本技術(shù)涉及鐳雕裝置，具體地，涉及一種用于圓柱面的鐳雕設(shè)備。

背景技術(shù)：

1、鐳雕機(jī)是利用鐳射光束在物質(zhì)表面或是透明物質(zhì)內(nèi)部雕刻出永久的印記。鐳射光束對(duì)物質(zhì)可以產(chǎn)生化生效應(yīng)與特理效應(yīng)兩種，當(dāng)物質(zhì)瞬間吸收鐳射光后產(chǎn)生物理或化學(xué)反應(yīng)，從而刻痕跡或是顯示出圖案或是文字。所以又稱為激光打標(biāo)機(jī)、激光雕刻機(jī)。

2、現(xiàn)有公告號(hào)為cn104889572b的中國(guó)專利申請(qǐng)文獻(xiàn)，其公開了一種鐳雕機(jī)，包括箱體、交流穩(wěn)壓器、視覺定位系統(tǒng)、鐳雕機(jī)系統(tǒng)、預(yù)定位模組、導(dǎo)正模組、安全系統(tǒng)，支撐臺(tái)、排風(fēng)系統(tǒng)以及控制系統(tǒng)；視覺定位系統(tǒng)與設(shè)置在支撐臺(tái)上的視覺定位系統(tǒng)運(yùn)動(dòng)導(dǎo)軌滑動(dòng)連接，視覺定位系統(tǒng)沿著支撐臺(tái)上的視覺定位系統(tǒng)運(yùn)動(dòng)導(dǎo)軌做x向運(yùn)動(dòng)；導(dǎo)正模組固定在鐳雕機(jī)系統(tǒng)下方的支撐臺(tái)上；預(yù)定位模組設(shè)置在導(dǎo)正模組下方，預(yù)定位模組與設(shè)置在支撐臺(tái)上的預(yù)定位模組運(yùn)動(dòng)導(dǎo)軌滑動(dòng)連接；預(yù)定位模組沿著預(yù)定位模組運(yùn)動(dòng)做y向運(yùn)動(dòng)。

3、現(xiàn)有技術(shù)中的鐳雕機(jī)在對(duì)圓柱面進(jìn)行加工時(shí)，上下料不便，加工效率低，存在待改進(jìn)之處。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中的缺陷，本實(shí)用新型的目的是提供一種用于圓柱面的鐳雕設(shè)備。

2、根據(jù)本實(shí)用新型提供的一種用于圓柱面的鐳雕設(shè)備，包括機(jī)架和設(shè)置在機(jī)架上的料倉(cāng)、循環(huán)振動(dòng)盤上料器、鐳雕平臺(tái)、鐳雕機(jī)以及下料裝置；所述料倉(cāng)的出料口位于循環(huán)振動(dòng)盤上料器的上方，所述循環(huán)振動(dòng)盤上料器的出料口與鐳雕平臺(tái)連通，所述鐳雕機(jī)的鐳雕頭位于鐳雕平臺(tái)的上方；所述下料裝置設(shè)置在鐳雕平臺(tái)上用于將物料推出鐳雕平臺(tái)。

3、優(yōu)選地，所述循環(huán)振動(dòng)盤上料器包括第一振動(dòng)盤、第二振動(dòng)盤以及上料軌道；所述第一振動(dòng)盤和第二振動(dòng)盤二者呈相鄰設(shè)置，所述第一振動(dòng)盤水平設(shè)置在料倉(cāng)出料口的下方，所述第二振動(dòng)盤自遠(yuǎn)離料倉(cāng)的一端向靠近料倉(cāng)的一端逐漸抬升，所述第二振動(dòng)盤的上端與上料軌道連通；所述上料軌道的走向?yàn)樽缘诙駝?dòng)盤的上端繞過第一振動(dòng)盤靠近料倉(cāng)的一端，并繞過第一振動(dòng)盤遠(yuǎn)離第二振動(dòng)盤的側(cè)邊與鐳雕平臺(tái)連通。

4、優(yōu)選地，所述第一振動(dòng)盤的振動(dòng)方向?yàn)樽钥拷蟼}(cāng)的一端向遠(yuǎn)離料倉(cāng)的一端振動(dòng)；所述第二振動(dòng)盤的振動(dòng)方向?yàn)樽赃h(yuǎn)離料倉(cāng)的一端向靠近料倉(cāng)的一端振動(dòng)。

5、優(yōu)選地，所述上料軌道包括弧形段和直線段，所述弧形段與直線段連通，所述直線段與鐳雕平臺(tái)連通；所述上料軌道的弧形段包括弧形板，所述弧形板自第二振動(dòng)盤的上端繞過第一振動(dòng)盤靠近料倉(cāng)的一端，并繞至第一振動(dòng)盤遠(yuǎn)離第二振動(dòng)盤的側(cè)邊；所述弧形板的一端與循環(huán)振動(dòng)盤上料器的周側(cè)殼體緊固連接，所述弧形板的另一端延伸至直線段，且所述弧形板延伸至直線段的一端通過間隙調(diào)節(jié)組件與循環(huán)振動(dòng)盤上料器的周側(cè)殼體連接。

6、優(yōu)選地，所述上料軌道弧形段的底面沿所述弧形板的走向，自靠近所述第二振動(dòng)盤抬升端的一側(cè)向遠(yuǎn)離第二振動(dòng)盤抬升端的一側(cè)逐漸傾斜向下。

7、優(yōu)選地，所述間隙調(diào)節(jié)組件包括連接桿和固定螺母，所述連接桿的一端與循環(huán)振動(dòng)盤上料器的周側(cè)殼體緊固連接，所述弧形板延伸至直線段的一端穿入連接桿并與其滑移配合，所述固定螺母在弧形板的兩側(cè)分別設(shè)置有一個(gè)，且兩個(gè)所述固定螺母均與連接桿螺紋連接。

8、優(yōu)選地，所述鐳雕平臺(tái)上設(shè)置有引導(dǎo)軌道，所述引導(dǎo)軌道連通循環(huán)振動(dòng)盤上料器的出料口和位于鐳雕頭正下方的鐳雕工位。

9、優(yōu)選地，所述下料裝置包括伸縮氣缸和隨動(dòng)塊，所述伸縮氣缸的缸體固定安裝在機(jī)架上，所述伸縮氣缸的運(yùn)動(dòng)方向垂直于引導(dǎo)軌道的長(zhǎng)度方向，所述隨動(dòng)塊與伸縮氣缸的活動(dòng)端固定連接，且所述隨動(dòng)塊延伸至鐳雕工位。

10、優(yōu)選地，所述鐳雕工位的任意一側(cè)設(shè)置有下料引導(dǎo)板。

11、優(yōu)選地，所述鐳雕工位的底板上設(shè)置有傳感器。

12、與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型具有如下的有益效果：

13、1、本實(shí)用新型通過料倉(cāng)和循環(huán)振動(dòng)盤上料器配合將圓柱型物料輸送至鐳雕平臺(tái)上的鐳雕工位，鐳雕機(jī)對(duì)位移鐳雕工位的圓柱型物料進(jìn)行鐳雕作業(yè)，鐳雕完成后，伸縮氣缸帶動(dòng)隨動(dòng)塊將處于鐳雕工位的圓柱型物料推出鐳雕平臺(tái)，實(shí)現(xiàn)了對(duì)鐳雕設(shè)備的上下料，有助于提高鐳雕設(shè)備的工作效率。

14、2、本實(shí)用新型通過間隙調(diào)節(jié)組件調(diào)節(jié)上料軌道直線段的通過間隙，有助于實(shí)現(xiàn)將預(yù)定姿態(tài)的圓柱型物料輸送至鐳雕平臺(tái)上的鐳雕工位。

15、3、本實(shí)用新型通過將鐳雕平臺(tái)設(shè)置為傾斜狀態(tài)，并且使鐳雕時(shí)，隨動(dòng)塊位于鐳雕工位的下側(cè)，有助于提高圓柱型物料在鐳雕工位上放置的穩(wěn)定性。

技術(shù)特征：

1.一種用于圓柱面的鐳雕設(shè)備，其特征在于，包括機(jī)架(1)和設(shè)置在機(jī)架(1)上的料倉(cāng)(2)、循環(huán)振動(dòng)盤上料器(3)、鐳雕平臺(tái)(4)、鐳雕機(jī)(5)以及下料裝置(6)；

2.如權(quán)利要求1所述的用于圓柱面的鐳雕設(shè)備，其特征在于，所述循環(huán)振動(dòng)盤上料器(3)包括第一振動(dòng)盤(31)、第二振動(dòng)盤(32)以及上料軌道(33)；

3.如權(quán)利要求2所述的用于圓柱面的鐳雕設(shè)備，其特征在于，所述第一振動(dòng)盤(31)的振動(dòng)方向?yàn)樽钥拷蟼}(cāng)(2)的一端向遠(yuǎn)離料倉(cāng)(2)的一端振動(dòng)；

4.如權(quán)利要求2所述的用于圓柱面的鐳雕設(shè)備，其特征在于，所述上料軌道(33)包括弧形段(331)和直線段(332)，所述弧形段(331)與直線段(332)連通，所述直線段(332)與鐳雕平臺(tái)(4)連通；

5.如權(quán)利要求4所述的用于圓柱面的鐳雕設(shè)備，其特征在于，所述上料軌道(33)弧形段(331)的底面沿所述弧形板(34)的走向，自靠近所述第二振動(dòng)盤(32)抬升端的一側(cè)向遠(yuǎn)離第二振動(dòng)盤(32)抬升端的一側(cè)逐漸傾斜向下。

6.如權(quán)利要求4所述的用于圓柱面的鐳雕設(shè)備，其特征在于，所述間隙調(diào)節(jié)組件(7)包括連接桿(71)和固定螺母(72)，所述連接桿(71)的一端與循環(huán)振動(dòng)盤上料器(3)的周側(cè)殼體緊固連接，所述弧形板(34)延伸至直線段(332)的一端穿入連接桿(71)并與其滑移配合，所述固定螺母(72)在弧形板(34)的兩側(cè)分別設(shè)置有一個(gè)，且兩個(gè)所述固定螺母(72)均與連接桿(71)螺紋連接。

7.如權(quán)利要求1所述的用于圓柱面的鐳雕設(shè)備，其特征在于，所述鐳雕平臺(tái)(4)上設(shè)置有引導(dǎo)軌道(41)，所述引導(dǎo)軌道(41)連通循環(huán)振動(dòng)盤上料器(3)的出料口和位于鐳雕頭正下方的鐳雕工位(42)。

8.如權(quán)利要求7所述的用于圓柱面的鐳雕設(shè)備，其特征在于，所述下料裝置(6)包括伸縮氣缸(61)和隨動(dòng)塊(62)，所述伸縮氣缸(61)的缸體固定安裝在機(jī)架(1)上，所述伸縮氣缸(61)的運(yùn)動(dòng)方向垂直于引導(dǎo)軌道(41)的長(zhǎng)度方向，所述隨動(dòng)塊(62)與伸縮氣缸(61)的活動(dòng)端固定連接，且所述隨動(dòng)塊(62)延伸至鐳雕工位(42)。

9.如權(quán)利要求7所述的用于圓柱面的鐳雕設(shè)備，其特征在于，所述鐳雕工位(42)的任意一側(cè)設(shè)置有下料引導(dǎo)板(8)。

10.如權(quán)利要求7所述的用于圓柱面的鐳雕設(shè)備，其特征在于，所述鐳雕工位(42)的底板上設(shè)置有傳感器。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)提供了一種用于圓柱面的鐳雕設(shè)備,涉及鐳雕裝置技術(shù)領(lǐng)域，包括機(jī)架和設(shè)置在機(jī)架上的料倉(cāng)、循環(huán)振動(dòng)盤上料器、鐳雕平臺(tái)、鐳雕機(jī)以及下料裝置；所述料倉(cāng)的出料口位于循環(huán)振動(dòng)盤上料器的上方，所述循環(huán)振動(dòng)盤上料器的出料口與鐳雕平臺(tái)連通，所述鐳雕機(jī)的鐳雕頭位于鐳雕平臺(tái)的上方；所述下料裝置設(shè)置在鐳雕平臺(tái)上用于將物料推出鐳雕平臺(tái)。通過料倉(cāng)和循環(huán)振動(dòng)盤上料器配合將圓柱型物料輸送至鐳雕平臺(tái)上的鐳雕工位，鐳雕機(jī)對(duì)位移鐳雕工位的圓柱型物料進(jìn)行鐳雕作業(yè)，鐳雕完成后，伸縮氣缸帶動(dòng)隨動(dòng)塊將處于鐳雕工位的圓柱型物料推出鐳雕平臺(tái)，實(shí)現(xiàn)了對(duì)鐳雕設(shè)備的上下料，有助于提高鐳雕設(shè)備的工作效率。

技術(shù)研發(fā)人員：張權(quán),呂明高
受保護(hù)的技術(shù)使用者：上海安稷軟件科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20231225
技術(shù)公布日：2024/12/17