1.一種用于對第一透明導電層和第二透明導電層進行激光刻劃的方法，所述第一透明導電層和所述第二透明導電層分別沉積在透明基板的相對的第一表面和第二表面上，所述方法包括：
引導第一激光束通過一個或多個透鏡到位于所述基板的所述第一表面上的或與所述基板的所述第一表面緊鄰的焦斑，使得聚焦的激光束穿過所述第二導電層和所述基板的所述第二表面；
沿著與所述第一激光束的軸線正交的平面中的兩個軸線引起所述第一激光束和所述基板之間的相對運動，從而在所述第一導電層中刻劃出第一圖案；
引導第二激光束通過一個或多個透鏡到位于所述基板的所述第二表面上的或與所述基板的所述第二表面緊鄰的焦斑，使得聚焦的激光束穿過所述第一導電層和所述基板的所述第一表面；
沿著與所述第二激光束的軸線正交的平面中的兩個軸線引起所述第二激光束和所述基板之間的相對運動，從而在所述第二導電層中刻劃出第二圖案。
2.根據(jù)權利要求1所述的方法，其中，所述第一激光束和所述第二激光束相同，且所述方法進一步包括：
在所述第一導電層中刻劃出所述第一圖案之后，將所述基板從所述基板的第二表面面向激光束的位置移動到基板的所述第一表面面向激光束的位置。
3.根據(jù)權利要求1所述的方法，其中，從所述基板的相對側施加所述第一激光束和所述第二激光束。
4.根據(jù)權利要求3所述的方法，其中，通過所述第一激光和所述第二激光對所述第一導電層和所述第二導電層的刻劃是同時進行的。
5.根據(jù)權利要求1～4中任一項所述的方法，其中，所述第一激光束和所述第二激光束的波長在1000nm至1100nm之間的范圍內(nèi)。
6.根據(jù)權利要求1～5中任一項所述的方法，其中，所述第一圖案與所述第二圖案不同。
7.根據(jù)權利要求1～6中任一項所述的方法，其中，所述第一圖案與所述第二圖案相同。
8.根據(jù)權利要求1～7中任一項所述的方法，其中，所述第一激光束能夠從所述基板去除所述第一導電層的閾值能量密度低于所述第一激光束能夠從基板去除所述第二導電層的閾值能量密度，
所述第二激光束能夠從所述基板去除所述第二導電層的閾值能量密度低于所述第二激光束能夠從所述基板去除所述第一電導層的閾值能量密度。
9.根據(jù)權利要求1～8中任一項所述的方法，其中，在對應于所述第一導電層的位置處所述第一激光束的能量密度超過所述第一激光束從所述基板去除所述第一導電層所需的閾值能量密度，且在對應于所述第二導電層的位置處所述第一激光束的能量密度不超過所述第一激光束從所述基板去除所述第二導電層所需的閾值能量密度，以及
在對應于第二導電層的位置處所述第二激光束的能量密度超過所述第二激光束從所述基板去除所述第二導電層所需的閾值能量密度，且在對應于所述第一導電層的位置處所述第二激光束的能量密度不超過所述第二激光束從所述基板去除所述第一導電層所需的閾值能量密度。
10.根據(jù)權利要求1～9中任一項所述的方法，其中，用于通過所述第一激光束或所述第二激光束分別刻劃所述第一導電層或所述第二導電層的工藝窗口大于用于通過所述第二激光束或所述第一激光束分別刻劃所述第一導電層或所述第二導電層的工藝窗口，其中，工藝窗口定義為激光束相對于待刻劃的目標導電層的聚焦位置的范圍，在工藝窗口內(nèi)，激光束能夠刻劃目標導電層而不刻劃相對的導電層。
11.根據(jù)權利要求1～10中任一項所述的方法，其中，用于通過所述第一激光束或所述第二激光束分別刻劃所述第一導電層或所述第二導電層的工藝窗口超過待刻劃的目標導電層在刻劃激光束軸線方向上的位置變化，和/或刻劃激光束的焦平面在刻劃激光束軸線方向上的位置變化，或待刻劃的目標導電層在刻劃激光束軸線方向上的位置與刻劃激光束的焦平面在刻劃激光束軸線方向上的位置的組合變化，其中，工藝窗口定義為激光束相對于待刻劃的目標導電層的聚焦位置的范圍，在工藝窗口內(nèi)，激光束能夠刻劃目標導電層而不刻劃相對的導電層。
12.根據(jù)權利要求1～11中任一項所述的方法，其中，所述第一導電層和所述第二導電層由相同的材料形成。
13.根據(jù)權利要求12所述的方法，其中，所述第一導電層和所述第二導電層由氧化銦錫形成。
14.根據(jù)權利要求1～13中任一項所述的方法，其中，所述基板的厚度等于或小于1.5mm。
15.根據(jù)權利要求1～14中任一項所述的方法，所述方法進一步包括：
引導所述第一激光束通過一個或多個透鏡到位于所述基板的所述第二表面上的或與所述基板的所述第二表面緊鄰的焦斑；
沿著與所述第一激光束的軸線正交的平面中的兩個軸線引起所述第一激光束和所述基板之間的相對運動，從而在第一金屬層中刻劃出第三圖案，所述第一金屬層布置在所述第二導電層上或介于所述第二導電層和所述基板之間；
引導第二激光束通過一個或多個透鏡到位于所述基板的所述第一表面上或與所述基板的所述第一表面緊鄰的焦斑；
沿著與所述第一激光束的軸線正交的平面中的兩個軸線引起所述第二激光束和所述基板之間的相對運動，從而在第二金屬層中刻劃出第四圖案，所述第二金屬層布置在所述第一導電層上或介于所述第一導電層和所述基板之間。