專利名稱：具有改進的真空處理的x射線管的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本文公開的主旨涉及X射線管輻射源，并且更具體地涉及X射線管的處理。
背景技術(shù)：
在非侵入成像系統(tǒng)中，X射線管作為X射線輻射源在投影X射線系統(tǒng)、熒光透視系統(tǒng)、斷層X射線照相組合系統(tǒng)和計算機斷層攝影(CT)系統(tǒng)中使用。典型地，X射線管包括陰極和陽極。在該陰極內(nèi)的發(fā)射體響應(yīng)于由施加電流引起的熱、通過熱離子效應(yīng)而發(fā)射電子流。該陽極包括由該電子流撞擊的靶。因此，該靶產(chǎn)生X射線輻射和熱。這樣的系統(tǒng)在醫(yī)療環(huán)境中是有用的，而且對于包裹和包裝篩選、部件檢驗、各種研究環(huán)境等等都是有用的。輻射穿過感興趣受檢者，例如病人，并且輻射的一部分撞擊檢測器或照相底片，圖像數(shù)據(jù)收集在其中。在一些X射線系統(tǒng)中，照相底片然后顯影以產(chǎn)生可由放射科醫(yī)師或主治醫(yī)師使用用于診斷目的的圖像。在數(shù)字X射線系統(tǒng)中，光檢測器產(chǎn)生代表撞擊檢測器表面的離散像素區(qū)的輻射量和強度的信號。該信號然后可處理以產(chǎn)生可顯示用于回顧的圖像。在CT和斷層X射線照相組合系統(tǒng)中，當(dāng)掃描架圍繞患者移動時包括一系列檢測器元件的檢測器陣列通過各種位置產(chǎn)生相似的信號，并且處理技術(shù)被使用以用于重建受檢者的有用圖像。X射線管可具有在大量檢查序列期間的使用壽命，并且當(dāng)在醫(yī)療護理或其他設(shè)施中需要時一般必須對于檢查序列是可用的?？紤]到X射線管常常遇到的需求安排，管的故障受到特別關(guān)注。已經(jīng)在X射線管中觀察到各種故障模式，并且這些具有多種來源。例如， 在X射線管處理期間，水氣、碳氫化合物或其他微粒甚至在烘烤除氣(bakeout)加熱和真空下處理后仍可保留在X射線管內(nèi)。X射線管故障的另外來源在后處理使用期間由于陰極或陽極材料的泄漏、退化等等發(fā)生，其中微?？稍诠軆?nèi)形成或釋放。這些微?？呻S著時間推移導(dǎo)致管的最終故障。

發(fā)明內(nèi)容
根據(jù)一個實施例，X射線管包括電子束源，其包括配置成發(fā)射電子束的主陰極； 和陽極組件，其包括配置成接收該電子束并且當(dāng)由該電子束撞擊時發(fā)射X射線的陽極。該 X射線管還包括外殼(至少主陰極和陽極設(shè)置在該外殼中)、設(shè)置在該外殼中并且配置成在處理期間發(fā)射電子以撞擊陽極用于對陽極和外殼除氣的次陰極。根據(jù)另一個實施例，用于制造X射線管的方法包括組裝X射線管，其包括電子束源，其包括配置成在X射線管的正常操作期間發(fā)射電子束的主陰極；陽極組件，其包括配置成接收該電子束并且當(dāng)由該電子束撞擊時發(fā)射X射線的陽極；外殼，至少主陰極和陽極設(shè)置在該外殼中；鄰近陽極設(shè)置在該外殼中的次陰極。該方法還包括使陽極和次陰極通電以從該次陰極發(fā)射電子以對內(nèi)部體積除氣并且密封該內(nèi)部體積。根據(jù)另外的實施例，X射線管包括電子束源，其包括配置成發(fā)射電子束的主陰極；和陽極組件，其包括配置成接收該電子束并且當(dāng)由該電子束撞擊時發(fā)射X射線的陽極。該X射線管還包括外殼(至少主陰極和陽極設(shè)置在該外殼中)和包括次陰極的電離真空計組件(iongauge assembly)，該電離真空計組件配置成在該X射線管的使用期間檢測該外殼內(nèi)的材料。


當(dāng)下列詳細說明參照附圖(其中相似的符號在整個附圖中代表相似的部件)閱讀時，本發(fā)明的這些和其他的特征、方面和優(yōu)勢將變得更好理解，其中圖1是根據(jù)本公開的方面的示范性X射線管的圖解視圖。圖2是根據(jù)本公開的方面的示范性X射線管的另外的圖解視圖。圖3是根據(jù)本公開的方面的X射線管的示范性電離真空計的圖解視圖。圖4是根據(jù)本公開的方面的X射線管的示范性電離真空計的圖解視圖；和圖5是根據(jù)本公開的方面的在用于制造X射線管的方法中的示范性步驟的流程圖。
具體實施例方式本方式針對在X射線管內(nèi)的次陰極的集成。該次陰極可在處理X射線管中采用。 更具體地，在X射線管處理期間，在本方式中采用的次陰極可由電流加熱，其導(dǎo)致電子從次陰極朝陽極發(fā)射并且對X射線管除氣。用于除氣的次陰極的使用在處理期間不使用X射線管主陰極并且可延長主陰極的壽命。另外，次陰極可用于檢測處理和后處理期間X射線管內(nèi)的真空完整性(vacuum integrity)并且充當(dāng)與高壓相關(guān)的潛在X射線管錯誤和故障的診斷工具。根據(jù)本方式，次陰極可消除對用于處理X射線管的標(biāo)準(zhǔn)烘烤除氣技術(shù)的需要和/ 或縮短在制造期間排空這些管的處理時間。在一個實施例中，次陰極可由絲極構(gòu)成，其被加熱以通過熱離子效應(yīng)在陽極發(fā)射電子以加熱陽極并且對X射線管除氣或有助于對X射線管除氣。在一些實施例中，次陰極可正偏置或負偏置。例如，負偏置次陰極可包括將電子從絲極引向陽極或朝陽極聚焦的杯狀物。在另一個實施例中，次陰極可形成用于在X射線管處理期間和/或在其之后使用的電離真空計的一部分。例如，電離真空計可監(jiān)測在X射線管內(nèi)的殘留氣體或泄漏的存在和提供代表X射線管內(nèi)的真空狀態(tài)的信號?？紤]到這一點，并且現(xiàn)在轉(zhuǎn)到附圖，圖1是圖示根據(jù)本公開的方面的X射線管10 的圖。該X射線管10包括外殼12，包括主陰極16的電子束源14、次陰極22和包括陽極20 的陽極組件18。該外殼12可是玻璃或金屬封套。該X射線管10可放置在由鋁制成并且內(nèi)襯有鉛的罩殼(未示出)內(nèi)。在處理期間，X射線管10連接到配置成在X射線管10內(nèi)產(chǎn)生真空的排氣管對。該排氣管M連接到外殼12的內(nèi)部體積沈。實際上，外殼12至少部分環(huán)繞和圍住受控體積26。該受控體積沈中包含使陽極20旋轉(zhuǎn)的馬達的轉(zhuǎn)子觀和電子束源14的至少一部分(例如，主陰極16)。如圖示的，主陰極16、陽極20和次陰極22設(shè)置在外殼12內(nèi)，而定子30鄰近轉(zhuǎn)子28設(shè)置在外殼12外部。主陰極16配置成發(fā)射電子束，如由箭頭32指示的。陽極20配置成接收電子束32 并且當(dāng)受到電子束32撞擊時發(fā)射X射線，如由虛線34指示的。窗口 36鄰近電子束32撞擊陽極20的地方設(shè)置。如圖示的，該窗口 36設(shè)置在X射線管10的一側(cè)。該窗口 36配置成允許發(fā)射的X射線34離開外殼12。更具體地，在X射線管10的操作期間，電子束源14耦合于高壓源40，其允許通過施加的電流來加熱主陰極16的絲極(未示出)以產(chǎn)生熱絲極， 其在高壓下高速釋放電子32。在真空中，由于熱離子效應(yīng)，發(fā)射的電子32加速并且撞擊旋轉(zhuǎn)陽極20的靶42，其導(dǎo)致X射線34的發(fā)射。主陰極16和陽極20之間的電壓差范圍可在從數(shù)萬伏到超過數(shù)十萬伏。陽極20通過軸44耦合于轉(zhuǎn)子觀。陽極20的旋轉(zhuǎn)(如由箭頭 46指示的)由設(shè)置在定子30內(nèi)的轉(zhuǎn)子觀驅(qū)動并且由耦合于定子30的電源48供電。陽極 20的旋轉(zhuǎn)允許電子束32不斷地照在陽極周邊上不同的點。取決于X射線管10的結(jié)構(gòu)，期望的輻射可由例如鐳和人造放射物等物質(zhì)以及電子、中子和其他高速粒子來發(fā)射。在X射線管10的外殼12內(nèi)，在室溫下優(yōu)選地維持大約10-5至約10-9托的真空以允許主陰極16 和陽極20之間電子束32的不受干擾的傳輸。在X射線管處理期間，排氣管M將典型地連接到真空泵。在烘烤除氣處理期間， X射線管10放置在加熱的烤箱中。X射線管10的烘烤除氣處理包括通過烤箱向管10施加熱，同時通過真空泵使管10除氣(從管10排空氣體)。烘烤除氣之后，但同時繼續(xù)除氣， 進行干燥或通電。進行主陰極16的通電，從而加熱陰極16以產(chǎn)生電子束32。進行陽極20 的通電，從而在外殼12內(nèi)驅(qū)動陽極20旋轉(zhuǎn)。電子束32撞擊陽極20，允許焦點軌跡(focal track)的調(diào)整和電子束32的斑點尺寸的驗證。干燥還通過加熱X射線管10的其他部件而導(dǎo)致額外的除氣。烘烤除氣和干燥之后，通過將管道M卷邊來密封內(nèi)部體積26。在常規(guī)處理中，該除氣程序可需要多個小時并且降低在X射線管10中存在的殘留氣體量，其可以導(dǎo)致例如“噴濺(spitting)/真空擊穿”等事件。噴濺指由內(nèi)部體積沈中和電子束32的路徑內(nèi)存在的粒子或高壓(其使電子32偏向除陽極20的靶42的焦點軌跡之外的一些其他點)引起的不需要的放電。如上文提到的，X射線管10包括次陰極22。該次陰極22在存在或不存在由烘烤除氣過程產(chǎn)生的熱時在X射線管10的處理中使用。在圖示的實施例中，雖然可采用其他設(shè)置，次陰極22包括絲極結(jié)構(gòu)50和杯狀物52。該絲極結(jié)構(gòu)50配置成在使用中被加熱。該絲極結(jié)構(gòu)50可包括一個或多個絲極。該絲極結(jié)構(gòu)50的形狀可以是螺旋線圈、D形、平整發(fā)射體或任何其他期望的形狀。該絲極結(jié)構(gòu)50可由鎢或任何其他適合的材料制成。該杯狀物 52配置成將來自絲極結(jié)構(gòu)50的電子發(fā)射引向陽極20。該杯狀物52可充當(dāng)靜電透鏡，其將從由杯狀物52支撐的絲極結(jié)構(gòu)50發(fā)射的電子聚焦。該杯狀物52可由不銹鋼、鈷、鉬或任何其他適合的材料制成。該杯狀物52通過耦合于HV絕緣體56 (例如，50kV絕緣體)的電纜M連接到電源，HV絕緣體56由位于外殼12的密封體58部分包裹。該絲極結(jié)構(gòu)50通過施加的電流加熱以通過熱離子效應(yīng)高速釋放電子。該杯狀物52將這些電子聚焦在陽極 20。次陰極22設(shè)置在外殼12內(nèi)并且配置成發(fā)射電子以撞擊陽極20用于對外殼12除氣。例如，在圖示的具體實施例中，次陰極22設(shè)置在環(huán)繞陽極20圓周的離主陰極16180度處。次陰極22可以設(shè)置在環(huán)繞陽極20圓周的任何位置。另外，如圖示的，次陰極22關(guān)于陽極20負偏置。也就是說，陽極20接地，并且次陰極22負偏置。與上文描述的X射線管處理相似的，使用次陰極22的處理牽涉連接排氣管M到真空泵。當(dāng)抽吸真空時，次陰極22通電。次陰極22的通電牽涉加熱陰極22的絲極結(jié)構(gòu)50 以朝陽極20發(fā)射電子。電子從次陰極22朝陽極20的發(fā)射對陽極20和外殼12的其他部件除氣。然后主陰極16通電，并且之后密封內(nèi)部體積沈，如上文所述的。在處理期間次陰極22的使用可導(dǎo)致在主陰極16通電期間在內(nèi)部體積沈中存在較少的局部壓力偏移。因此，主陰極16的通電可以在相對于沒有使用次陰極22的處理的更低電力水平發(fā)生。這可導(dǎo)致主陰極16的絲極壽命的延長。此外，牽涉次陰極22的處理比在標(biāo)準(zhǔn)烘烤除氣過程中更快地加熱部件并且可相當(dāng)大地減少X射線管10的處理時間。在某些實施例中，烘烤除氣處理可還在次陰極22的通電之前和/或期間發(fā)生。在一些實施例中，次陰極22可以或可以不通電以輔助除氣或烘烤除氣處理。在這些實施例中，次陰極22可用于如在下文更詳細描述的另一個功能。取決于次陰極22的偏置，X射線管10可不同地配置。圖2是圖示根據(jù)本公開的方面的X射線管10的備選實施例的圖。X射線管10包括如上文描述的外殼12、電子束源 14和陽極組件18。然而，次陰極22和罩殼(未示出)被正偏置。從而，陽極20設(shè)計成電隔離(例如，從25kV直到50kV)。為了使X射線管10電隔離，陽極絕緣體62在外殼12內(nèi)相應(yīng)地位于陽極20的轉(zhuǎn)子觀的背面66上。次陰極22包括耦合于低壓饋入的電纜70的絲極結(jié)構(gòu)50。絲極結(jié)構(gòu)50可如上文描述的那樣。次陰極22設(shè)置在外殼12內(nèi)并且配置成發(fā)射電子以撞擊陽極20用于對陽極20和在外殼12中的其他部件除氣。次陰極22可以設(shè)置在環(huán)繞陽極20圓周任何地方。在除氣中次陰極22的操作通過經(jīng)由施加的電流加熱絲極結(jié)構(gòu)50來進行以通過熱離子效應(yīng)高速釋放電子。在陽極20上是正偏置，而絲極結(jié)構(gòu)50和罩殼處于地電勢，這將電子引向陽極20。當(dāng)陽極20正偏置時，次陰極22可如上文描述的用于X射線管處理。在某些實施例中，次陰極22可包括塊狀吸氣體(bulk getter body)。 該塊狀吸氣體可包括例如鍶、鋇、鋯或其他金屬等氣體吸收金屬的板、線或燒結(jié)粉末。優(yōu)選地，來自主陰極16的電子束32的產(chǎn)生在真空中發(fā)生。然而，在處理期間，可存在微粒。而且，微?？稍诤筇幚聿僮髌陂g在X射線管10中存在。這樣的微粒可通過在管 10內(nèi)的系統(tǒng)部件的泄漏、退化、管絲極的分解等等在管10中引入。這些微?？稍谔幚砗秃筇幚砥陂g增加X射線管10內(nèi)的壓力。在較高壓力下操作主陰極16可導(dǎo)致絲極退化并且縮短絲極的壽命。當(dāng)電子束32撞擊這樣的微粒物質(zhì)時，電子束可繼續(xù)朝向陽極20。然而，在某些情況下，電子束可從在陽極20上的靶42偏轉(zhuǎn)。這兩個事件都形成高電流放電。當(dāng)微粒遇到電子束32并且射束繼續(xù)沿著它的路徑撞擊陽極20時，可發(fā)生陽極過電流事件。此外， 如上文指出的，在電子束32從陽極因微粒而偏向的情況下，高電流放電事件在本領(lǐng)域內(nèi)一般稱為“噴濺”。如上文提到的，次陰極22可用于其他功能。圖3圖示根據(jù)本公開的方面的X射線管10的電離真空計組件72。該電離真空計組件72位于鄰近X射線管10的陽極20。該電離真空計組件72配置成在X射線管10使用期間測量外殼12內(nèi)的壓力。此外，該電離真空計組件72還可配置成在X射線管10的處理期間檢測壓力。該電離真空計組件72包括次陰極22，其包括上文描述的絲極結(jié)構(gòu)50。該電離真空計組件72還包括格柵(grid)76和收集器74。該電離真空計組件72還可包括如上文描述的杯狀物52。電離真空計控制器(未示出)可維持該電離真空計組件72的部件的電壓。絲極結(jié)構(gòu)50由施加的電流加熱以通過熱離子效應(yīng)發(fā)射電子，如由箭頭78指示的。發(fā)射的電子78由于絲極結(jié)構(gòu)50和格柵76之間的電勢差朝格柵76加速。然而，這些發(fā)射的電子78可與如由標(biāo)號80指示的氣體分子碰撞，撞出電子并且形成帶正電的離子，如由標(biāo)號82指示的。帶正電的離子82然后可朝收集器74加速。電子與分子碰撞發(fā)生的速率與氣體分子密度成比例。從而，離子電流與氣體密度(即，壓力)成比例?？蓮碾x子電流確定在X射線管10的外殼12內(nèi)的真空壓力。電離真空計組件72耦合于監(jiān)測電路(未示出)。該監(jiān)測電路配置成基于在外殼12內(nèi)的材料(例如，上文描述的粒子)的檢測產(chǎn)生代表X射線管10的外殼12內(nèi)的真空狀態(tài)的信號。電離真空計組件72可在X射線管處理期間使用以用于確定真空壓力是否足夠低以使主陰極16和陽極20通電。這可保存或延長主陰極16的壽命并且減少陰極16的早期壽命故障。電離真空計組件72還可在后處理期間使用以用于監(jiān)測真空壓力并且充當(dāng)用于排除X射線管錯誤和故障的診斷工具。例如，電離真空計組件72和從組件72收集的信息可納入系統(tǒng)和裝置中用于代替X射線管10的管理和壽命預(yù)測，如在名為“X-ray Tube Replacement Management System(X射線管代替管理系統(tǒng))”的美國專利號6，212，256和名為“X-ray Tube LifePrediction Method and Apparatur (X射線管壽命預(yù)測方法和裝置)，， 的美國專利號6，453，009中更詳細描述的，其二者都通過引用全文結(jié)合于此。電離真空計組件72還可在X射線管的制造期間通電以對外殼12的內(nèi)部體積沈除氣。隨著格柵76和收集器74關(guān)閉，次陰極22可通電以發(fā)射在除氣期間撞擊陽極20的電子。X射線管10的處理可如上文描述的進行。在次陰極22通電后，格柵76和收集器74 可被啟動并且電離真空計組件72可以在主陰極16通電之前監(jiān)測外殼12內(nèi)的真空壓力。圖4圖示根據(jù)本公開的方面的X射線管10的電離真空計組件72的另一個實施例。 除了杯狀物52位于次陰極22和格柵76和收集器74之間之外，電離真空計組件72的結(jié)構(gòu)與在圖3中的實施例相似。從而，杯狀物52將次陰極22與格柵76和收集器74分開。由于熱離子發(fā)射而從絲極50出來的電子78將朝杯狀物52加速(由于其較高電勢)。杯狀物 52可具有孔以向電子78提供瞄準(zhǔn)線以到達收集器74，從而，杯狀物52充當(dāng)格柵。在某些實施例中，格柵76將不在電離真空計組件72中使用。朝杯狀物52 (S卩，格柵)加速的電子 78可由于電勢差獲得大約200eV。加速電子78可與殘留氣體碰撞，從而產(chǎn)生離子82。帶正電的離子82可朝收集器74加速并且所得的電子回到杯狀物52(即，格柵)。從而，杯狀物 52充當(dāng)電離真空計組件72的格柵。這可允許收集器74和杯狀物52在除氣期間具有相同的電勢，從而提供更好的聚焦。圖5圖示根據(jù)本公開的方面在用于制造X射線管10的方法84中的示范性步驟的流程圖。該方法84包括組裝X射線管10 (框86)，其中管10包括電子束源14，其包括配置成在管10的正常操作期間發(fā)射電子束32的主陰極22。X射線管10還包括陽極組件18， 其包括配置成接收電子束32并且當(dāng)受到電子束32撞擊時發(fā)射X射線的陽極20。X射線管 10進一步包括外殼12，其中至少具有設(shè)置在外殼12內(nèi)的主陰極16和陽極20以及鄰近陽極20設(shè)置在外殼12內(nèi)的次陰極22。在一些實施例中，如上文描述的，陽極20接地，次陰極 22負偏置。在其他實施例中，陽極20電隔離并且正偏置，并且次陰極22接地。如上文描述的，方法84還包括使陽極20和次陰極22通電以從次陰極22發(fā)射電子以使管組件的內(nèi)部體積26除氣(框88)。例如，陽極20的通電可包括驅(qū)動外殼12內(nèi)旋轉(zhuǎn)的陽極20。可在次陰極22通電期間和/或之前通過如上文描述的排氣管M在管組件的內(nèi)部體積上抽吸真空(框90)。在一些實施例中，管組件可在次陰極22通電之前和/或期間受熱(例如，通過在烤箱中烘烤除氣)。次陰極22通電后，如上文描述的，主陰極16可在密封管組件的內(nèi)部體積沈之前通電(框92)。在某些實施例中，如果主陰極16在密封內(nèi)部體積沈之前通電，次陰極22可不通電。當(dāng)在密封內(nèi)部體積沈之前次陰極22不通電并且主陰極16通電時，次陰極22可用作電離真空計72以監(jiān)測繼處理后的管組件的真空狀態(tài)。此外，方法84包括密封內(nèi)部體積沈(框94)。密封內(nèi)部體積沈可包括在除氣后卷邊或以別的方式密封排氣管M。如在上文的實施例中描述的X射線管10可用方法84制成。上文描述的次陰極22允許X射線管處理結(jié)合或代替烘烤除氣過程以在陰極16通電之前向主陰極16的絲極提供更低的壓力環(huán)境。這可延長主陰極16的絲極的壽命并且減少該絲極的早期壽命故障或毒化。另外，在處理期間次陰極22的使用可減少一般與烘烤除氣過程關(guān)聯(lián)的處理時間。另外，次陰極可充當(dāng)電離真空計以幫助在處理期間和之后監(jiān)測材料的存在并且從而監(jiān)測X射線管10的外殼12內(nèi)的真空狀態(tài)，并且充當(dāng)診斷和質(zhì)量控制工具。該書面說明使用示例以公開本發(fā)明，其包括最佳模式，并且還使本領(lǐng)域內(nèi)技術(shù)人員能夠?qū)嵺`本發(fā)明，包括制作和使用任何裝置或系統(tǒng)和執(zhí)行任何包含的方法。本發(fā)明的可專利范圍由權(quán)利要求限定，并且可包括本領(lǐng)域內(nèi)技術(shù)人員想到的其他示例。這樣的其他示例如果它們具有不與權(quán)利要求的書面語言不同的結(jié)構(gòu)元件，或者如果它們包括與權(quán)利要求的書面語言無實質(zhì)區(qū)別的等同結(jié)構(gòu)元件則規(guī)定在權(quán)利要求的范圍內(nèi)。部件列表
權(quán)利要求
1.一種X射線管(10)，其包括電子束源(14)，其包括配置成發(fā)射電子束(3 的主陰極(16)；陽極組件(18)，其包括配置成接收所述電子束(3 并且當(dāng)由所述電子束(3 撞擊時發(fā)射X射線(34)的陽極(20)；外殼(12)，至少所述主陰極(16)和所述陽極00)設(shè)置在所述外殼中(1 ；以及設(shè)置在所述外殼(1 中并且配置成發(fā)射電子以撞擊所述陽極00)以用于對所述外殼 (12)除氣的次陰極(22) 0
2.如權(quán)利要求1所述的X射線管(10)，其中所述陽極00)接地并且所述次陰極02) 負偏置。
3.如權(quán)利要求1所述的X射線管(10)，其中所述陽極OO)電隔離并且被正偏置，并且所述次陰極0 接地。
4.如權(quán)利要求1所述的X射線管(10)，其中所述外殼(12)包圍受控體積(沈)，所述受控體積06)中包含使所述陽極OO)旋轉(zhuǎn)的馬達的轉(zhuǎn)子08)和所述電子束源(14)的至少一部分。
5.如權(quán)利要求1所述的X射線管(10)，其中所述次陰極02)包括配置成在使用中被加熱的絲極(50)。
6.如權(quán)利要求5所述的X射線管(10)，其中所述次陰極02)包括配置成從所述絲極 (50)將電子發(fā)射引向所述陽極(20)的杯狀物(52)。
7.如權(quán)利要求1所述的X射線管(10)，其中所述次陰極02)包括配置成在所述X射線管(10)的使用期間測量所述外殼(12)內(nèi)的壓力的電離真空計(72)。
8.如權(quán)利要求7所述的X射線管(10)，包括耦合于所述電離真空計(72)并且配置成基于在所述外殼(1 內(nèi)的壓力的檢測而產(chǎn)生代表所述外殼(1 內(nèi)的真空狀態(tài)的信號的監(jiān)測電路。
9.如權(quán)利要求1所述的X射線管(10)，其中所述次陰極02)設(shè)置在環(huán)繞所述陽極OO) 圓周的離所述主陰極(16)至少90度處。
10.一種X射線管(10)，其包括電子束源(14)，其包括配置成發(fā)射電子束(3 的主陰極(16)；陽極組件(18)，其包括配置成接收所述電子束(3 并且當(dāng)由所述電子束(3 撞擊時發(fā)射X射線(34)的陽極(20)；外殼(12)，至少所述主陰極(16)和所述陽極OO)設(shè)置在所述外殼中(1 ；以及包括次陰極02)的電離真空計組件(72)，所述電離真空計組件(72)配置成在所述X 射線管(10)的使用期間檢測所述外殼(12)內(nèi)的材料。
全文摘要
在一個實施例中，X射線管(10)包括電子束源(14)，其包括配置成發(fā)射電子束(32)的主陰極(16)；和陽極組件(18)，其包括配置成接收該電子束(32)并且當(dāng)由該電子束(32)撞擊時發(fā)射X射線(34)的陽極(20)。該X射線管(10)還包括外殼(12)，至少該主陰極(16)和該陽極(20)設(shè)置在該外殼中(12)，和設(shè)置在該外殼(12)中并且配置成發(fā)射電子以撞擊該陽極(20)用于對該外殼(12)除氣的次陰極(22)。
文檔編號H01J35/06GK102446678SQ20111004271
公開日2012年5月9日 申請日期2011年2月15日 優(yōu)先權(quán)日2010年10月5日
發(fā)明者E·B·比爾, K·科皮塞蒂, L·唐, R·M·羅菲爾斯 申請人:通用電氣公司