專利名稱：雙面濺射真空卷繞連續(xù)鍍膜設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及采用物理氣相沉積技術(shù)，用真空磁控濺射方法，在各種柔性基材上連續(xù)沉積鎳或其他金屬薄膜的設(shè)備，特別是一種雙面濺射真空卷繞連續(xù)鍍膜設(shè)備。
背景技術(shù)：
以前電池行業(yè)和電子材料行業(yè)中，在柔性基材上，如網(wǎng)狀聚氨脂泡沫塑料、化纖織物、聚酰亞胺薄膜、聚四氟薄膜鍍上鎳或其他金屬，如銅、不銹鋼、鈦、銀等，使其成為導(dǎo)電體多采用化學(xué)的方法，稱之濕法，它工藝復(fù)雜，不利于環(huán)境保護(hù)，勞動(dòng)條件也不好。為了解決上述問題，近幾年來，一種采用物理氣相沉積技術(shù)，用真空磁控濺射方法，在各種柔性基材上連續(xù)沉積鎳或其他金屬薄膜的設(shè)備開始投入使用。這種設(shè)備鍍制的金屬膜致密性好，厚度均勻，結(jié)合牢固，采用此設(shè)備不產(chǎn)生三廢，勞動(dòng)條件好，設(shè)備占地面積小。這類設(shè)備如公開號(hào)為CN2434311Y的中國專利“磁控濺射泡沫鎳卷繞鍍膜機(jī)”和公開號(hào)為CN2450227Y的中國專利“泡沫鎳磁控濺射卷繞鍍膜機(jī)”最為典型。它們基本上都是由一個(gè)真空室和設(shè)置在真空室內(nèi)的收放卷輥以及磁控靶構(gòu)成，收放卷輥上卷繞有被鍍基材泡沫塑料。由于現(xiàn)有的鍍膜機(jī)的磁控靶都是成對(duì)且相對(duì)設(shè)置的，這樣使得濺射區(qū)域的溫度偏高且散熱困難，造成整個(gè)真空室內(nèi)的工作溫度不正常。

發(fā)明內(nèi)容
本實(shí)用新型的發(fā)明目的是提供一種雙面濺射真空卷繞連續(xù)鍍膜設(shè)備，以解決現(xiàn)有磁控濺卷繞鍍膜機(jī)存在的不足之處。
為了實(shí)現(xiàn)上述發(fā)明目的，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是雙面濺射真空卷繞連續(xù)鍍膜設(shè)備，包括一個(gè)具有真空系統(tǒng)的真空室和能在真空室內(nèi)推進(jìn)推出的工作小車及平面靶，在工作小車上設(shè)置有收、放卷輥及多個(gè)導(dǎo)輥，收、放卷輥以及各導(dǎo)輥之間采用鏈條實(shí)現(xiàn)同步運(yùn)動(dòng)；其特征是所述平面靶的內(nèi)、外靶采用錯(cuò)位方式分別布置在工作小車和真空室的室體上。
為了保證濺射時(shí)，真空室內(nèi)能獲得滿意的真空度，本實(shí)用新型的真空系統(tǒng)設(shè)置在真空室的兩旁。
為了保證真空室內(nèi)工作溫度的正常，在本實(shí)用新型真空室的室體內(nèi)設(shè)置有循環(huán)冷卻水管。
由于采用了如上的設(shè)計(jì)方案，本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比，具有以下優(yōu)點(diǎn)1、濺射區(qū)域內(nèi)的溫度分布均勻、平衡，并控制在220℃以下，保證了被鍍基材能正常工作，提高了鍍膜質(zhì)量；2、采用水冷裝置，大大提高了濺射效率和生產(chǎn)效能。


圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
附圖所示的雙面濺射真空卷繞連續(xù)鍍膜設(shè)備，包括幾套具有強(qiáng)力抽速的真空系統(tǒng)1和真空室2，能在真空室2內(nèi)推進(jìn)推出的工作小車9及平面靶3，在工作小車9上設(shè)置有收、放卷輥6、7及多個(gè)導(dǎo)輥4，收、放卷輥6、7以及各導(dǎo)輥4之間采用鏈條實(shí)現(xiàn)同步運(yùn)動(dòng)；平面靶3的內(nèi)、外靶采用錯(cuò)位方式分別布置在工作小車9和真空室2的室體上。真空系統(tǒng)1設(shè)置在真空室2的兩旁。真空室2的室體內(nèi)設(shè)置有循環(huán)冷卻水管10。另外在工作小車9上設(shè)有多個(gè)冷卻輥8。
具體工作過程是在真空室2中，被鍍基材5從放卷輥7經(jīng)過多個(gè)導(dǎo)輥4和冷卻輥8以及每對(duì)平面靶9的中間位置連續(xù)均勻地傳送到收卷輥6上，在通過平面靶3時(shí)，平面靶3的金屬靶材被充入的氬氣電離后產(chǎn)生的氬離子轟擊靶材而濺射出來，沉積在被鍍基材5上而得到金屬薄膜，完成濺射鍍膜過程。
權(quán)利要求1.雙面濺射真空卷繞連續(xù)鍍膜設(shè)備，包括一個(gè)具有真空系統(tǒng)(1)的真空室(2)和能在真空室(2)內(nèi)推進(jìn)推出的工作小車(9)及平面靶(3)，在工作小車(9)上設(shè)置有收、放卷輥(6、7)及多個(gè)導(dǎo)輥(4)，收、放卷輥(6、7)以及各導(dǎo)輥(4)之間采用鏈條實(shí)現(xiàn)同步運(yùn)動(dòng)；其特征是所述平面靶(3)的內(nèi)、外靶采用錯(cuò)位方式分別布置在工作小車(9)和真空室(2)的室體上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙面濺射真空卷繞連續(xù)鍍膜設(shè)備，其特征在于真空系統(tǒng)(1)設(shè)置在真空室(2)的兩旁。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的雙面濺射真空卷繞連續(xù)鍍膜設(shè)備，其特征在于在真空室(2)的室體內(nèi)設(shè)置有循環(huán)冷卻水管(10)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的雙面濺射真空卷繞連續(xù)鍍膜設(shè)備，其特征在于在工作小車(9)上還設(shè)有多個(gè)冷卻輥(8)。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的雙面濺射真空卷繞連續(xù)鍍膜設(shè)備，其特征在于在工作小車(9)上還設(shè)有多個(gè)冷卻輥(8)。
專利摘要本實(shí)用新型公開的雙面濺射真空卷繞連續(xù)鍍膜設(shè)備，包括一個(gè)具有真空系統(tǒng)(1)的真空室(2)和能在真空室(2)內(nèi)推進(jìn)推出的工作小車(9)及平面靶(3)，在工作小車(9)上設(shè)置有收、放卷輥(6、7)及多個(gè)導(dǎo)輥(4)，收、放卷輥(6、7)以及各導(dǎo)輥(4)之間采用鏈條實(shí)現(xiàn)同步運(yùn)動(dòng)；其特征是所述平面靶(3)的內(nèi)、外靶采用錯(cuò)位方式分別布置在工作小車(9)和真空室(2)的室體上。在真空室(2)的室體內(nèi)設(shè)置有循環(huán)冷卻水管(10)。本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比，具有以下優(yōu)點(diǎn)1.濺射區(qū)域內(nèi)的溫度分布均勻、平衡，并控制在220℃以下，保證了被鍍基材能正常工作，提高了鍍膜質(zhì)量；2.采用水冷裝置，大大提高了濺射效率和生產(chǎn)效能。
文檔編號(hào)C23C14/34GK2706479SQ20042003563
公開日2005年6月29日 申請(qǐng)日期2004年4月14日 優(yōu)先權(quán)日2004年4月14日
發(fā)明者李云松, 李云輝, 李云程, 李云平 申請(qǐng)人:衡陽市真空機(jī)電設(shè)備有限公司