擴(kuò)散板及背光模組的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種擴(kuò)散板，其包括一個(gè)本體，所述本體具有相對的入光面及出光面，所述出光面或者所述出光面形成有抗反射膜層，所述抗反射膜層包括多層抗反射膜，每層所述抗反射膜的厚度小于可見光的波長。本發(fā)明還涉及一種具有上述擴(kuò)散板的背光模組。
【專利說明】擴(kuò)散板及背光模組

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及擴(kuò)散板及背光模組，尤其涉及一種用于直下式背光模組的擴(kuò)散板及具 有該擴(kuò)散板的背光模組。

【背景技術(shù)】
[0002] 背光模組作為一種光源模組，常為儀表、顯示裝置等電子裝置照明。一種典型的 直下式背光模組包括多個(gè)光源及與該多個(gè)光源相對的擴(kuò)散板。由于光源是分散排列，因此 在進(jìn)入擴(kuò)散板正上方區(qū)域的光線是垂直入射，而偏移距離愈多的區(qū)域光線傾斜角度愈大入 射，特別是現(xiàn)在為減少光源使用數(shù)量，會(huì)將光源間距拉大而搭配擴(kuò)散板將光源光線發(fā)散角 加大。擴(kuò)散板將各位置的光線角度調(diào)整成發(fā)散光場一致。擴(kuò)散板內(nèi)含有許多擴(kuò)散顆粒可使 光線隨機(jī)散射，使出導(dǎo)光板后呈一均勻的面光源。但是，由于光線入射擴(kuò)散板不僅有材料的 表面反射率，還有傾斜入射程度愈大反射率愈高，這樣會(huì)導(dǎo)致光利用效率降低。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0003] 有鑒于此，有必要提供一種可以克服上述問題的擴(kuò)散板及背光模組。
[0004] -種擴(kuò)散板，其包括一個(gè)本體，所述本體具有相對的入光面及出光面，所述出光面 或者所述出光面形成有抗反射膜層，所述抗反射膜層包括多層抗反射膜，每層所述抗反射 膜的厚度小于可見光的波長。一種背光模組，其包括所述的擴(kuò)散板及多個(gè)光源，所述光源與 所述擴(kuò)散板的入光面相對。
[0005] 相對于現(xiàn)有技術(shù)，本技術(shù)方案中的光源發(fā)出的光透過擴(kuò)散板時(shí)，設(shè)置于擴(kuò)散板表 面的抗反射層可以對不同波長或者不同入射角的光線產(chǎn)生建設(shè)性或者破壞性的干涉，從而 使得減少光線在經(jīng)過擴(kuò)散板的入光面及出光面時(shí)而產(chǎn)生的反射，從而可以提高背光模組的 出光效率，并且提高光源出射的光線的利用效率。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0006] 圖1是本發(fā)明實(shí)施例提供的背光模組剖面示意圖。
[0007] 圖2是圖1中沿II線的局部放大示意圖。
[0008] 主要元件符號說明

【權(quán)利要求】
1. 一種擴(kuò)散板，其包括一個(gè)本體，所述本體具有相對的入光面及出光面，其特征在于， 所述出光面或者所述出光面形成有抗反射膜層，所述抗反射膜層包括多層抗反射膜，每層 所述抗反射膜的厚度小于可見光的波長。
2. 如權(quán)利要求1所述的擴(kuò)散板，其特征在于，所述抗反射膜的層數(shù)為10層至100層。
3. 如權(quán)利要求1所述的擴(kuò)散板，其特征在于，多層抗反射膜中相鄰兩層抗反射膜的折 射率不同。
4. 如權(quán)利要求1所述的擴(kuò)散板，其特征在于，所述本體內(nèi)設(shè)有多個(gè)光擴(kuò)散粒子。
5. -種擴(kuò)散板，其包括一個(gè)本體，所述本體具有相對的入光面及出光面，其特征在于， 所述出光面及所述出光面均形成有抗反射膜層，所述抗反射膜層包括多層抗反射膜，每層 所述抗反射膜的厚度小于可見光的波長。
6. 如權(quán)利要求5所述的擴(kuò)散板，其特征在于，所述抗反射膜的層數(shù)為10層至100層。
7. 如權(quán)利要求5所述的擴(kuò)散板，其特征在于，多層抗反射膜中相鄰兩層抗反射膜的折 射率不同。
8. 如權(quán)利要求5所述的擴(kuò)散板，其特征在于，所述本體內(nèi)設(shè)有多個(gè)光擴(kuò)散粒子。
9. 一種背光模組，其包括如權(quán)利要求1至8中任一所述的擴(kuò)散板及多個(gè)光源，所述光源 與所述擴(kuò)散板的入光面相對。
10. 如權(quán)利要求9所述的背光模組，其特征在于，所述背光模組還包括棱鏡片，所述棱 鏡片設(shè)置于所述擴(kuò)散板的出光面的一側(cè)。
【文檔編號】F21V5/02GK104235761SQ201310238205
【公開日】2014年12月24日 申請日期:2013年6月17日 優(yōu)先權(quán)日:2013年6月17日
【發(fā)明者】林辰翰 申請人:鴻富錦精密工業(yè)（深圳）有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司