模板背面的鋁層已去除完成，此時(shí)將中空柱體5中的溶液倒出，慢慢擰開(kāi)裝置將中空柱體5和螺帽形底座1分離，用手指或條狀物通過(guò)底座小孔將橡膠墊片、氧化鋁模板和橡膠墊圈輕輕頂出。取出的模板用蒸餾水沖洗后，置于烘箱中，在低于60℃下烘干。處理后的氧化鋁模板如圖2所示，可以看出，中心模板7形狀圓潤(rùn)，周圍鋁環(huán)6具有原始鋁片的厚度，表面光滑平整，而且中心模板與周圍鋁環(huán)結(jié)合緊密，與用現(xiàn)有方法去除鋁層地模板相比，強(qiáng)度大大增加，便于保存和進(jìn)行下一步操作。
采用本實(shí)用新型裝置，可有效地去除納米氧化鋁模板背面中心鋁層，而對(duì)周邊的鋁環(huán)沒(méi)有影響，去除背面鋁層后的納米氧化鋁模板，其周圍鋁環(huán)可以充當(dāng)很好的載體和電極。
權(quán)利要求1.一種去除納米氧化鋁模板背面鋁層的裝置，其特征在于，由中空柱體、墊圈、墊片和底座依次疊接而成；所述中空柱體的下部為帶有外螺紋的中空接口，螺帽形底座內(nèi)壁為與中空柱體接口外螺紋相配合的內(nèi)螺紋，螺帽形底座的內(nèi)底為開(kāi)有小孔的平面；墊片、氧化鋁模板與墊圈自下至上依次疊于柱體接口和底座內(nèi)底平面之間。
專利摘要本實(shí)用新型去除納米氧化鋁模板背面鋁層的裝置，特征是在螺帽形底座與中空柱體之間采用內(nèi)、外螺紋相配合的接口，墊片、氧化鋁模板與墊圈自下至上依次疊于柱體接口和底座內(nèi)底平面之間，底座的內(nèi)底面開(kāi)有小孔；使用時(shí)，將螺紋接口調(diào)節(jié)到松緊適當(dāng)，將去鋁溶液注入中空柱體中，保持適當(dāng)時(shí)間至將模板背面的鋁層去除；通過(guò)底座小孔可將橡膠墊片和模板頂出。利用本裝置可快速便捷的去除納米氧化鋁模板背面中心的鋁層，而避免溶液與模板周圍鋁環(huán)反應(yīng)；利用本裝置去除背面鋁層后的納米氧化鋁模板，其周圍鋁環(huán)可以充當(dāng)很好的載體和電極。
文檔編號(hào)C23F1/08GK2736371SQ200420080270
公開(kāi)日2005年10月26日 申請(qǐng)日期2004年10月12日 優(yōu)先權(quán)日2004年10月12日
發(fā)明者賈沖, 姚連增, 蔡維理, 李曉光 申請(qǐng)人:中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué)