專利名稱：蒸鍍設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型是與電激發(fā)光元件制程設(shè)備與有關(guān)，更詳而言之是指一種具有二個(gè)相連通真空室的蒸鍍設(shè)備。
背景技術(shù)：
請(qǐng)參閱圖1所示的已知用以對(duì)低分子是材料加熱的蒸鍍設(shè)備10，其組成包括一真空蒸鍍室11，一供被蒸鍍物12朝向下方安裝的支持臺(tái)13，前述被蒸鍍物12如已經(jīng)完成圖案化的ITO基板，一加熱器14位于該支持臺(tái)13下方，該加熱器14是用以對(duì)放置于其上方的蒸鍍源15(即有機(jī)低分子是材料)進(jìn)行加熱使用，在溫度到達(dá)蒸鍍源15的氣化點(diǎn)時(shí)，原為固態(tài)(可為錠狀、片狀或顆粒狀)的蒸鍍源15將被氣化并充布于該真空蒸鍍室11中，氣化后的蒸鍍源15并將附著于該被蒸鍍物12上，以便達(dá)薄膜被覆的作業(yè)。
然而，該蒸鍍設(shè)備10在實(shí)際的操作使用上卻有以下所述不便及未臻完善之處1、在蒸鍍源15因受熱氣化致不足或耗盡而需重新喂料時(shí)，須先使真空蒸鍍室11內(nèi)部恢復(fù)常壓狀態(tài)，待于新的蒸鍍源入料完成后再予進(jìn)行抽真空作業(yè)，惟，一般的真空蒸鍍室11因應(yīng)蒸鍍作業(yè)的需求而具有較大的容積，遂造成抽真空作業(yè)時(shí)間拉長，進(jìn)而導(dǎo)致產(chǎn)能降低。
2、承上述第1點(diǎn)所述，該真空蒸鍍室11在每一次進(jìn)行新的蒸鍍源喂料時(shí)，其腔體必須經(jīng)過開啟、關(guān)閉與抽真空等動(dòng)作，而在多次重復(fù)上述動(dòng)作后，遂有影響腔體內(nèi)部真空度之虞。
3、雖有業(yè)者在每一次的喂料時(shí)由大量添加、分次加熱的方式以減緩蒸鍍源的耗失速度，并據(jù)以降低常破腔體的機(jī)率，然而，過多的蒸鍍源將使得其在受熱時(shí)的外部與內(nèi)部溫度并非均勻一致，而于長時(shí)間的高溫作用下，將導(dǎo)致前后不同時(shí)間被加熱的蒸鍍源材料變質(zhì)，進(jìn)而影響爾后有機(jī)發(fā)光裝置的光電性質(zhì)及壽命表現(xiàn)。
請(qǐng)?jiān)倥浜蠄D2、圖3所示的另一種蒸鍍設(shè)備20，其取得美國第6,467,427號(hào)發(fā)明專利在案，該蒸鍍設(shè)備20具有一真空蒸鍍室21、一供被蒸鍍物22安裝的支持臺(tái)23、一可移動(dòng)并具有加熱功效的蒸鍍船24、一坩堝25與一卡式匣轉(zhuǎn)輪26，其中該卡式匣轉(zhuǎn)輪26還包括有一固定不動(dòng)且具一缺口261的外殼262、一由中心軸263帶動(dòng)旋轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)輪264及多數(shù)與該轉(zhuǎn)輪264固接的隔板265，各該隔板265并區(qū)分出復(fù)數(shù)個(gè)小格子266；該蒸鍍設(shè)備20是利用于各個(gè)小格子266中預(yù)置定量的蒸鍍源27，再經(jīng)由控制該轉(zhuǎn)輪264轉(zhuǎn)動(dòng)以促使收容于各小格子266內(nèi)的蒸鍍源27逐步地自該缺口261掉落至該坩堝25中，該坩堝25可被通予電流以對(duì)蒸鍍源27產(chǎn)生預(yù)熱，之后，坩堝25內(nèi)的蒸鍍源27再掉落至該蒸鍍船24中，且蒸鍍船24被移動(dòng)至預(yù)定位置繼續(xù)對(duì)蒸鍍源27進(jìn)行加熱，以便達(dá)對(duì)蒸鍍源27氣化的目的及完成薄膜被覆的作業(yè)。
誠然該蒸鍍設(shè)備20具有定時(shí)、定量提供蒸鍍源的功效，惟其仍有未臻完善之處，即1、當(dāng)該卡式匣轉(zhuǎn)輪26所收容的蒸鍍源用盡并于重新裝料之后，于對(duì)該具有大容積的真空蒸鍍室21進(jìn)行抽真空作業(yè)時(shí)，所需時(shí)間仍長。
2、在該真空蒸鍍室21反覆被開啟與關(guān)閉之間，容易使得該被蒸鍍物22(如ITO基板)遭污染機(jī)率增加。
3、由于該卡式匣轉(zhuǎn)輪26的中心軸263以水平向設(shè)置(如圖3所示)，因此，僅能以側(cè)向入料，遂造成在添加新的蒸鍍源時(shí)，顯得極為不便。
4、該蒸鍍設(shè)備20在其卡式匣轉(zhuǎn)輪26與蒸鍍船24之間雖設(shè)置有該坩堝25可對(duì)蒸鍍源27進(jìn)行預(yù)熱使用，惟，蒸鍍船24本身已具備加熱功效，因此，該坩堝25的裝設(shè)顯得并非必要。實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的主要目的在于提供一種蒸鍍設(shè)備，具有快速供給定量蒸鍍源的功效，據(jù)以提升產(chǎn)能。
本實(shí)用新型的次要目的在于提供一種蒸鍍設(shè)備，可避免常破腔體，以降低影響腔體內(nèi)部真空度及降低污染的機(jī)率。
本實(shí)用新型的另一目的在于提供一種蒸鍍設(shè)備，是可縮短抽真空的作業(yè)時(shí)間。
緣以達(dá)成上述的目的，本實(shí)用新型所提供的一種蒸鍍設(shè)備，其特征在于，包含有一真空是統(tǒng)，具有相連通的一第一真空室與一第二真空室，以及一開關(guān)是做為控制該第一真空室與該第二真空室相通與否使用；一設(shè)置于該第一真空室中的喂料裝置，該喂料裝置具有一供收納蒸鍍源的儲(chǔ)料容器及一導(dǎo)料機(jī)構(gòu)，該導(dǎo)料機(jī)構(gòu)在該第一真空室與該第二真空室相通時(shí)，可將蒸鍍源往該第二真空室遞送；至少一設(shè)置于該第二真空室中的加熱裝置，該加熱裝置適于收容來自該喂料裝置的蒸鍍源并予以加熱以使蒸鍍源氣化。
其中該喂料裝置的儲(chǔ)料容器底部具有一開口，該導(dǎo)料機(jī)構(gòu)具有一位于該儲(chǔ)料容器下方的集料筒及一與該集料筒相通的引料軌道，該集料筒收集自該儲(chǔ)料容器開口落下的蒸鍍源，該引料軌道朝外朝下延伸形成，并可將集料筒中的蒸鍍源引送至該加熱裝置。
其中該喂料裝置還包含有一分料機(jī)構(gòu)，該分料機(jī)構(gòu)具有一中心軸、數(shù)葉片與一第一動(dòng)力源，該中心軸穿設(shè)于該儲(chǔ)料容器中，各該葉片與該中心軸固接且將該儲(chǔ)料容器區(qū)分成數(shù)個(gè)可供收容蒸鍍源的容槽，該第一動(dòng)力源是用以驅(qū)使該中心軸產(chǎn)生轉(zhuǎn)動(dòng)，在容槽與該開口對(duì)應(yīng)時(shí)，容槽內(nèi)的蒸鍍源將掉落至該集料筒中。
其中該第二真空室中裝設(shè)有數(shù)加熱裝置，該導(dǎo)料機(jī)構(gòu)還包括有一第二動(dòng)力源，該第二動(dòng)力源是可驅(qū)使該集料筒產(chǎn)生轉(zhuǎn)動(dòng)，以改變該引料軌道與不同位置的加熱裝置對(duì)應(yīng)設(shè)置。
其中該導(dǎo)料機(jī)構(gòu)的引料軌道具有伸縮功能。
其中還包括有一檢知感應(yīng)器，用以檢測該儲(chǔ)料容器內(nèi)的蒸鍍源存量。
其中該第一真空室的容積小于該第二真空室的容積。


以下，列舉本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例，并配合下列附圖詳細(xì)說明于后，其中圖1是現(xiàn)有蒸鍍設(shè)備的簡易示圖。
圖2是另一現(xiàn)有蒸鍍設(shè)備的簡易示圖。
圖3是上述另一現(xiàn)有蒸鍍設(shè)備的喂料裝置示意圖。
圖4是本實(shí)用新型一較佳實(shí)施例的側(cè)面示意圖，揭示第一真空室與第二真空室之間未相通。
圖5是本實(shí)用新型上述較佳實(shí)施例的頂面示意圖。
圖6是本實(shí)用新型喂料裝置的立體示意圖。
圖7類同圖4，揭示第一真空室與第二真空室之間相連通。
圖8是圖7的頂面示意圖。
圖9是本實(shí)用新型的另一應(yīng)用例，說明第二真空室中設(shè)置有數(shù)個(gè)加熱裝置。
具體實(shí)施方式
請(qǐng)參閱圖4、圖5所示，是本實(shí)用新型蒸鍍設(shè)備100一較佳實(shí)施例的簡易示圖，該蒸鍍設(shè)備100組成包括一真空是統(tǒng)30、一喂料裝置40、一加熱裝置50與一檢知感應(yīng)器60；其中該真空是統(tǒng)30是由相連通的一第一真空室31與一第二真空室32及一做為控制該第一真空室31與該第二真空室32相通與否使用的閥門開關(guān)33所組成，前述第一真空室31與第二真空室32的形成是利用二個(gè)獨(dú)立的腔體相連接而成，當(dāng)然，亦可由單一腔體內(nèi)部經(jīng)區(qū)隔而構(gòu)成，另說明的是，在本實(shí)施例中，是將該第一真空室31的容積以小于該第二真空室32的容積的方式制作，另有一閘門34做為開啟該第一真空室31與否使用；在該第一真空室31中是設(shè)置有該喂料裝置40與該檢知感應(yīng)器60，在該第二真空室32中則設(shè)置有該加熱裝置50及位于該加熱裝置50上方可供被蒸鍍物A安裝的支持臺(tái)35。
請(qǐng)配合圖6所示，該喂料裝置40由一儲(chǔ)料容器42、一分料機(jī)構(gòu)44與一導(dǎo)料機(jī)構(gòu)46所構(gòu)成，其中該儲(chǔ)料容器42是為底部具有一開口421且內(nèi)部可供收納蒸鍍源B的圓形筒體。
該分料機(jī)構(gòu)44由一中心軸441、數(shù)葉片442及一為步進(jìn)馬達(dá)的第一動(dòng)力源443所組成，該中心軸441穿設(shè)于該儲(chǔ)料容器42中，各該葉片442與該中心軸441固接且將該儲(chǔ)料容器42區(qū)分成數(shù)個(gè)可供收容蒸鍍源B的容槽444，該第一動(dòng)力源443透過一皮帶445居間傳動(dòng)而可驅(qū)使該中心軸441以定格方式產(chǎn)生轉(zhuǎn)動(dòng)，當(dāng)其中一容槽444與該開口421對(duì)應(yīng)時(shí)，容槽444內(nèi)的蒸鍍源B將往該導(dǎo)料機(jī)構(gòu)46方向掉落。
該導(dǎo)料機(jī)構(gòu)46具有一集料筒461、一引料軌道462與一第二動(dòng)力源463，其中
該集料筒461位于該儲(chǔ)料容器42下方，用以承接自該儲(chǔ)料容器42落下的蒸鍍源B；該引料軌道462與該集料筒461相通而連接于該集料筒461的底部，該引料軌道462可將集料筒461中的蒸鍍源B往該加熱裝置50方向遞送，值得一提的是，該引料軌道462更具有可控制伸縮的功能，以改變蒸鍍源B的最終落點(diǎn)，如圖4所示，在該閥門開關(guān)33阻絕該第一真空室31與該第二真空室32相通的情形下，該引料軌道462呈收合狀態(tài)，而在第一真空室31與第二真空室32相通時(shí)，則該引料軌道462如圖7、圖8所示的處于伸展?fàn)顟B(tài)并可順利地將集料筒461中的蒸鍍源B往該加熱裝置50引送；該第二動(dòng)力源463可為旋轉(zhuǎn)汽缸或是步進(jìn)馬達(dá)等具有可控制集料筒461產(chǎn)生定格轉(zhuǎn)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)源，由該第二動(dòng)力源463的驅(qū)轉(zhuǎn)方式搭配該引料軌道462的伸縮控制，將可準(zhǔn)確地把蒸鍍源B導(dǎo)送至該加熱裝置50上的特定加熱區(qū)域，盡管加熱裝置50上具有復(fù)數(shù)個(gè)加熱區(qū)域時(shí)，仍可靈敏地操控并把蒸鍍源B逐一導(dǎo)送至每一個(gè)加熱區(qū)域。
該加熱裝置50是可對(duì)來自該喂料裝置40的蒸鍍源B予以加熱以使蒸鍍源B氣化，由于該加熱裝置50屬既有技藝，于此不予贅述。
而該檢知感應(yīng)器60設(shè)置在接近儲(chǔ)料容器42的位置，其是用以檢測該儲(chǔ)料容器42內(nèi)的蒸鍍源B存量，并據(jù)以產(chǎn)生一信號(hào)以通知是否應(yīng)重新入料。
以上即為本實(shí)用新型蒸鍍設(shè)備100各構(gòu)件及其相關(guān)位置的說明，茲再將其操作及可達(dá)成優(yōu)點(diǎn)敘述于后
1、本實(shí)用新型利用于該喂料裝置40的各容槽444中預(yù)先置放定量的蒸鍍源B，藉以提供每次蒸鍍作業(yè)時(shí)所需足量的材料，據(jù)以避免因過多的供給而造成材料于長時(shí)間閑置下產(chǎn)生變質(zhì)，進(jìn)而影響最終產(chǎn)品的品質(zhì)。
2、承上述第1點(diǎn)所述，本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)于下一次的重新添料間隔時(shí)間長，不需常破腔體，可降低影響腔體內(nèi)部真空度及降低污染的機(jī)率。
3、本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)在進(jìn)行新添蒸鍍源作業(yè)時(shí)，先將該閥門開關(guān)33關(guān)閉以阻絕第一真空室31與第二真空室32相通，再開啟該閘門34(參照?qǐng)D4)，待于爾后完成添料的后并關(guān)閉閘門34，因該第一真空室31的容積小，故可快速地完成抽真空作業(yè)，而于添料作業(yè)的同時(shí)，因該第二真空室32仍維持著真空狀態(tài)，故不影響加熱蒸鍍作業(yè)，基此，可有效地提升產(chǎn)能。
4、本實(shí)用新型的喂料裝置40結(jié)合該檢知感應(yīng)器60的設(shè)置，具有自動(dòng)回報(bào)蒸渡源存量情形的功能。
5、本實(shí)用新型利用第二動(dòng)力源463的定格驅(qū)轉(zhuǎn)方式搭配引料軌道462的伸縮控制，具良好的靈敏操控性，可將蒸鍍源準(zhǔn)確地導(dǎo)送至特定加熱區(qū)域。
另外值得一提的是，本實(shí)用新型的第二真空室32中可裝設(shè)有數(shù)個(gè)加熱裝置50(參照?qǐng)D9)，在其中一個(gè)加熱裝置50上的蒸渡源耗盡時(shí)，可由另一個(gè)加熱裝置50接續(xù)加熱蒸鍍的作業(yè)，而于此時(shí)，該喂料裝置40可適時(shí)地對(duì)無蒸渡源的加熱裝置50進(jìn)行補(bǔ)充作業(yè)，據(jù)此以提升產(chǎn)能。
是以，本實(shí)用新型于同類產(chǎn)品中已具有進(jìn)步與實(shí)用性，且，本實(shí)用新型于申請(qǐng)前并無相同物品見于刊物或公開使用，是以，本實(shí)用新型實(shí)已具備創(chuàng)作專利條件，故依法提出申請(qǐng)。
唯，以上所述的，僅為本實(shí)用新型的較佳可行實(shí)施例而已，凡是應(yīng)用本實(shí)用新型說明書及申請(qǐng)專利范圍所為的等效結(jié)構(gòu)變化，理應(yīng)包含在本實(shí)用新型的專利范圍內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種蒸鍍設(shè)備，其特征在于，包含有一真空是統(tǒng)，具有相連通的一第一真空室與一第二真空室，以及一開關(guān)是做為控制該第一真空室與該第二真空室相通與否使用；一設(shè)置于該第一真空室中的喂料裝置，該喂料裝置具有一供收納蒸鍍源的儲(chǔ)料容器及一導(dǎo)料機(jī)構(gòu)，該導(dǎo)料機(jī)構(gòu)在該第一真空室與該第二真空室相通時(shí)，可將蒸鍍源往該第二真空室遞送；至少一設(shè)置于該第二真空室中的加熱裝置，該加熱裝置適于收容來自該喂料裝置的蒸鍍源并予以加熱以使蒸鍍源氣化。
2.依據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍設(shè)備，其特征在于，其中該喂料裝置的儲(chǔ)料容器底部具有一開口，該導(dǎo)料機(jī)構(gòu)具有一位于該儲(chǔ)料容器下方的集料筒及一與該集料筒相通的引料軌道，該集料筒收集自該儲(chǔ)料容器開口落下的蒸鍍源，該引料軌道朝外朝下延伸形成，并可將集料筒中的蒸鍍源引送至該加熱裝置。
3.依據(jù)權(quán)利要求2所述的蒸鍍設(shè)備，其特征在于，其中該喂料裝置還包含有一分料機(jī)構(gòu)，該分料機(jī)構(gòu)具有一中心軸、數(shù)葉片與一第一動(dòng)力源，該中心軸穿設(shè)于該儲(chǔ)料容器中，各該葉片與該中心軸固接且將該儲(chǔ)料容器區(qū)分成數(shù)個(gè)可供收容蒸鍍源的容槽，該第一動(dòng)力源是用以驅(qū)使該中心軸產(chǎn)生轉(zhuǎn)動(dòng)，在容槽與該開口對(duì)應(yīng)時(shí)，容槽內(nèi)的蒸鍍源將掉落至該集料筒中。
4.依據(jù)權(quán)利要求2所述的蒸鍍設(shè)備，其特征在于，其中該第二真空室中裝設(shè)有數(shù)加熱裝置，該導(dǎo)料機(jī)構(gòu)還包括有一第二動(dòng)力源，該第二動(dòng)力源是可驅(qū)使該集料筒產(chǎn)生轉(zhuǎn)動(dòng)，以改變該引料軌道與不同位置的加熱裝置對(duì)應(yīng)設(shè)置。
5.依據(jù)權(quán)利要求2所述的蒸鍍設(shè)備，其特征在于，其中該導(dǎo)料機(jī)構(gòu)的引料軌道具有伸縮功能。
6.依據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍設(shè)備，其特征在于，其中還包括有一檢知感應(yīng)器，用以檢測該儲(chǔ)料容器內(nèi)的蒸鍍源存量。
7.依據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍設(shè)備，其特征在于，其中該第一真空室的容積小于該第二真空室的容積。
專利摘要一種蒸鍍設(shè)備，具有利用一開關(guān)控制相通與否的第一真空室與第二真空室，于該第一真空室中設(shè)置有一可供定量收容蒸鍍源的喂料裝置及一可將蒸鍍源往第二真空室遞送的導(dǎo)料機(jī)構(gòu)，于該第二真空室中則設(shè)置有可收容來自該導(dǎo)料機(jī)構(gòu)的蒸鍍源并予以加熱以使蒸鍍源氣化的加熱裝置，在該開關(guān)阻隔第一真空室與第二真空室相通的情形下，位于該第一真空室中的喂料裝置可進(jìn)行新添蒸鍍源作業(yè)，該第二真空室中的加熱裝置則可不受影響地繼續(xù)進(jìn)行蒸鍍作業(yè)。
文檔編號(hào)C23C14/24GK2751034SQ20042000974
公開日2006年1月11日 申請(qǐng)日期2004年11月12日 優(yōu)先權(quán)日2004年11月12日
發(fā)明者林芠瑄, 陳奇民, 馬維山, 張錦山 申請(qǐng)人:勝華科技股份有限公司