專利名稱：研磨機(jī)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種研磨機(jī)，特別是涉及一種具有支撐橫梁結(jié)構(gòu)的研磨機(jī)。
背景技術(shù)：
參閱圖1及圖2，一般的研磨機(jī)100，例如用以研磨液晶顯示器(LCD，Liquid Crystal Display)的玻璃薄片的研磨機(jī)100，包含一本體11、一下盤(pán)單元12、一上盤(pán)單元13。本體11定義一轉(zhuǎn)動(dòng)方向，并包括一作為基部的基座111，基座111上向上垂直延伸有一轉(zhuǎn)軸112，轉(zhuǎn)軸112遠(yuǎn)離基座111的一端，連接一與轉(zhuǎn)軸112相互垂直的旋轉(zhuǎn)臂113，使得轉(zhuǎn)軸112及旋轉(zhuǎn)臂113的截面的連線概呈L字型。下盤(pán)單元12設(shè)于基座111上，包括一下層板121，及分別設(shè)于基座111內(nèi)的一下盤(pán)馬達(dá)122及一下盤(pán)減速器123，下層板121的上表面上附著有一下研磨墊124，可受下盤(pán)馬達(dá)122驅(qū)動(dòng)沿轉(zhuǎn)動(dòng)方向旋轉(zhuǎn)及受下盤(pán)減速器123控制旋轉(zhuǎn)速度。
上盤(pán)單元13可轉(zhuǎn)動(dòng)地連接于旋轉(zhuǎn)臂113上，包括一可與下層板121接觸的上層板131，及分別設(shè)于基座111內(nèi)的一上盤(pán)馬達(dá)132及一上盤(pán)減速器133，上層板131的下表面上可附著一待磨片14，可受上盤(pán)馬達(dá)132驅(qū)動(dòng)沿轉(zhuǎn)動(dòng)方向的反向旋轉(zhuǎn)及受上盤(pán)減速器133控制旋轉(zhuǎn)速度。
研磨時(shí)，上盤(pán)單元13是以與旋轉(zhuǎn)臂113樞接處為軸，使上層板131向遠(yuǎn)離轉(zhuǎn)軸112的方向上揚(yáng)一角度，此時(shí)可將待磨片14設(shè)于上層板131的下表面上，再將上層板131復(fù)位，啟動(dòng)開(kāi)關(guān)(圖未示)使上盤(pán)馬達(dá)132及下盤(pán)馬達(dá)122運(yùn)轉(zhuǎn)，研磨設(shè)于上層板131上的待磨片14。研磨時(shí)，研磨機(jī)100上的一研磨液供應(yīng)裝置15可將一研磨液151，透過(guò)輸送管152供應(yīng)至下層板121的上表面上。且為使研磨均勻，旋轉(zhuǎn)臂113可以轉(zhuǎn)軸112為中心來(lái)回轉(zhuǎn)動(dòng)。
現(xiàn)有的研磨機(jī)100具有下列的缺點(diǎn)1.由于采用上盤(pán)單元13固結(jié)于旋轉(zhuǎn)臂113的方式，使得轉(zhuǎn)軸112及轉(zhuǎn)軸112與旋轉(zhuǎn)臂113的連接處，于研磨時(shí)將受到較大的力矩及扭力的作用，容易造成結(jié)構(gòu)的不穩(wěn)定，因此必須使用較為結(jié)實(shí)的構(gòu)造。
2.再者，以轉(zhuǎn)軸112為中心的旋轉(zhuǎn)方式作左右弧形的擺動(dòng)，其擺動(dòng)速率與時(shí)間的關(guān)系則呈現(xiàn)一種簡(jiǎn)諧運(yùn)動(dòng)，使得速度產(chǎn)生不均勻的情況，致使待磨片14容易產(chǎn)生刮痕及厚薄不均勻。
3.另一方面，于上下待磨片14時(shí)，由于上盤(pán)單元13的頂端設(shè)有氣壓缸134，使得上層板131可上揚(yáng)的角度有限，不利于操作人員的上下片作業(yè)。
4.此外，下片作業(yè)時(shí)通常以手指將研磨完成的待磨片14撥離上層板131，不只費(fèi)時(shí)且待磨片14破損的機(jī)率高。
5.而且，透過(guò)固著于上盤(pán)單元13外緣的輸送管152將研磨液淋下的方式，通常會(huì)造成研磨液于下層板121的上表面上分布不均，影響待磨片14研磨的品質(zhì)。

實(shí)用新型內(nèi)容因此，本實(shí)用新型的目的在于提供一種研磨機(jī)，具支撐橫梁結(jié)構(gòu)、結(jié)構(gòu)強(qiáng)固且機(jī)臺(tái)體積較小，并可使研磨速度均勻且研磨液分布均勻，可減少待磨片破損機(jī)率。
于是，本實(shí)用新型的研磨機(jī)，其特征在于包含一基座；一支撐單元，包括一附著于該基座上的支撐構(gòu)件，及一可樞轉(zhuǎn)地樞設(shè)于該支撐構(gòu)件上且位于該基座上方的橫梁；一橫梁翻轉(zhuǎn)裝置；一下盤(pán)單元，設(shè)于該基座上，包括一可轉(zhuǎn)動(dòng)且具一上表面的下層板，及驅(qū)動(dòng)該下層板沿一第一轉(zhuǎn)動(dòng)方向旋轉(zhuǎn)的下盤(pán)驅(qū)動(dòng)裝置；一上盤(pán)單元，可往復(fù)式移動(dòng)地設(shè)于該橫梁上，該上盤(pán)單元包括一可轉(zhuǎn)動(dòng)且具一下表面的上層板，該上層板與該下層板接觸；及一驅(qū)動(dòng)該上層板沿一第二轉(zhuǎn)動(dòng)方向旋轉(zhuǎn)的上盤(pán)驅(qū)動(dòng)裝置。
所述研磨機(jī)，其特征在于該支撐構(gòu)件包括二分別設(shè)于該橫梁兩端的支撐柱。
所述研磨機(jī)，其特征在于該橫梁翻轉(zhuǎn)裝置包括一具一輸出軸的驅(qū)動(dòng)裝置，該橫梁平行該驅(qū)動(dòng)裝置的輸出軸樞轉(zhuǎn)，連動(dòng)附著其上的該上盤(pán)單元翻轉(zhuǎn)。
所述研磨機(jī)，其特征在于該研磨機(jī)更包含一提供一研磨液至該下層板的上表面上的研磨液供應(yīng)裝置。
所述研磨機(jī)，其特征在于該研磨液供應(yīng)裝置包括一儲(chǔ)放該研磨液的研磨液供應(yīng)筒，及分別由該研磨液供應(yīng)筒連接至該上層板外緣及該下層板中央的一上盤(pán)輸送管及一下盤(pán)輸送管。
所述研磨機(jī)，其特征在于該下盤(pán)輸送管具有數(shù)個(gè)設(shè)于該下層板上的噴口。
所述研磨機(jī)，其特征在于該噴口布設(shè)呈蓮蓬頭型式，且每一噴口內(nèi)又設(shè)有數(shù)個(gè)呈蓮蓬頭型式布設(shè)的噴出口。
所述研磨機(jī)，其特征在于該上盤(pán)單元更包括一具至少一通氣管的氣壓裝置，及至少一貫穿形成于該上層板上且對(duì)應(yīng)地與該通氣管連通的通氣孔。
本實(shí)用新型的研磨機(jī)，可借由兩邊的支撐柱的張力分?jǐn)偅寡心C(jī)于研磨過(guò)程中更為穩(wěn)定，且可承受較大的作用力。此外，上盤(pán)單元可沿橫梁軸向的方向移動(dòng)，可避免研磨過(guò)程中的速度不均。另一方面，上盤(pán)單元可以橫梁為軸樞轉(zhuǎn)，便于上下一待磨片，減少作業(yè)所需的時(shí)間。

下面通過(guò)最佳實(shí)施例及附圖對(duì)本實(shí)用新型研磨機(jī)進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明，附圖中圖1是一現(xiàn)有的懸臂式研磨機(jī)的部分側(cè)視圖；圖2是上述懸臂式研磨機(jī)的側(cè)視剖面示意圖；圖3是一本實(shí)用新型研磨機(jī)較佳實(shí)施例的側(cè)視剖面示意圖；圖4本實(shí)用新型研磨機(jī)較佳實(shí)施例的部分側(cè)視圖；圖5本實(shí)用新型研磨機(jī)較佳實(shí)施例中，下層板的俯視示意圖；圖6本實(shí)用新型研磨機(jī)較佳實(shí)施例中，上盤(pán)單元的部分剖面?zhèn)纫晥D，說(shuō)明氣壓裝置的通氣管于上盤(pán)單元中的布設(shè)情形；圖7本實(shí)用新型研磨機(jī)較佳實(shí)施例中，上層板的仰視示意圖，說(shuō)明通氣孔于上層板上的布設(shè)情形。
具體實(shí)施方式如圖3及圖4所示，本實(shí)用新型研磨機(jī)200的較佳實(shí)施例，以研磨液晶顯示器的玻璃薄片7(待磨片7)的研磨機(jī)200來(lái)作說(shuō)明，但是并不以本實(shí)施例所揭示的為限，也可為研磨金屬材質(zhì)、塑膠材質(zhì)的待磨片7的研磨機(jī)200等。研磨機(jī)200包含一基座21、一支撐單元22、一下盤(pán)單元3、一上盤(pán)單元4，及一研磨液供應(yīng)裝置5。
基座21內(nèi)部形成一中空容室211，容室211內(nèi)布設(shè)有一設(shè)于下盤(pán)單元支撐座37內(nèi)的下盤(pán)驅(qū)動(dòng)裝置34，下盤(pán)驅(qū)動(dòng)裝置34包括一下盤(pán)馬達(dá)341及一下盤(pán)減速器342。支撐單元22于本實(shí)施例中以一橋式支撐單元22來(lái)作說(shuō)明，橋式支撐單元22包括二間隔地由基座21相互平行地向上延伸的支撐柱221，一橫梁222設(shè)于二支撐柱221間，且分別與二支撐柱221的上端樞接。橋式支撐單元22的一支撐柱221的側(cè)面上可附著一橫梁翻轉(zhuǎn)裝置6，橫梁翻轉(zhuǎn)裝置6連接橫梁222的一端，可驅(qū)動(dòng)橫梁222旋轉(zhuǎn)。
上述的支撐單元22于其他實(shí)施例中也可只具一支撐柱221(圖未示)，或者于橫梁222兩端分別具有二呈倒V字型設(shè)置的支撐柱221(圖未示)等，只需有一與橫梁222樞接的支撐構(gòu)件將橫梁222支承于基座21上即可，不以此所揭示的為限。此外，下盤(pán)驅(qū)動(dòng)裝置34的下盤(pán)馬達(dá)341及下盤(pán)減速器342也可設(shè)于基座21以外的其他地方。另一方面，橫梁翻轉(zhuǎn)裝置6設(shè)置的地點(diǎn)也不以支撐柱221的側(cè)面為限，且橫梁翻轉(zhuǎn)裝置6可包括一具一輸出軸的驅(qū)動(dòng)裝置(圖未示)，該驅(qū)動(dòng)裝置可為一馬達(dá)(不以此為限)，橫梁222概呈平行該馬達(dá)的輸出軸樞轉(zhuǎn)，在其他實(shí)施態(tài)樣下橫梁翻轉(zhuǎn)裝置6及橫梁222間可透過(guò)齒輪及滾珠(圖未示)等其他方式予以連結(jié)。
下盤(pán)單元3設(shè)于本體2的基座21內(nèi)，包括一具一上表面的下層板31，下層板31與下盤(pán)馬達(dá)341的間設(shè)有數(shù)個(gè)相嚙合的齒輪及其他構(gòu)件(圖未示)，使得下層板31可借由下驅(qū)動(dòng)裝置34的下盤(pán)馬達(dá)341驅(qū)動(dòng)而沿一第一轉(zhuǎn)動(dòng)方向旋轉(zhuǎn)，且借由下驅(qū)動(dòng)裝置34的下盤(pán)減速器342以調(diào)整轉(zhuǎn)速，下層板31的上表面上通常布設(shè)有一研磨墊32，用以研磨待磨片7。此外，下層板31上可布設(shè)有數(shù)個(gè)個(gè)貫穿的蓮蓬頭式噴口33，每一蓮蓬頭式噴口33內(nèi)形成數(shù)個(gè)呈蓮蓬頭形狀的噴出口(圖未示)，用以供應(yīng)研磨液，研磨液由該等蓮蓬頭式噴口33流出后可滲出于研磨墊32與待磨片7間，供研磨使用，研磨液的成份依待磨片7材質(zhì)的特性等而不同，由于并無(wú)特殊的組成，因此可參考目前沿用的各種類別，于此不多作說(shuō)明。該等蓮蓬頭式噴口33排列的方式可以為各種不同的型式，于本實(shí)施例中，蓮蓬頭式噴口33數(shù)目為五，其中四個(gè)等間隔地分布于一個(gè)圓周上，另一個(gè)蓮蓬頭式噴口33則位于圓心的位置，也就是概呈蓮蓬頭的形狀(見(jiàn)圖5)，但是不以此為限。
上盤(pán)單元4連接于橋式支撐單元22的橫梁222上，可借由一連接于橫梁222的移動(dòng)裝置46的驅(qū)動(dòng)而得以沿著橫梁222的設(shè)置方向移動(dòng)，此處移動(dòng)裝置46例如可為一步進(jìn)馬達(dá)46，但是不以此為限，上盤(pán)單元4內(nèi)設(shè)有一具一伺服馬達(dá)451的上盤(pán)驅(qū)動(dòng)裝置45，上盤(pán)單元4包括一位于上盤(pán)單元4遠(yuǎn)離橫梁222的一端且可與下層板31接觸的上層板41，上層板41通常較下層板31為小(不以此為限)，且其下表面上可附著一軟質(zhì)墊片42，降低待磨片7于研磨過(guò)程中破裂的機(jī)率，上層板41可借由上盤(pán)驅(qū)動(dòng)裝置45的伺服馬達(dá)451驅(qū)動(dòng)而沿一第二轉(zhuǎn)動(dòng)方向旋轉(zhuǎn)，該第二轉(zhuǎn)動(dòng)方向與第一轉(zhuǎn)動(dòng)方向可為反向，但是也可為同向，視上層板41及下層板31間所需的相對(duì)速度而定。此外，為配合各種待磨片7的厚度及研磨時(shí)所需的壓力，上盤(pán)單元4可更包括一位于上盤(pán)單元4上接近橫梁222一端的伸縮及壓力控制缸43，伸縮及壓力控制缸43可借由自一上方進(jìn)氣口(圖未示)或一下方進(jìn)氣口(圖未示)輸入的氣體，推動(dòng)活塞(圖未示)向下或向上作動(dòng)，進(jìn)而調(diào)整上層板41與下層板31間的距離，并控制研磨時(shí)施加的壓力。上盤(pán)單元4可于橋式支撐單元22的二支撐柱221間直線往復(fù)移動(dòng)，也可于橋式支撐單元22的橫梁222受橫梁翻轉(zhuǎn)裝置6驅(qū)動(dòng)樞轉(zhuǎn)時(shí)，連動(dòng)上揚(yáng)或下擺一個(gè)角度，角度的大小可大于90度。為了固定上盤(pán)單元4以于其上揚(yáng)時(shí)進(jìn)行上片作業(yè)，橋式支撐單元22可更包含至少一可固定橫梁222位置的定位梢223。
上述的移動(dòng)裝置46及上盤(pán)驅(qū)動(dòng)裝置45也可設(shè)于上盤(pán)單元4以外的其他位置上，不以上述揭露的為限。
另一方面，如圖6及圖7所示，研磨機(jī)200可更包含一設(shè)于上盤(pán)單元4的氣壓裝置8，氣壓裝置8包括一抽排風(fēng)器81，及連接于抽排風(fēng)器81上的通氣管82，通氣管82的末端可分叉，以與上層板41上數(shù)個(gè)個(gè)貫穿的通氣孔44對(duì)應(yīng)連通。本實(shí)施例中，上層板41上設(shè)有四個(gè)方形的待磨片7，且分別于每一待磨片7的角落布設(shè)一通氣孔44，于其他實(shí)施態(tài)樣下，通氣孔44的數(shù)目及排列方式可與本實(shí)施例不同，不以本實(shí)施例中所陳述的為限。
研磨液供應(yīng)裝置5包括至少一用以盛裝研磨液的研磨液供應(yīng)筒51、連接研磨液供應(yīng)筒51及上層板41的一上盤(pán)輸送管52，及連接研磨液供應(yīng)筒51及下層板31的一下盤(pán)輸送管53。研磨液供應(yīng)筒51與上層板41及下層板31間可另布設(shè)至少一泵54及至少一過(guò)濾器55，以使得一定成份的研磨液可依所需分別輸送至上層板41及下層板31。通常過(guò)濾器55的數(shù)目為二，分別過(guò)濾不同大小粒徑的雜質(zhì)，但是不以此為限。于本實(shí)施例中，下盤(pán)輸送管53于連接下層板31處配合蓮蓬頭式噴口33的數(shù)量而有數(shù)個(gè)分叉管，且由下層板31的底部向上輸送研磨液到下層板31的上表面上，另外，上盤(pán)輸送管52則連結(jié)于上層板41的周緣上，由上往下注入研磨液到下層板31的上表面上，但是于其他實(shí)施態(tài)樣下，上盤(pán)輸送管52與下盤(pán)輸送管53連接至上層板41及下層板31可為上述以外的其他方式。另一方面，由于下盤(pán)輸送管53無(wú)法隨下層板31轉(zhuǎn)動(dòng)，因此會(huì)在下層板31下方設(shè)置一轉(zhuǎn)動(dòng)接頭35，轉(zhuǎn)動(dòng)接頭35的周圍布設(shè)有數(shù)個(gè)培林36(滾珠36)，使得當(dāng)下層板31轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，穿設(shè)于下層板31內(nèi)的下盤(pán)輸送管53不會(huì)卷曲。
當(dāng)研磨機(jī)200被用以研磨金屬或塑膠材質(zhì)等其他材質(zhì)的待磨片7時(shí)，業(yè)者可視實(shí)際情況的需要決定是否使用研磨液，因此研磨液供應(yīng)裝置5于一些特定的實(shí)施態(tài)樣下，對(duì)待磨片7的研磨作業(yè)而言是有可能不被采用的。
研磨時(shí)可先開(kāi)啟橫梁翻轉(zhuǎn)裝置6驅(qū)動(dòng)上盤(pán)單元4，使上層板41得以橋式支撐單元22的橫梁222為軸上揚(yáng)，上揚(yáng)一個(gè)適當(dāng)?shù)慕嵌群笠远ㄎ簧?23予以固定，再將待磨片7放置于上盤(pán)單元4的軟質(zhì)墊片42上，此時(shí)，該氣壓裝置8可透過(guò)該等通氣孔44產(chǎn)生負(fù)壓(即氣壓裝置8同時(shí)作動(dòng)抽氣)，將待磨片7與軟質(zhì)墊片42間的空氣清除，使待磨片7緊密地貼附于軟質(zhì)墊片42上而不掉落，然后于移除定位梢223后再開(kāi)啟橫梁翻轉(zhuǎn)裝置6使上盤(pán)單元4復(fù)位。貼片的過(guò)程中，可啟動(dòng)伸縮及壓力控制缸43以調(diào)整上層板41與作業(yè)人員間的距離，方便作業(yè)入員上片。
上層板41復(fù)位后可依所需啟動(dòng)伸縮及壓力控制缸43，使上層板41上的待磨片7與下層板31上的研磨墊32接觸，并調(diào)整上層板41施加于待磨片7上的壓力以進(jìn)行研磨。此時(shí)，伺服馬達(dá)451及下盤(pán)馬達(dá)341分別作動(dòng)以旋轉(zhuǎn)上層板41及下層板31，且研磨液供應(yīng)裝置5也提供適當(dāng)?shù)难心ヒ毫康较聦影?1的上表面上。此外，為使待磨片7各個(gè)部分得以研磨均勻，可使上盤(pán)單元4于橋式支撐單元22的橫梁222上于二支撐柱221間左右往復(fù)運(yùn)動(dòng)。
研磨的過(guò)程中，因上層板41的旋轉(zhuǎn)使得被推移至下層板31周緣的研磨液，將沿著設(shè)于下層板31周圍的一收集槽212匯流于一研磨液回收筒56內(nèi)，以于沉殿過(guò)濾后繼續(xù)使用。而且，研磨液供應(yīng)裝置5可設(shè)一控制閥57，使研磨液回收筒56內(nèi)的研磨液可經(jīng)控制閥57流出，以檢驗(yàn)研磨液的濃度與品質(zhì)。
研磨完成后，可停止所有驅(qū)動(dòng)構(gòu)件的運(yùn)轉(zhuǎn)，開(kāi)啟橫梁翻轉(zhuǎn)裝置6驅(qū)動(dòng)上盤(pán)單元4，使上層板41得以橋式支撐單元22的橫梁222為軸上揚(yáng)，上揚(yáng)一個(gè)適當(dāng)?shù)慕嵌群笥枰怨潭?，再將待磨?由上盤(pán)單元4的軟質(zhì)墊片42上取下，此時(shí)，該氣壓裝置8可透過(guò)該等通氣孔44產(chǎn)生正壓(即氣壓裝置8由抽氣改為吹氣)，使待磨片7與軟質(zhì)墊片42間充斥空氣，待磨片7將輕易地與軟質(zhì)墊片42分離，不必再使用手指去摳挖。下片后可繼續(xù)上另一待磨片7，或于完成研磨作業(yè)后，可將上盤(pán)單元4予以復(fù)位。
另一方面，本實(shí)用新型的研磨機(jī)200可采一機(jī)多功能的設(shè)計(jì)，對(duì)于研磨加工業(yè)中粗磨加工(0.3μm±平整度)、細(xì)磨加工(0.1～0.3μm平整度)，及拋光加工(0.1μm以下平整度)三種不同情況，可依不同玻璃的特性，選用不同粒徑的研磨粉料，借由壓力的輕重、轉(zhuǎn)擺速的高低，及研磨時(shí)間的設(shè)定，來(lái)完成各階段的加工，使從粗磨到拋光過(guò)程中(包含玻璃清洗及上下片)，減少工資費(fèi)用并降低生產(chǎn)所需的時(shí)間，因此，若一次依自動(dòng)化的流程設(shè)計(jì)可更提高研磨加工的效率及經(jīng)濟(jì)效益。
歸納上述，本實(shí)用新型的研磨機(jī)200具有下列的優(yōu)點(diǎn)1.由于本實(shí)用新型的研磨機(jī)200包含一橋式支撐單元22，利用橋式支撐單元22中二支撐柱221的張力，來(lái)平衡上盤(pán)單元4下壓時(shí)所產(chǎn)生的力矩及扭力，避免結(jié)構(gòu)受力不均產(chǎn)生不穩(wěn)定的情況，且可改善現(xiàn)有的研磨機(jī)100因結(jié)構(gòu)問(wèn)題無(wú)法承受較大的作用力。
2.且此橋式支撐單元22的設(shè)計(jì)可使上盤(pán)單元4可以橫梁222為軸翻轉(zhuǎn)，并配合伸縮及壓力控制缸43，使作業(yè)人員于上下待磨片7時(shí)更為便利，也降低待磨片7破損的機(jī)率。
3.此外，橋式支撐單元22的設(shè)計(jì)較現(xiàn)有的懸臂式的構(gòu)造，使上層板41于研磨的過(guò)程中具有更穩(wěn)定的研磨速度，不致產(chǎn)生研磨速度與時(shí)間的簡(jiǎn)諧運(yùn)動(dòng)關(guān)系，相對(duì)提高研磨的品質(zhì)，降低不良率發(fā)生的機(jī)率。
4.另一方面，上盤(pán)單元4上搭配氣壓裝置8的設(shè)計(jì)，可使待磨片7于上下片時(shí)，減少因人為的疏忽造成破損的可能性，且上下片的時(shí)間短，可節(jié)省研磨作業(yè)所需的時(shí)間。
5.再者，研磨液供應(yīng)裝置5分別由上層板41及下層板31供應(yīng)研磨液，且下層板31上的蓮蓬頭式噴口33采蓮蓬頭式的布設(shè)，使研磨液可更均勻地散布于下層板31的上表面上，增加研磨的品質(zhì)。
因此，無(wú)論在功效性、使用性及經(jīng)濟(jì)性上，皆可滿足一定的利基，確實(shí)能達(dá)到實(shí)用新型的目的。
權(quán)利要求1.一種研磨機(jī)，其特征在于包含一基座；一支撐單元，包括一附著于該基座上的支撐構(gòu)件，及一可樞轉(zhuǎn)地樞設(shè)于該支撐構(gòu)件上且位于該基座上方的橫梁；一橫梁翻轉(zhuǎn)裝置；一下盤(pán)單元，設(shè)于該基座上，包括一可轉(zhuǎn)動(dòng)且具一上表面的下層板，及驅(qū)動(dòng)該下層板沿一第一轉(zhuǎn)動(dòng)方向旋轉(zhuǎn)的下盤(pán)驅(qū)動(dòng)裝置；一上盤(pán)單元，可往復(fù)式移動(dòng)地設(shè)于該橫梁上，該上盤(pán)單元包括一可轉(zhuǎn)動(dòng)且具一下表面的上層板，該上層板與該下層板接觸；及一驅(qū)動(dòng)該上層板沿一第二轉(zhuǎn)動(dòng)方向旋轉(zhuǎn)的上盤(pán)驅(qū)動(dòng)裝置。
2.如權(quán)利要求1所述研磨機(jī)，其特征在于該支撐構(gòu)件包括二分別設(shè)于該橫梁兩端的支撐柱。
3.如權(quán)利要求1所述研磨機(jī)，其特征在于該橫梁翻轉(zhuǎn)裝置包括一具一輸出軸的驅(qū)動(dòng)裝置，該橫梁平行該驅(qū)動(dòng)裝置的輸出軸樞轉(zhuǎn)，連動(dòng)附著其上的該上盤(pán)單元翻轉(zhuǎn)。
4.如權(quán)利要求1所述研磨機(jī)，其特征在于該研磨機(jī)更包含一提供一研磨液至該下層板的上表面上的研磨液供應(yīng)裝置。
5.如權(quán)利要求4所述研磨機(jī)，其特征在于該研磨液供應(yīng)裝置包括一儲(chǔ)放該研磨液的研磨液供應(yīng)筒，及分別由該研磨液供應(yīng)筒連接至該上層板外緣及該下層板中央的一上盤(pán)輸送管及一下盤(pán)輸送管。
6.如權(quán)利要求5所述研磨機(jī)，其特征在于該下盤(pán)輸送管具有數(shù)個(gè)設(shè)于該下層板上的噴口。
7.如權(quán)利要求6所述研磨機(jī)，其特征在于該噴口布設(shè)呈蓮蓬頭型式，且每一噴口內(nèi)又設(shè)有數(shù)個(gè)呈蓮蓬頭型式布設(shè)的噴出口。
8.如權(quán)利要求1所述研磨機(jī)，其特征在于該上盤(pán)單元更包括一具至少一通氣管的氣壓裝置，及至少一貫穿形成于該上層板上且對(duì)應(yīng)地與該通氣管連通的通氣孔。
專利摘要一種研磨機(jī)，包含一基座、一設(shè)于基座上的支撐單元、一橫梁翻轉(zhuǎn)裝置、一設(shè)于基座上的下盤(pán)單元、一下盤(pán)驅(qū)動(dòng)裝置、一可移動(dòng)地設(shè)于支撐單元上的上盤(pán)單元，及一上盤(pán)驅(qū)動(dòng)裝置，支撐單元具有一支撐構(gòu)件，及一樞接于支撐構(gòu)件上且位于基座上方的橫梁，下盤(pán)單元包括一可轉(zhuǎn)動(dòng)且具一上表面的下層板，可受下盤(pán)驅(qū)動(dòng)裝置的驅(qū)動(dòng)而沿一第一轉(zhuǎn)動(dòng)方向旋轉(zhuǎn)，上盤(pán)單元設(shè)于橫梁上，并包括一可轉(zhuǎn)動(dòng)且具一下表面的上層板，上層板可與下層板接觸，且受一上盤(pán)驅(qū)動(dòng)裝置的驅(qū)動(dòng)而沿一第二轉(zhuǎn)動(dòng)方向旋轉(zhuǎn)。本實(shí)用新型的研磨機(jī)，結(jié)構(gòu)強(qiáng)固且機(jī)臺(tái)體積較小，并可使研磨速度均勻且研磨液分布均勻，可減少待磨片破損機(jī)率。
文檔編號(hào)B24B57/02GK2788966SQ20042001375
公開(kāi)日2006年6月21日 申請(qǐng)日期2004年10月10日 優(yōu)先權(quán)日2004年10月10日
發(fā)明者朱怡, 麥可·博格 申請(qǐng)人:英屬維京群島美商西華顧問(wèn)有限公司