專利名稱：用于真空處理裝置的真空室的制作方法
背景技術：
發(fā)明領域本發(fā)明涉及一種用于真空處理裝置的真空室，該真空室用于真空處理裝置，如濺射沉積裝置。
背景技術：
近年來，憑借真空處理裝置，如在由玻璃等構成的基片上形成導線等用金屬膜的濺射系統(tǒng)中沉積技術等的進步，甚至已經(jīng)能夠在大的基片上也實現(xiàn)高精度的沉積。另外，近年來，如圖8和9所示的、僅僅通過在真空中的移動就連續(xù)進行多個處理的多室真空處理裝置已經(jīng)成為主流。
圖8所示的多室真空處理裝置30包括六個環(huán)繞在其中安裝了基片自動傳送裝置31的中央傳送室32周圍的真空處理室33a、33b、33c、33d、33e和33f。另外，圖9所示的多室真空處理裝置40包括三個環(huán)繞在其中安裝了基片自動傳送裝置41的中央傳送室42周圍的真空處理室43a、43b和43c。
為此，用于真空處理裝置的真空室隨著基片尺寸的擴大而增大(例如，所謂第六代基片的長和寬為1800mm×1500mm，第七代基片的長和寬為2100mm×1850mm)。從而，由于用于真空室的機床也比常規(guī)的大，所以真空室的制造成本升高。
迄今為止，由于這個原因，提出了一種制備方法，該方法可以通過把框架狀室主體拆分為多個組件，并焊接多個分開的組件來獲得大的真空室，而不增大機床，降低制造成本，例如，見專利文獻1日本專利公開號H8-64542(圖1)。
順便說一下，上述專利文獻1中的這種制備方法在制造后不能再移動各個組件，因為真空室的側壁是通過焊接拆分為多件的組件而獲得的。因此，制造后不能改變真空室側壁的大小和形狀。
另外，在上述專利文獻1中，由于安裝在真空室側壁上表面和下表面上的頂板和底板分別是一個整體，而不是分開的，因此它們的尺寸巨大，重量也大。
由于這個原因，需要龐大的起重設施來提升該頂板和底板，因此制造成本也變高。而且，由于頂板和底板的尺寸仍然巨大，所以當以成品或組裝前產(chǎn)品的狀態(tài)將真空室運送到安裝位時，需要專用的大尺寸拖車等。
于是，本發(fā)明的目的為提供一種用于真空處理裝置的真空室，其大小和形狀在制造后可以容易地改變。
另外，本發(fā)明的目的為提供一種用于真空處理裝置的真空室，該真空室不需要大尺寸的起重設施和大尺寸的專用拖車等來運輸，即使其安裝后的尺寸很大。
發(fā)明簡述為了達到上述目的，本發(fā)明的特征在于在一種由真空處理裝置使用的真空室中，該真空室可以被自由拆分為框架狀的多邊形室主體；具有開口、且牢固而又可拆卸地連接到具有開口的室主體的至少一側的多邊形側面機架；連接到室主體和具有開口的側面機架的各頂面上的各頂板；連接到室主體和具有開口的側面機架的各底面上的各底板。
另外，本發(fā)明的特征在于在室主體中安裝一個基片自動傳送裝置，其將基片放入設于其外部的多個真空處理室中和將基片從其中取出。


圖1為說明本發(fā)明第一個實施方案的真空室的透視圖；圖2為說明本發(fā)明第一個實施方案的真空室的示意透視圖；圖3為說明本發(fā)明第二個實施方案的真空室的制造過程的圖；圖4為說明本發(fā)明第三個實施方案的真空室的制造過程的圖；圖5為說明本發(fā)明第四個實施方案的真空室的形狀的圖；圖6為說明本發(fā)明第五個實施方案的真空室的形狀的圖；圖7為說明本發(fā)明第六個實施方案的真空室的形狀的圖；圖8為說明常規(guī)實施例中多室真空處理裝置的示意平面圖；和圖9為說明常規(guī)實施例中多室真空處理裝置的示意平面圖。
參照數(shù)字說明1，13，15，17，20，22真空室
2，2a，2b，2c 室主體3a，3b，12a，12b，14a，14b，14c，14d，16，18，19，21a，21b，21c，21d 側面機架5，8頂板6 基片自動傳送裝置7，9底板優(yōu)選實施方案詳述以下，將基于所示實施方案說明本發(fā)明。
(實施方案1)圖1為說明本發(fā)明第一個實施方案的真空室的透視圖，圖2為其分解透視圖。例如，可以使用本實施方案中的用于真空處理裝置的真空室(以下稱為真空室)作為傳送室，該傳送室具有裝在擁有六個處理室的多室單基片型濺射沉積裝置(以下稱為沉積裝置)的中心部位的基片自動傳送裝置。
如圖1所示，通過在其兩側分開的橫截面形成矩形空間的中央室主體2與每個橫截面形成三角形空間的側面機架3a和3b連接，本發(fā)明第一個實施方案的真空室1形成六邊形。在室主體2和側面機架3a和3b的每個側面(共六個面)上形成用于放入和取出基片(未顯示)的開口4。室主體2和側面機架3a和3b由諸如鋁和不銹鋼這樣的金屬制成。
在框架狀矩形室主體2的頂面和底面上分別形成連接有頂板5和底板7的開口，其中，在底板7上安裝有基片自動傳送裝置6。另外，還在室主體2長邊且連有側面機架3a和3b的兩個側面上形成開口。而且，在室主體2短邊的兩個側面上形成用于放入和取出基片(未顯示)的開口4。
另外，在框架狀三角形側面機架3a和3b的頂面和底面上分別形成連接有頂板8和底板9的開口。而且，在側面機架3a和3b的長邊的兩個側面上形成連接到室主體2的側面上的開口。進一步，在側面機架3a和3b短邊的兩個側面上形成用于放入和取出基片(未顯示)的開口4。
下面，說明上述本實施方案的真空室1的制造方法。
用螺栓(未顯示)通過O形環(huán)(未顯示)將底板7連到室主體2的底座上，并用螺栓(未顯示)通過O形環(huán)(未顯示)將底板9分別連到側面機架3a和3b的底座上。然后，用螺栓11a和11b通過O形環(huán)10a和10b將這些側面機架3a和3b分別連到室主體2的兩個側面的各個開口上。
然后，把基片自動傳送裝置6安裝在連到室主體2的底板7上，此后用螺栓11c通過O形環(huán)10c把頂板5連到室主體2的頂部。然后，用螺栓11d和11e通過O形環(huán)10d和10e將頂板8分別連到側面機架3a和3b的每個頂部而制造圖1所示的六邊形真空室1。
把如上制造的真空室1安裝在有六個處理室的沉積裝置的中央，作為裝備有基片自動傳送裝置6的傳送室。通過閘閥(未顯示)將未顯示的六個處理室(裝載/卸載室、預熱室、膜形成室、基片冷卻室等)安裝在真空室1側面的每個開口4的周圍。
這樣，在本實施方案中，通過螺栓連接組裝分別分為三組的組件(其中裝有基片自動傳送裝置的室主體2，及其兩邊的側面機架3a和3b)而制得真空室。因此，例如，即使當安裝制得的真空室1后基片上的沉積過程等發(fā)生變化，仍然能夠根據(jù)處理室的增大/減小，通過打開螺栓11a和11b，從室主體2上移去三角形側面機架3a和3b，而容易地把三角形側面機架3a和3b調(diào)換為其它形狀的側面機架來改變該真空室(傳送室)的形狀。因此，能夠靈活地響應使用者的特定需求。
另外，由于能夠使用其中裝有基片自動傳送裝置6的室主體2作為還可用作其它真空室的室主體的通用組件，所以能夠預先實現(xiàn)大批量生產(chǎn)，因此能夠實現(xiàn)成本降低。
另外，在本實施方案中，通過組裝分別分為三組的組件(其中裝有基片自動傳送裝置的室主體2，及其兩側的側面機架3a和3b)而制得真空室1。于是，即使當制造使用大尺寸基片的大尺寸真空室時，仍然能夠保持分開的室主體2和側面機架3a和3b的尺寸很小。因此，由于能夠通過常規(guī)機床而不用大尺寸的定做的機床來容易地制造大尺寸的真空室，所以能夠實現(xiàn)成本降低。
而且，即使當制造使用大尺寸基片的大尺寸真空室時，仍然能夠壓縮連到分開的室主體2的頂板5的尺寸。于是，能夠減輕頂板5的重量，并進一步能夠容易地由金屬塊加工頂板5。
另外，在本實施方案中，通過拆分為三組組件(其中裝有基片自動傳送裝置的室主體2，及其兩側的側面機架3a和3b)而制得真空室1。于是，即使當制造使用大尺寸基片的大尺寸真空室時，仍然能夠保持各個組件(室主體2和側面機架3a和3b)的尺寸很小。因此，能夠容易地通過普通拖車等把每個這些分開的組件運輸?shù)桨惭b位置，并能夠在安裝位置容易地組裝它們。
(實施方案2)在第一個實施方案中，真空室具有這樣的結構通過螺栓連接把三角形的側面機架3a和3b連接到作為中心(核心)的矩形室主體2的兩側而組裝成六邊形的真空室。但是，在本實施方案中，如圖3所示，真空室具有這樣的結構通過螺栓連接把矩形的側面機架12a和12b連接到作為中心(核心)的矩形室主體2的兩側而組裝成正方形的真空室13。由于這個真空室除了使用矩形的側面機架12a和12b以外與第一個實施方案的相同，所以將省略重復的描述。
本實施方案中的正方形真空室13在各個側面上都有開口，圍著這些開口可以安裝總共四個處理室(未顯示)。
(實施方案3)在第二個實施方案中，正方形的真空室具有這樣的結構通過螺栓連接把矩形的側面機架12a和12b連接到作為中心(核心)的矩形室主體2的兩側而組裝成正方形的真空室。在本實施方案中，如圖4所示，真空室具有這樣的結構通過螺栓連接把三角形的側面機架14a、14b、14c和14d連接到第二個實施方案中獲得的正方形真空室13的各個面而組裝成八邊形的真空室15。
本實施方案中的八邊形真空室15在各個側面上都有開口，圍著這些開口可以安裝總共八個處理室(未顯示)。
(實施方案4)上述每個實施方案中，真空室都具有矩形室主體2作為中心(核心)的結構。但是，在如圖5所示的本實施方案中，五邊形的真空室17具有這樣的結構通過螺栓連接把三角形的側面機架16連接到作為中心(核心)的梯形室主體2a的一個長邊上而組裝成五邊形真空室。
本實施方案中的五邊形的真空室17在各個側面上都有開口，圍著這些開口可以安裝總共五個處理室(未顯示)。
(實施方案5)本實施方案中，如圖6所示，七邊形的真空室20具有這樣的結構通過螺栓連接把梯形的側面機架18(形狀小于室主體2b的形狀)連接到作為中心(核心)的室主體2b的一個長邊上，并通過螺栓連接把三角形的側面機架19連接到其另一個短邊上而組裝成七邊形真空室20。
本實施方案中的七邊形真空室20在各個側面上都有開口，圍著這些開口可以安裝總共七個處理室(未顯示)。
(實施方案6)本實施方案中，如圖7所示，八邊形的真空室22具有這樣的結構通過螺栓連接把三角形的側面機架21a、21b、21c和21d連接到作為中心(核心)的正方形室主體2c的各側面而組裝成八邊形真空室22。
本實施方案中的八邊形真空室22在各個側面上都有開口，圍著這些開口可以安裝總共八個處理室(未顯示)。
對于圖3-7所示的第二到第六個實施方案，即使在安裝真空室以后，也可以根據(jù)使用者的需求等調(diào)換正方形或三角形的側面機架，該側面機架通過螺栓連接與作為中心(核心)的四邊形(矩形、正方形、梯形等)室主體2、2a、2b和2c連接，其中室主體中裝有基片自動傳送裝置。因此，能夠容易地把真空室改變?yōu)槿我舛噙呅蔚男螤睢?br> 此外，特別是對于圖4所示的第三個實施方案，可以通過螺栓連接把許多側面機架12a、12b、14a、14b、14c和14d連接到其中裝有基片自動傳送裝置的四邊形(矩形)室主體2的側面上而獲得更大的真空室。因此，也能夠容易地響應更大的基片。
如上所述，本發(fā)明的真空室可以被自由拆分為框架狀的多邊形室主體；具有開口、且牢固而又可拆卸地連接到具有開口的室主體的至少一側的多邊形側面機架；連接到室主體和具有開口的側面機架的各頂面上的各頂板；連接到室主體和具有開口的側面機架的各底面上的各底板。于是，在真空室組裝并安裝后，由于能夠根據(jù)使用者的需求等，通過容易地把側面機架調(diào)換為其它多邊形側面機架而改變真空室的形狀，所以能夠靈活地響應使用者的特定要求規(guī)格。
另外，根據(jù)本發(fā)明，能夠通過組裝分開的室主體、側面機架、頂板和底板而獲得真空室。因此，即使當制造使用大尺寸基片的大尺寸真空室時，仍然能夠保持每個組件既小又輕，因為室主體、側面機架、頂板和底板是各自分開的。于是，由于可以通過常規(guī)機床而不使用大尺寸的定做機床來容易地制造大尺寸的真空室，所以能夠實現(xiàn)成本降低。
而且，即使當制造使用大尺寸基片的大尺寸真空室時，仍然能夠保持每個組件既小又輕，由于室主體、側面機架、頂板和底板是各自分開的。于是，能夠通過普通拖車等容易地把每個這些分開的組件運輸?shù)桨惭b位置，并且能夠在安裝位置容易地組裝它們。
權利要求
1.一種用于真空處理裝置的真空室，其中真空室可以被自由地拆分為框架狀的多邊形室主體；具有開口、且牢固而又可拆卸地連接到具有開口的室主體的至少一側的多邊形側面機架；連接到室主體和具有開口的側面機架的各頂面上的各頂板；連接到室主體和具有開口的側面機架的各底面上的各底板。
2.根據(jù)權利要求1的真空室，其中在室主體中安裝一個基片自動傳送裝置，該自動傳送裝置將基片放入設于其外部的多個真空處理室中并將基片從其中取出。
全文摘要
一種真空室1，其具有能夠被自由拆分為以下組件的結構矩形室主體2，通過螺栓連接可拆卸而又牢固地連接到室主體2的兩個側表面上的三角形側面機架3a和3b，連接到室主體2和具有開口的側面機架3a和3b的各頂面上的頂板5和8，和連接到室主體2和具有開口的側面機架3a和3b的各底面上的底板7和9。于是，能夠根據(jù)使用者的需要等，容易地改變真空室的形狀和大小，即使在真空室安裝之后仍能夠改變真空室的形狀和大小。
文檔編號C23C16/44GK1574232SQ20041007143
公開日2005年2月2日 申請日期2004年5月8日 優(yōu)先權日2003年5月8日
發(fā)明者浜田安雄, 咲本泰 申請人:愛發(fā)科股份有限公司