本發(fā)明涉及尤其地用于機(jī)動(dòng)車(chē)輛的光束投射裝置，和設(shè)置有該投射裝置的近光束或遠(yuǎn)光束類(lèi)型的光束前燈。

背景技術(shù)：

機(jī)動(dòng)車(chē)輛前燈設(shè)置有一個(gè)或多個(gè)光學(xué)模塊，一個(gè)或多個(gè)光學(xué)模塊布置在由前透鏡密封的殼體中以在前燈的輸出端處獲得一個(gè)或多個(gè)光束。簡(jiǎn)單的說(shuō)，殼體的光學(xué)模塊特別包括例如一個(gè)(或多個(gè))發(fā)光二極管的光源和光學(xué)系統(tǒng)，所述光源發(fā)射光線，所述光學(xué)系統(tǒng)包括一個(gè)或多個(gè)透鏡并且如果適當(dāng)還包括反射器，以定向來(lái)自光源的光線以形成光學(xué)模塊的輸出光束。

已知一些機(jī)動(dòng)車(chē)輛前燈能夠根據(jù)車(chē)輛的司機(jī)的需要改變光束的定向。因而，當(dāng)車(chē)輛執(zhí)行轉(zhuǎn)向時(shí)，車(chē)載電子系統(tǒng)命令改變光束的定向以在操作過(guò)程中使定向適應(yīng)司機(jī)的視場(chǎng)。前燈然后在車(chē)輛的轉(zhuǎn)動(dòng)方向上移動(dòng)光束的軸線以照明道路而不是向前筆直地投射光束。

其它已知的前燈可以用相同的光源執(zhí)行近光束和遠(yuǎn)光束功能。為此，前燈使用機(jī)械裝置，所述機(jī)械裝置顯示稱(chēng)為光束彎曲器的元件以截止光束的一部分。此外，還具有針對(duì)高速公路設(shè)計(jì)的近光束類(lèi)型的照明，當(dāng)車(chē)輛在高速公路上移動(dòng)時(shí)，所述照明光束稍微地高于通常的近光束的截止部來(lái)傳輸以改善道路能見(jiàn)度。

因而，期望能夠控制由源發(fā)出的光線以改變離開(kāi)前燈的光束的尺寸并且管理以執(zhí)行所有上述功能。

為實(shí)現(xiàn)該目的，文件de102008061556描述設(shè)置有發(fā)光二極管的矩陣的照明裝置，每個(gè)二極管是可單獨(dú)訪問(wèn)的。二極管在彼此旁邊布置，每個(gè)二極管發(fā)射離開(kāi)前燈的光束的一部分。該裝置因而使得可以通過(guò)激活發(fā)光二極管的與需要光束尺寸對(duì)應(yīng)的比例來(lái)控制光束的尺寸。

然而，當(dāng)前的二極管矩陣使得不可以獲得均一的光束。實(shí)際上，因?yàn)槎O管間隔開(kāi)最小距離，因此在構(gòu)成總光束的不同光束之間出現(xiàn)間隙，該間隙對(duì)應(yīng)于二極管的間隔。

此外，在當(dāng)前的照明系統(tǒng)中，需要光束的增加的分辨率，對(duì)于像素?cái)?shù)量的需要因此是極大的。因而，范圍從100到600甚至更多的光源的數(shù)量必須足夠多以滿足該需要。

現(xiàn)在，包括該多個(gè)源的二極管矩陣具有多個(gè)額外的缺點(diǎn)。第一缺點(diǎn)在于該組件的生產(chǎn)成本，因?yàn)橐环矫妫淮罅康厣a(chǎn)組件，并且另一方面，因?yàn)榻M件是較復(fù)雜的，所以其產(chǎn)品是更昂貴的。第二缺點(diǎn)源于該矩陣的易碎性，該矩陣要求處理時(shí)特別小心以避免任何損壞。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明因此旨在獲得被構(gòu)造成投射其尺寸和定向可以被改變并且避免上述缺陷的光束的光學(xué)模塊。

為此，本發(fā)明涉及尤其地用于機(jī)動(dòng)車(chē)輛的光學(xué)光束投射裝置，所述光學(xué)光束投射裝置包括在光線的傳播方向上的上游的一組至少兩個(gè)相關(guān)聯(lián)的子矩陣以及在下游的設(shè)置有多個(gè)會(huì)聚光學(xué)部件的主光學(xué)系統(tǒng)，每個(gè)子矩陣都設(shè)置有能夠發(fā)射光線的主光源，至少一個(gè)會(huì)聚光學(xué)部件與每個(gè)子矩陣相關(guān)聯(lián)并且布置在其下游，兩個(gè)相鄰會(huì)聚光學(xué)部件的光學(xué)軸線之間的間隔分別地對(duì)應(yīng)于對(duì)應(yīng)相鄰子矩陣的中心之間的間隔。

此外，在本申請(qǐng)中，主光源的矩陣應(yīng)該理解為表示根據(jù)至少兩列乘以至少兩行，優(yōu)選地至少十列乘以至少三行布置的一組主光源。

由以行或列布置的至少兩個(gè)主光源組成的組件然后稱(chēng)為子矩陣。例如，子矩陣可以包括一行和兩列二極管。優(yōu)選地，子矩陣可以包括至少兩行和至少兩列二極管。有利地，實(shí)現(xiàn)的源的矩陣可以由數(shù)個(gè)不同尺寸的子矩陣組成。

為測(cè)量間隔，將尤其地采用在與主光源的發(fā)射表面平行的平面上的正交投影中的位置。如果子矩陣定位在第一平面中，并且會(huì)聚光學(xué)部件使其光學(xué)軸線與穿過(guò)所述光學(xué)部件的、優(yōu)選地平行于第一平面的第二平面成直角，將在每個(gè)考慮的平面上，或如果兩個(gè)平面是平行的則在第一平面和第二平面中的僅一個(gè)上，的投影中測(cè)量相應(yīng)的間隔。

有利地，會(huì)聚光學(xué)部件被構(gòu)造成形成子矩陣的虛像，虛像形成在主光源的子矩陣的上游，使得虛像的尺寸大于子矩陣的尺寸。

另外，與在主光源的下游實(shí)現(xiàn)主光源的實(shí)像的裝置相比，虛像的形成使得可以沿著裝置的光學(xué)軸線獲得更好的緊湊性。

因而，本發(fā)明使得可以使用和關(guān)聯(lián)子矩陣以形成較大尺寸的光源的矩陣。制造該單件式矩陣(整體矩陣)的需要因而被避免，這使得可以降低生產(chǎn)成本，并且減少損壞情況下的損耗。此外，在無(wú)需每次制造適當(dāng)尺寸的較大矩陣的情況下，通過(guò)根據(jù)需要并置子矩陣，子矩陣的組件的尺寸可以容易地被選擇。

此外，因?yàn)樘撓裥纬稍诠庠吹淖泳仃嚨纳嫌?，因此虛像被放大并且因此最小化由不同子矩陣的源生成的光束之間的間隙。在優(yōu)選的實(shí)施例中，主光學(xué)系統(tǒng)被構(gòu)造成使得虛像被并置或大致地并置，因而生成光在子矩陣之間、并且在子矩陣內(nèi)、在構(gòu)成所述子矩陣的源之間的分布的良好均一性。

根據(jù)本發(fā)明的將能夠一起或分別使用的不同實(shí)施例:

主光學(xué)系統(tǒng)被布置成使得子矩陣的虛像大致地相鄰以形成均一的光分布，

主光學(xué)系統(tǒng)被構(gòu)造成在平面中形成虛像，

會(huì)聚光學(xué)部件布置在每個(gè)主光源下游；

每個(gè)會(huì)聚光學(xué)部件都包括會(huì)聚輸入微屈光部；

每個(gè)會(huì)聚光學(xué)部件都包括具有至少一個(gè)凸面部分的輸入微屈光部；

會(huì)聚輸入微型屈光部具有平坦表面，

主光學(xué)系統(tǒng)包括用于所有會(huì)聚光學(xué)部件或所有輸入微屈光部的單個(gè)輸出屈光部，

輸出屈光部被構(gòu)造成校正光學(xué)像差，

輸出屈光部具有大致球面形式，

輸出屈光部具有細(xì)長(zhǎng)形式，具有雙焦點(diǎn)清晰度；

主光學(xué)系統(tǒng)包括用于每個(gè)輸入微屈光部的輸出微屈光部，以獲得作為光學(xué)部件的雙凸面透鏡，

主光學(xué)系統(tǒng)包括用于每個(gè)子矩陣的輸出屈光部，

主光學(xué)系統(tǒng)由單種材料制成，即其各種構(gòu)成元件都是相同材料的；

主光學(xué)系統(tǒng)包括兩個(gè)分離的光學(xué)元件，每個(gè)光學(xué)元件由相同材料制成，第一光學(xué)元件包括輸入屈光部，第二光學(xué)元件包括輸出屈光部，

主光源是發(fā)光二極管。

在本發(fā)明的情況下，微屈光部用于指定屈光部，所述屈光部的外部尺寸小于或等于主光源的尺寸或主光源的相關(guān)聯(lián)子矩陣的尺寸的5倍。它們通常是毫米量級(jí)的大小。因而，例如，對(duì)于其發(fā)射表面具有1mm的側(cè)邊測(cè)量值的單獨(dú)發(fā)光二極管(led)，相關(guān)聯(lián)屈光部的尺寸在具有5mm的最大側(cè)邊直徑的正方形中。如果主光源由leds的子矩陣組成，則將考慮子矩陣的尺寸。

此外，如果主光源都是相同尺寸的，則將可以為所有的微屈光部設(shè)置相同尺寸。有利地然而，還將可以提供與位于矩陣邊緣、尤其地位于外側(cè)末端處的源相關(guān)聯(lián)的比其他屈光部尺寸更大的屈光部，以形成側(cè)向地和豎直地細(xì)長(zhǎng)的虛像，所述虛像將給出比其他光模式的尺寸更大的投射光模式，尤其地以產(chǎn)生人行道的照明。

本發(fā)明還涉及包括諸如投射透鏡或反射器的該投射裝置和投射構(gòu)件的光學(xué)模塊，投射裝置和投射構(gòu)件在光束的投射方向上布置在主光學(xué)系統(tǒng)的下游，投射構(gòu)件能夠投射來(lái)自虛像的光束，所述虛像用作用于投射構(gòu)件的光源，并且所述投射構(gòu)件聚焦在所述虛像上。

本發(fā)明的該最后一個(gè)特征是特別有趣的和有利的。實(shí)際上，投射構(gòu)件在虛像上尤其地在包括所述虛像的平面上的聚焦，使得光學(xué)投射模塊對(duì)主光學(xué)系統(tǒng)的生產(chǎn)缺陷不敏感:如果投射構(gòu)件聚焦在屈光部的表面上，則該表面被成像并且因此所有其生產(chǎn)缺陷是可見(jiàn)的，生產(chǎn)缺陷可以在投射的光束中生成均一性的缺陷或色差的缺陷。此外，這使得可以使用與主光學(xué)部件關(guān)聯(lián)的光源的子矩陣，每個(gè)源和/或源的子矩陣被分別成像。

本發(fā)明還涉及設(shè)置有該光學(xué)模塊的機(jī)動(dòng)車(chē)輛前燈。

附圖說(shuō)明

將根據(jù)以下描述伴隨附圖更好理解本發(fā)明，所述描述僅作為指示給出并且所述描述的目標(biāo)不受限于此:

-圖1示意性地圖示根據(jù)本發(fā)明的投射模塊的第一實(shí)施例的透視圖，

-圖2示意性地圖示圖1的投射模塊的一部分的放大透視圖，

-圖3示意性地圖示在圖2的投射模塊的部分上的虛像的形成的透視圖，

-圖4示意性地圖示根據(jù)本發(fā)明的投射模塊的第一實(shí)施例的側(cè)視圖，

-圖5示意性地圖示根據(jù)本發(fā)明的投射模塊的第二實(shí)施例的第一變化例的側(cè)視圖，

-圖6示意性地圖示根據(jù)本發(fā)明的投射模塊的第二實(shí)施例的第二變化例的側(cè)視圖，

-圖7示意性地圖示根據(jù)本發(fā)明的投射模塊的第二實(shí)施例的第三變化例的側(cè)視圖，

-圖8示意性地圖示根據(jù)本發(fā)明的投射模塊的第二實(shí)施例的第四變化例的側(cè)視圖，

-圖9示意性地圖示根據(jù)本發(fā)明的投射模塊的第二實(shí)施例的第五變化例的側(cè)視圖，

-圖10示意性地圖示第一實(shí)施例的產(chǎn)品變化例的側(cè)視圖，

-圖11示意性地圖示光源的矩陣的第一類(lèi)型的正視圖，

-圖12示意性地圖示光源的矩陣的第二類(lèi)型的正視圖，

-圖13示意性地圖示光源的矩陣的第三類(lèi)型的正視圖，

-圖14示意性地圖示光源的矩陣的第四類(lèi)型的正視圖。

具體實(shí)施方式

圖1到圖4示出尤其地用于機(jī)動(dòng)車(chē)輛的光學(xué)光束投射模塊1的第一實(shí)施例。在光線沿著光學(xué)軸線15的傳播方向上從上游到下游，模塊1包括，能夠發(fā)射光線的主光源8的矩陣2、透射光線的主光學(xué)系統(tǒng)4、和被構(gòu)造成投射來(lái)自被主光學(xué)系統(tǒng)4透射的入射光線的光束的投射構(gòu)件。

在圖中，投射構(gòu)件采取單個(gè)投射透鏡3的形式。然而可以通過(guò)配置有多個(gè)透鏡、多個(gè)反射器的關(guān)聯(lián)或甚至一個(gè)或多個(gè)透鏡和/或一個(gè)或多個(gè)反射器的組合形成投射構(gòu)件。

主光源8例如是在矩陣2上形成陣列的發(fā)光二極管，如圖2所示。發(fā)光二極管的這些矩陣2是已知的并且可在市場(chǎng)上獲得。

主光學(xué)系統(tǒng)4的功能是傳輸來(lái)自二極管的光線使得，當(dāng)與此處成投射透鏡3的形式的投射構(gòu)件組合時(shí)，投射到模塊外例如到道路上的光束是均一的。為此，主光學(xué)系統(tǒng)4設(shè)置有優(yōu)選地是會(huì)聚輸入微屈光部5的多個(gè)會(huì)聚光學(xué)部件。此處，輸入微屈光部5具有凸表面，即輸入微屈光部5朝源8向外成圓頂形。表面然而可以是平坦的、平坦-凸面的或凹面-凸面的。輸入微屈光部5有利地布置在每個(gè)光源8下游，即每個(gè)發(fā)光二極管或矩陣2的二極管的子矩陣下游，如圖2所示。輸入微屈光部5形成主光源8的虛像6，如圖3所示。

虛像6形成在主光源8的矩陣2的上游，并且因而用作用于投射透鏡的新光源。獲得的虛像6被放大和優(yōu)選地大致地是相鄰的。換句話說(shuō)，虛像6不被極大的空間分離。此外，相鄰的虛像可以與彼此輕微重疊，這將轉(zhuǎn)換成投射構(gòu)件的其相應(yīng)的投影的重疊，該重疊在放置于距裝置25m的屏幕上被測(cè)量，該重疊將優(yōu)選地小于1°。實(shí)際上，在設(shè)計(jì)主光學(xué)系統(tǒng)時(shí)，將試圖確保虛像從旁軸觀察點(diǎn)并置，具有容限裕度以確保關(guān)于光源的定位精度和微屈光部的表面的生產(chǎn)缺陷的穩(wěn)健性:每個(gè)虛像的邊緣將被模糊，以獲得該輕微的重疊，該重疊將確保生成的光束的良好均一性。主光學(xué)系統(tǒng)4因此使得可以形成主光源8的虛像6以獲得光束的均一分布，即光束的部分相對(duì)于彼此被正確地調(diào)節(jié)，而在其之間沒(méi)有(過(guò)于強(qiáng)烈的)黑暗的條帶和/或明亮的條帶，該條帶對(duì)于駕駛舒適度可以是有害的。

此外，相對(duì)于光源的實(shí)矩陣，虛像6距離投射透鏡3更遠(yuǎn)，這使得可以保持緊湊的光學(xué)模塊。

主光學(xué)系統(tǒng)4有利地被構(gòu)造成在平面61中形成虛像6，虛像6的尺寸大于主光源8的尺寸。如圖4所示，虛像6的尺寸的增大允許虛像6在平面61中的并置以相鄰彼此。為此，凸曲率和形成微屈光部的材料與主光源8的矩陣2的尺寸匹配，這是主光學(xué)系統(tǒng)4相對(duì)于矩陣2的定位，使得虛像6被正確地并置。根據(jù)子矩陣的尺寸和增大意圖，子矩陣和主光學(xué)系統(tǒng)4之間的距離將是，子矩陣的尺寸的25％到200％，優(yōu)選地50％到100％，包括上下限，例如距離為1mm到7mm，包括上下限。

為了更加清楚，圖4到10中不示出虛像6。僅這些虛像6位于的平面61已經(jīng)被表示。

圖4的光學(xué)模塊1包括主光源8的矩陣2、設(shè)置有輸入微屈光部5的主光學(xué)系統(tǒng)4和通過(guò)投射透鏡3形成的投射構(gòu)件。主光學(xué)系統(tǒng)4還包括用于所有輸入微屈光部5的單個(gè)輸出屈光部9。

輸出屈光部9提供被傳輸?shù)酵渡渫哥R3的光束的光學(xué)校正。校正尤其地用于改善裝置的光學(xué)效率并且校正系統(tǒng)4的光學(xué)像差。為此，輸出屈光部9具有大致球面圓頂部形式。該形式僅偏轉(zhuǎn)來(lái)自布置在光學(xué)軸線15上的源的光束的光線的方向，并且光線穿過(guò)輸出屈光部9。

在表示的產(chǎn)品示例中，輸出屈光部9具有大致球面圓頂部形式。

根據(jù)未示出的變化例，其將具有包括雙焦點(diǎn)清晰度的圓柱形類(lèi)型的細(xì)長(zhǎng)形式。從前部看到，輸出屈光部9比其高度更寬。根據(jù)該變化例的產(chǎn)品的優(yōu)選示例，輸出屈光部9在水平截面中并且因此在橫向方向上具有較大的曲率半徑和小于5mm的偏轉(zhuǎn)。水平截面中的表面可以是凸面的或凹面的，即輸出屈光部9相應(yīng)地是會(huì)聚的或發(fā)散的，發(fā)散的輸出屈光部9特別有利于減少光學(xué)裝置的體積。仍然根據(jù)該優(yōu)選的產(chǎn)品示例，在豎直截面中并且因此在其高度方向上，輸出屈光部9的表面是非球面的，具有一階球面近似，所述近似具有5mm和10mm之間并且包括5mm和10mm的半徑。

在該第一實(shí)施例中，主光學(xué)系統(tǒng)4由一種材料即相同材料制成。換句話說(shuō)，輸入微屈光部5和輸出屈光部9形成主光學(xué)系統(tǒng)4的一個(gè)和相同元件的輸入面和輸出面，這類(lèi)似于復(fù)合透鏡。

在圖10示出的第一實(shí)施例的變化例中，主光學(xué)系統(tǒng)4包括用于每個(gè)輸入微屈光部5的輸出微屈光部9。主光學(xué)系統(tǒng)4然后形成一組雙凸面微透鏡，每個(gè)微透鏡布置在主光源前方。然而微透鏡不可以校正被傳輸?shù)恼麄€(gè)光束，像設(shè)置有單個(gè)輸出屈光部9的主光學(xué)系統(tǒng)4。這些微透鏡類(lèi)似于圖6示出的第二實(shí)施例的第二變化例的那些微透鏡，如下所述。它們具有提供虛像的更好均一性和圖像的更小變形的優(yōu)點(diǎn)。

在第二實(shí)施例中，如圖5到8所示，裝置包括主光源8的多個(gè)子矩陣20，以代替先前實(shí)施例的矩陣2。發(fā)光二極管的子矩陣20更容易處理并且比較大尺寸的矩陣更便宜。因而，更便宜的是通過(guò)關(guān)聯(lián)多個(gè)子矩陣20來(lái)獲得較大尺寸的矩陣。該構(gòu)成可以包括從100到600個(gè)發(fā)光二極管。

圖11到14表示可以用作根據(jù)本發(fā)明的裝置的子矩陣的不同類(lèi)型的矩陣。該矩陣包括可分別訪問(wèn)的至少兩個(gè)不同的光發(fā)射區(qū)域。

圖11示出發(fā)光二極管類(lèi)型的光源8的多芯片矩陣20，每個(gè)源8都是可分別訪問(wèn)的。每個(gè)源8都在獨(dú)立的芯片上分別制成，芯片安裝在保持元件18上，源8自身與支撐件17上的其他源組裝。圖12表示多芯片矩陣20的第二類(lèi)型，其中在布置在支撐件17上的共用保持元件18上，發(fā)光二極管與彼此預(yù)組裝。

圖13和14圖示單個(gè)芯片矩陣20，其中光源8具有共用電極。二極管具有接觸的兩個(gè)電極16、19，第一點(diǎn)電極19和第二表面電極16。在圖13中，通過(guò)激活第一電極19，可分別訪問(wèn)源8，第二電極對(duì)于芯片的所有源8是相同的。另一方面，圖14的光源8具有第二電極19，第二電極19分成多個(gè)部分以具有用于每個(gè)源8的獨(dú)立第二電極19，第一電極16可同時(shí)地激活。

根據(jù)特定的變化實(shí)施例，光子矩陣20可以基于包括多個(gè)亞毫米尺寸的發(fā)光單元的半導(dǎo)體光源，發(fā)光單元分布在不同的可選擇性激活的光區(qū)域。特別地，每個(gè)亞毫米尺寸的發(fā)光單元成棒的形式。此外，棒在一個(gè)且相同的基板上，基板優(yōu)選地包括硅。

主光學(xué)系統(tǒng)4關(guān)聯(lián)來(lái)自子矩陣20的光線以形成具有與設(shè)置有單個(gè)矩陣的實(shí)施例相同性質(zhì)的單個(gè)光束。本發(fā)明因此使得可以不僅使用市場(chǎng)上的標(biāo)準(zhǔn)構(gòu)件，還避免在較大尺寸的構(gòu)件上發(fā)生的熱膨脹問(wèn)題。

由不同子矩陣20形成的光束彼此互補(bǔ)，有利地形成光束的不超過(guò)每個(gè)光束的1°孔徑角的輕微疊加。用較大角度疊加不同的光束被避免以保持構(gòu)件的離散化并且保持其輪廓被很好地限定的投射光束。

圖5示出光學(xué)投射模塊1的第一變化例，光學(xué)投射模塊1在上游包括多個(gè)子矩陣20并且在下游包括諸如投射透鏡的投射構(gòu)件3。光學(xué)裝置還在子矩陣20和投射透鏡3之間包括設(shè)置有多個(gè)會(huì)聚光學(xué)部件的主光學(xué)系統(tǒng)4，此處多個(gè)會(huì)聚光學(xué)部件具有會(huì)聚輸入微屈光部5，此處具有凸表面并且被構(gòu)造成在一個(gè)和相同平面61中形成虛像6，。輸入微屈光部5布置在子矩陣20下游，輸入微屈光部5對(duì)應(yīng)于主光源8的子矩陣20。

在子矩陣20的上游，光源的虛像6形成在一個(gè)和相同平面61中，使得虛像6的尺寸大于子矩陣20的尺寸，虛像6然后用作用于投射透鏡3的光源。

如圖4的實(shí)施例，圖5的主光學(xué)系統(tǒng)4具有單個(gè)輸出屈光部9，輸出屈光部9形成為提供被傳輸?shù)酵渡渫哥R3的光束的光學(xué)校正，輸出屈光部9還具有凸面圓頂部形式。此外，主光學(xué)系統(tǒng)4還是由單種材料制成的光學(xué)元件。

在圖6示出的第二實(shí)施例的第二變化例中，主光學(xué)系統(tǒng)4包括用于每個(gè)輸入微屈光部5的輸出微屈光部9。此處，輸出屈光部9的功能不是校正被傳輸光束。主光學(xué)系統(tǒng)4然后形成一組雙凸面微透鏡。在本實(shí)施例中，模塊包括主光源8的子矩陣20，每個(gè)雙凸面微透鏡布置在子矩陣20下游。

圖7示出根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)模塊1的第二實(shí)施例的第三變化例，并且第三變化例包括主光學(xué)系統(tǒng)4，主光學(xué)系統(tǒng)4設(shè)置有具有凸面輸入微屈光部5的會(huì)聚光學(xué)部件，該會(huì)聚光學(xué)部件布置在主光源8的子矩陣20下游。輸入微屈光部5對(duì)應(yīng)于每個(gè)子矩陣20的主光源8。在該變化例中，主光學(xué)系統(tǒng)4包括用于每個(gè)子矩陣20的輸出屈光部9。每個(gè)透鏡的輸出屈光部9和輸入微屈光部5是材料連續(xù)的，使得其形成復(fù)合透鏡。主光學(xué)系統(tǒng)4的復(fù)合透鏡還可以連接到彼此。因而，輸出屈光部9生成子矩陣的放大虛像，使得每個(gè)子矩陣20的光束相對(duì)于彼此被調(diào)節(jié)。此外，用于每個(gè)子矩陣20的輸出屈光部9避免來(lái)自不同子矩陣的光束之間的寄生光線。

此外，在這種情況下，輸出屈光部9和輸入微屈光部5形成由單個(gè)工件制成的主光學(xué)系統(tǒng)4的部分。換句話說(shuō)，主光學(xué)系統(tǒng)4僅包括單個(gè)元件。

圖8描述了第二實(shí)施例的第四變化例，第四變化例類(lèi)似于圖7的第三變化例，區(qū)別在于分離成兩個(gè)元件12、13的主光學(xué)系統(tǒng)4。第一元件12包括輸入微屈光部5和用于所有輸入微屈光部5的大致平坦的單個(gè)輸出面。第二元件13設(shè)置有輸入面，所述輸入面具有用于每個(gè)子矩陣20的凸面屈光部14和也用于每個(gè)子矩陣20的輸出屈光部9。

圖9的第五變化例大致地與第四變化例相同。第一元件12的形式在如下方面不同，即第一元件12包括一組雙凸面微透鏡，以類(lèi)似于圖6的第二變化例的方式。第二部件13與第四變化例中的第二部件大致地相同。

第三、第四和第五變化例的光學(xué)系統(tǒng)4特別適合于其中主光源8彼此遠(yuǎn)離的子矩陣20。超過(guò)主光源8的寬度的5％的距離可以被認(rèn)為是極大的距離。因而，放置在每個(gè)主光源8下游的輸入微屈光部5使得由主光源8提供的光可以在根據(jù)前述過(guò)程的子矩陣中形成為均一的。放置在每個(gè)子矩陣20下游的輸出屈光部9的功能是在平面11中形成在這些子矩陣之間均一的第二虛像。

當(dāng)具有用于(圖8和9的情況的)每個(gè)子矩陣的輸入屈光部14時(shí)，輸出屈光部9和輸入屈光部14的關(guān)聯(lián)在子矩陣之間產(chǎn)生虛像。有利地，因而生成圖像的較少幾何變形。由于子矩陣之間的距離大于分離光源8的距離，所以子矩陣20之間的該標(biāo)準(zhǔn)化尤其是有用的。

憑借在第一實(shí)施例中描述的本發(fā)明獲得的優(yōu)點(diǎn)也在第二實(shí)施例的變化例中獲得。