個邊緣部(端部)的部分。已通過所述管523流入所述緩沖室526e的惰性氣體隨后通過所述開口 526f流入相應的噴嘴部524中。
[0082]如圖15和16所示，每個噴嘴部524包括本體524a、阻力構(gòu)件524r、和調(diào)整構(gòu)件524bο所述本體524a構(gòu)造成圓柱狀。所述本體524a從所述傾斜壁526d傾斜地向下延伸。
[0083]所述阻力構(gòu)件524r裝配進所述本體524a的上端部(在傾斜壁526d側(cè)處的端部)內(nèi)并且位于所述本體524a中。如圖15至17所示，所述阻力構(gòu)件524r構(gòu)造成圓形的板狀形式。多個開口 524s布置在所述阻力構(gòu)件524r中。所述開口 524s為在所述本體524a的柱面中心方向上穿過所述阻力構(gòu)件524r的通孔。所述阻力構(gòu)件524r為阻力元件的一個示例，并且所述開口 524s為第二開口的一個示例。
[0084]如圖15所示，所述調(diào)整構(gòu)件524b裝配進所述本體524a的下端部(在與傾斜壁526d相對的側(cè)處的端部)并且位于所述本體524a中。所述調(diào)整構(gòu)件524b與所述阻力構(gòu)件524r分離開。也就是說，所述調(diào)整構(gòu)件524b和所述阻力構(gòu)件524r之間存在空間。
[0085]所述調(diào)整構(gòu)件524b具有面524h和524i。所述面524h朝著所述本體524a的內(nèi)部。所述面524i設(shè)置在與所述面524h相反的側(cè)處并且朝著所述本體524a的外部。
[0086]多個通道524j設(shè)置在所述調(diào)整構(gòu)件524b中。惰性氣體在通道524j中流動。所述通道524 j從所述面524h延伸到所述面524i，并在所述面524h和524i中開口。每個所述通道524j相對于所述激光L的掃描方向Dl傾斜。具體而言，每個通道524j在所述激光L的掃描方向Dl上從所述面524h朝著所述面524i延伸到向后側(cè)。所述通道524j的出口(所述面524i中的開口)構(gòu)成噴射口 524k。所述阻力構(gòu)件524r位于所述噴射口 524k和所述緩沖室526e之間。所述噴射口 524k中的至少一個在所述激光L的掃描方向Dl上相對于所述激光L的照射位置P位于前側(cè)處。
[0087]所述調(diào)整構(gòu)件524b通過所述噴射口 524k噴射惰性氣體。這樣，惰性氣體通過所述噴射口 524k中的這些噴射口 524k，即在所述激光L的掃描方向Dl上相對于每個目標物100上的所述激光L的照射位置P位于前側(cè)的噴射口 524k，從所述激光L的掃描方向Dl上的前側(cè)被噴射到所述激光L的照射位置P。具體而言，所述惰性氣體通過所述噴射口 524k中的這些噴射口 524k，即在所述激光L的掃描方向Dl上相對于每個目標物100上的所述激光L的照射位置P位于前側(cè)的噴射口 524k，從所述激光L的掃描方向Dl上的斜前側(cè)和斜上側(cè)被噴射到所述激光L的照射位置P。
[0088]在與各個通道524j的延伸方向相交的方向上通道524j的截面具有六邊形形狀，并且所述調(diào)整構(gòu)件524b構(gòu)造成具有蜂窩狀構(gòu)造。所述調(diào)整構(gòu)件524b包括形成所述通道524j的多個壁524m (面向所述通道524 j)。應當注意，在與各個所述通道524j的延伸方向相交的方向上的通道524j的截面并不限于六邊形形狀，也可以為除六邊形形狀之外的多邊形、圓形、或者類似形狀。所述調(diào)整構(gòu)件524b也被提及為噴射單元。
[0089]在具有上述構(gòu)造的噴嘴裝置522中，惰性氣體通過所述管523流入所述緩沖室526e。已流入所述緩沖室526e中的惰性氣體分配到四個噴嘴部524中。已從所述緩沖室526e流入所噴嘴部524中的惰性氣體通過所述阻力構(gòu)件524r的開口 524s流向所述調(diào)整構(gòu)件524b。然后，惰性氣體流入所述調(diào)整構(gòu)件524b的通道524j中。所述調(diào)整構(gòu)件524b通過壁524m調(diào)整在所述通道524j中流動的惰性氣體的流動。調(diào)整后的惰性氣體通過所述噴射口 524k噴出。這樣，所述惰性氣體通過所述噴射口 524k中的這些噴射口 524k，即在所述激光L的掃描方向Dl上相對于所述目標物100上的激光L的照射位置P位于前側(cè)的噴射口524k，從所述激光L的掃描方向Dl上的斜前側(cè)被噴射到所述激光L的照射位置P。所述惰性氣體使得通過所述激光L的照射產(chǎn)生于所述照射位置P并從所述照射位置P上升的煙氣110在所述激光L的掃描方向Dl上流向所述激光L的向后側(cè)。
[0090]如圖13所示，所述焊接設(shè)備501包括功率表550。所述功率表550測量激光L的強度。所述功率表550布置在所述支撐構(gòu)件511的下方。激光L穿過的開口 526g(未不出所述底壁526a中的開口 526g)布置在所述容器526的頂壁526b和底壁526a中。這些開口 526g可通過透射激光L的透射構(gòu)件閉合。在所述支撐構(gòu)件511中布置激光L穿過的開口(未示出)。所述照射裝置503可經(jīng)由所述頂壁526b和底壁526a中的相應開口 526g以及所述支撐構(gòu)件511中激光L穿過的開口用所述激光L照射所述功率表550。所述功率表550測量所照射的激光L的強度。
[0091]如上所述，在該實施方式中，所述噴嘴裝置522通過在所述激光L的掃描方向Dl上相對于所述激光L的照射位置P位于前側(cè)的所述噴射口 524k將惰性氣體噴射到所述激光L的照射位置P。通過所述激光L的照射，產(chǎn)生于所述激光L的照射位置P (焊接部)的煙氣110流到所述激光L的掃描方向Dl上的激光L的向后側(cè)。煙氣110的這樣的流動能防止所述煙氣110穿過所述激光L，從而避免由于煙氣110導致的激光L強度的降低。這種預防能確保氧化減少地更好的焊接質(zhì)量。
[0092]在該實施方式中，惰性氣體流經(jīng)的通道524 j布置于所述調(diào)整構(gòu)件524b中，并且所述調(diào)整構(gòu)件524b調(diào)整所述惰性氣體。具有這種構(gòu)造的調(diào)整構(gòu)件524b能降低在所述噴射口524k之間的惰性氣體在噴射量(流量)上的變化。
[0093]在該實施方式中，所述緩沖室526e設(shè)置在所述容器526中。所述噴嘴部524被設(shè)置用于目標物100。每個所述噴嘴部524與所述緩沖室526e連通。例如與多個噴射口直接布置在細管上的構(gòu)造相比，這種構(gòu)造能降低所述噴嘴部524之間的惰性氣體在噴射量(流量)上的變化。
[0094]在該實施方式中，所述阻力構(gòu)件524r布置在所述噴射口 524k和所述緩沖室526e之間。惰性氣體通過的所述開口 524s (第二開口)布置在所述阻力構(gòu)件524r中。這種構(gòu)造能防止惰性氣體的流動在所述緩沖室526e中受到干擾。而且，這種構(gòu)造能降低所述緩沖室526e中位置之間的壓力變化，從而降低所述噴射口 524k之間的惰性氣體在噴射量(流量)上的變化。
[0095]如上所述，上述的各個實施方式和變型能防止由于煙氣110導致的激光L強度的降低。
[0096]雖然已經(jīng)描述了特定的實施方式，但這些實施方式僅作為示例來記載，并不用于限制本發(fā)明的范圍。事實上，本文所描述的新穎的方法和系統(tǒng)可通過多種其他的形式來實現(xiàn)；而且，在不脫離本發(fā)明的主旨的前提下，可對本文中說明的方法和系統(tǒng)形式進行各種省略、替換和變型。所附的權(quán)利要求以及其等同形式用于覆蓋將落入本發(fā)明范圍和主旨中的這些形式或變型。
【主權(quán)項】
1.一種焊接設(shè)備，包括: 照射裝置，其用激光照射目標物同時掃掠所述激光；和 噴嘴裝置，其包括噴射口并且通過在所述激光的掃描方向上相對于所述照射位置位于前側(cè)處的所述噴射口將惰性氣體噴射到在所述目標物上的所述激光照射位置。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的焊接設(shè)備，其特征在于，所述噴嘴裝置包括調(diào)整單元，所述調(diào)整單元設(shè)置有所述惰性氣體流動通過的多個通道并且調(diào)整所述惰性氣體。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的焊接設(shè)備，其特征在于，所述噴嘴裝置包括緩沖室和多個噴射口，所述惰性氣體流動進入所述緩沖室，并且從所述緩沖室流出的所述惰性氣體通過所述噴射口被噴射。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的焊接設(shè)備，其特征在于，所述噴嘴裝置包括容納在所述緩沖室中并且包括第一開口的管，所述第一開口在與所述噴射口側(cè)不同的方向上開口，并且惰性氣體通過所述第一開口流出。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的焊接設(shè)備，其特征在于， 所述噴嘴裝置包括第一部分和第二部分，所述第一部分包括所述噴射口并且面對所述緩沖室，所述第二部分設(shè)置在所述第一部分的相對側(cè)處并且面對所述緩沖室； 所述管位于所述第一部分和所述第二部分之間；以及 所述第一開口向所述第二部分的一側(cè)開口。6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的焊接設(shè)備，其特征在于，所述噴嘴裝置包括: 包括所述緩沖室的容器；和 噴嘴部，所述噴嘴部包括所述噴射口，與所述緩沖室連通并且設(shè)置用于多個所述目標物中的每個。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的焊接設(shè)備，其特征在于，還包括阻力元件，所述阻力元件包括所述惰性氣體穿過的多個第二開口，并且設(shè)置在所述緩沖室和所述噴射口之間。8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的焊接設(shè)備，其特征在于，還包括管道，所述管道相對于所述目標物位于所述噴嘴裝置的相對側(cè)處，并且抽吸從所述噴嘴裝置噴射的惰性氣體。9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的焊接設(shè)備，其特征在于， 所述噴嘴裝置從在所述掃描方向上的斜前側(cè)噴射惰性氣體到所述照射位置，以及 所述管道包括將惰性氣體引導至在所述掃描方向上的所述照射位置的斜后側(cè)的導向部。10.一種噴嘴裝置，其包括噴嘴部，所述噴嘴部相對于照射位置從激光的掃描方向上的前側(cè)將惰性氣體噴射到激光照射位置，所述激光被發(fā)射到被掃掠的目標物。
【專利摘要】根據(jù)一個實施方式，一種焊接設(shè)備包括照射裝置和噴嘴裝置。照射裝置用激光照射目標物并同時掃描該激光。噴嘴裝置包括噴射口并通過相對于照射位置在激光的掃描方向上位于前側(cè)處的所述噴射口將惰性氣體噴射到目標物上的激光照射位置。
【IPC分類】B23K26/12, B23K26/70
【公開號】CN105499815
【申請?zhí)枴緾N201510644539
【發(fā)明人】川田義高, 岡田直忠, 矢作進
【申請人】株式會社東芝
【公開日】2016年4月20日
【申請日】2015年10月8日
【公告號】US20160101483