專利名稱：一種用于背光模塊的光學(xué)復(fù)合片的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及液晶顯示器領(lǐng)域，尤其涉及一種用于背光模塊的光學(xué)復(fù)合片。
背景技術(shù)：
一般而言，為提高不僅包括電子發(fā)光板、筆記本電腦顯示器、文字處理器、臺式計 算機顯示器、電視、攝像機，而且還包括汽車及飛機顯示器在內(nèi)的液晶顯示裝置(Liquid Crystal Display, IXD)等背面照明平板顯示器的亮度，采用各種結(jié)構(gòu)的背光模塊，該背光 模塊具備光源、導(dǎo)光板及多個光學(xué)片，來自光源的光通過導(dǎo)光板及多個光學(xué)片之后出射至
顯不器。最近，為了提高IXD等圖像顯示裝置的亮度和可視角度的特性，在背光模塊中使 用各種形式的光學(xué)片。在上述光學(xué)片中，為提高光的特性需要使用各種徑■形式光學(xué)片， 而上述光學(xué)片分為聚光用光學(xué)片和擴散用光學(xué)片。若使用聚光用光學(xué)片，則雖提高亮度，但 隨可視角度的變化亮度特性變化較大，從而降低可視角度特性，而若使用擴散用光學(xué)片，則 雖提高可視角度特性，但會降低亮度。因此，對兼?zhèn)渚酃庾饔煤蛿U散作用的光學(xué)復(fù)合片，進行了各種研究和開發(fā)。圖1為現(xiàn)有背光模塊概略示意圖。如圖1所示，背光模塊包括光源4 ；導(dǎo)光板5， 用于改變從上述光源4出射光的路徑，以導(dǎo)引至顯示部(未圖示)；多個光學(xué)片6、7、8，設(shè)置 于上述導(dǎo)光板5和顯示部(未圖示)之間，用以提高從上述導(dǎo)光板5出射光的效率；反射板 2，為防止從上述光源4產(chǎn)生的光暴露至外部而設(shè)置于上述導(dǎo)光板5下部；光源反射板3 ；模 架1 ；而且，在上述模架1上依次層疊反射板2、光源反射板3、導(dǎo)光板5及光學(xué)片6、7、8而 成。在制造過程中，光學(xué)片6、7、8可由擴散片6、棱鏡片7及保護片8構(gòu)成。為提高聚 光效率，棱鏡片7的結(jié)構(gòu)化圖形9具有三角形剖面，而對形成頂角的結(jié)構(gòu)化圖形9的尖端部 形狀，進行各種變化，而具有90°頂角的結(jié)構(gòu)化圖形9公認能夠提供最好的亮度。上述擴散 片6的作用在于擴散從上述導(dǎo)光板5出射并入射至顯示部(未圖示)的光，以使光的亮度 分布變得均勻。為兼?zhèn)渚酃夤δ芎蛿U散功能，背光模塊用光學(xué)復(fù)合片制作成包括形成于單一基材 層上部的微細結(jié)構(gòu)化圖形和形成于基材層下部的擴散圖形的一體型光學(xué)片。光學(xué)復(fù)合片根據(jù)背光模塊所要求的配置，可設(shè)置于導(dǎo)光板5上部，也可附著于棱 鏡片7上部。圖2為現(xiàn)有光學(xué)復(fù)合片一實施例剖面圖，通常光學(xué)復(fù)合片10包括為聚光而形成于 基材層11上部的三角形結(jié)構(gòu)化圖形12和為光的擴散而形成于基材層11下部的珠子14。因此，形成于基材層11下部的珠子14將從外部入射的光收斂至三角形結(jié)構(gòu)的結(jié) 構(gòu)化圖形12之前，起到擴散上述光的作用。例如，上述光學(xué)復(fù)合片10應(yīng)用于背光模塊時， 從導(dǎo)光板5出射的光無需通過另外的擴散片6，而是通過珠子14進行擴散。上述珠子14可設(shè)置于三角形結(jié)構(gòu)化圖形12和基材層11之間，而除珠子14之外，還可另外使用2至5 y m大小的微粒子，實現(xiàn)擴散功能。但是，由于現(xiàn)有光學(xué)復(fù)合片粒子相對結(jié)構(gòu)化圖形較大(通常結(jié)構(gòu)化圖形的預(yù)定間 隔50 u m,高度25 y m)，在將所述粒子置入結(jié)構(gòu)化圖形時難以均勻排列，而且，若嘗試結(jié)構(gòu) 變形，則因霧度(haze)提高及發(fā)生全透射率(Total Transmission, TT)損失，從而整體上 降低通過光學(xué)復(fù)合片光的亮度。另外，結(jié)構(gòu)化圖形層或珠子的抗劃性能較弱，因此，在制造、層疊組裝或運輸過程 中，容易發(fā)生表面損傷，因此，表面瑕疵及產(chǎn)品不良率高。即，因用于基材層下部的珠子及微 粒子以大約2至5 y m的大小形成突出結(jié)構(gòu)，因此在光學(xué)片的組裝及制造過程中容易劃傷， 而因其大小及突出結(jié)構(gòu)的缺點，導(dǎo)致約2%左右的亮度損失。為解決上述問題，已公開有幾個旨在提高防劃性的專利。美國專利US7，269，328公開了用于提高亮度的光學(xué)棱鏡薄膜，而此專利為防止劃 痕導(dǎo)致的損傷，在基材層下部形成具有不同硬度系數(shù)的加強層。該現(xiàn)有技術(shù)只適用于普通 的背光模塊，不適用于光學(xué)復(fù)合片，因為光學(xué)復(fù)合片基材層的兩側(cè)都有功能性涂層，如果增 加了加強層就會破壞原有涂層的功能性。美國專利公告US2007/0121227A1所公開的技術(shù)，將硅樹脂的散射離子 (scattering particles)用在結(jié)構(gòu)化圖形內(nèi)部，散射粒子以0. 5_30 y m的大小分布于結(jié)構(gòu) 化圖形內(nèi)部。另外，韓國專利注冊第10-0636739號所公開的技術(shù)，為提高硬度，在形成微細 結(jié)構(gòu)化圖形的紫外線硬化型樹脂層內(nèi)，使用透明的納米粒子。但是，上述兩個現(xiàn)有技術(shù)只限于光學(xué)棱鏡片或擴散片，難應(yīng)用于兼?zhèn)渚酃夤δ芎?擴散功能的光學(xué)復(fù)合片，而且在結(jié)構(gòu)化圖形成型過程中可能由于內(nèi)部的散射粒子的存在， 造成結(jié)構(gòu)化圖形表面不平整，更加容易造成結(jié)構(gòu)化圖形另一面的劃傷和缺陷。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)之不足，提供一種用于背光模塊的光學(xué)復(fù)合片， 用于解決現(xiàn)有技術(shù)中光學(xué)復(fù)合片的防劃性能不佳，并且透射光的亮度損失較大的問題。為了達到上述目的，本發(fā)明提供一種用于背光模塊的光學(xué)復(fù)合片，該光學(xué)復(fù)合片 包括基材層，由透光性材料構(gòu)成；多個結(jié)構(gòu)化圖形，形成于上述基材層上部并具有一預(yù)定 間隔；聚光層，包括分布于所述結(jié)構(gòu)化圖形表面的納米粒子的表面涂層；防劃層，在上述基 材層下部，利用含有納米粒子的紫外線硬化型膠粘劑涂布而成。作為本發(fā)明實施例的再一個進一步的方面，所述表面涂層及所述防劃層的膠粘劑 中包括以下至少一種納米粒子包含Si02、Ti02, A1203或聚甲基丙烯酸甲酯。作為本發(fā)明實施例的另一個進一步的方面，所述膠黏劑包括包含表面活性劑的分 散穩(wěn)定劑。作為本發(fā)明實施例的另一個進一步的方面，所述表面活性劑包括陽離子系、陰離 子系、非離子系或氟系。作為本發(fā)明實施例的另一個進一步的方面，所述納米粒子的粒徑為10至lOOnm ； 所述表面涂層厚度為0. 01 i! m至1 i! m ；所述防劃層厚度為0. 1 i! m至3 i! m。另外，所述聚光層為含有丙烯酸酯低聚合物40-50重量份、丙烯酸酯單體45-55重 量份、光聚合引發(fā)劑1-5重量份及添加劑0. 01-2重量份的混合物經(jīng)照射紫外線并交聯(lián)而成。
另外，所述聚光層的結(jié)構(gòu)化圖形為以下結(jié)構(gòu)之一，剖面為重復(fù)的三角形的圓筒狀，剖面為重復(fù)的三角形的金字塔狀，剖面為重復(fù)的半圓形的圓筒狀，剖面為重復(fù)的五角星的圓筒狀，剖面為重復(fù)的梯形的圓筒狀或透鏡狀。
本發(fā)明具備涂布納米粒子的多層結(jié)構(gòu)的背光模塊用光學(xué)復(fù)合片，通過含有納米粒子的表面涂層，提高聚光層結(jié)構(gòu)化圖形的表面強度，與此同時，通過擴散功能可隱蔽光學(xué)片的瑕疵，提高基材層下部的擴散性能及抗劃性能；并且其利用納米單位的涂層實現(xiàn)了用于擴散的突出結(jié)構(gòu)，降低所透射的光亮度損失，隱蔽或抵消暴露于結(jié)構(gòu)化圖形上部的瑕疵。
另外，本發(fā)明含有納米粒子的防劃層，無需現(xiàn)有光學(xué)復(fù)合片中需單獨具備的保護片，就可以達到提高抗劃性能及維持亮度的目的，而且通過納米粒子的微細分散涂布，大大降低浸濕(We七一。ut)現(xiàn)象及莫爾波紋(M。ire)現(xiàn)象，從而兼?zhèn)渚酃饧皵U散功能的用于背光模塊的光學(xué)復(fù)合片。


為了更清楚地說明本發(fā)明實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
圖l為現(xiàn)有技術(shù)中背光模塊概略示意 圖2為現(xiàn)有技術(shù)中光學(xué)復(fù)合片實施例剖面 圖3為本發(fā)明實施例用于背光模塊的涂布了納米粒子的多層結(jié)構(gòu)的光學(xué)復(fù)合片結(jié)構(gòu) 圖4為圖3所示光學(xué)復(fù)合片的剖面 圖5為制造本發(fā)明實施例表面涂層及防劃層的工藝 圖6為設(shè)置本發(fā)明光學(xué)復(fù)合片的背光模塊概略示意圖。
附圖符號
l模架4光源
3光源反射板5導(dǎo)光板
6擴散片20光學(xué)復(fù)合片
22聚光層25結(jié)構(gòu)化圖形
7棱鏡片2l基材層
23防劃層26表面涂層具體實施方式
下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒景l(fā)明中的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發(fā)明保護的范圍。
圖3為本發(fā)明實施例具備納米粒子涂布的用于背光模塊的光學(xué)復(fù)合片概略示意圖；圖4為圖3所示光學(xué)復(fù)合片的剖面圖；圖5為制造本發(fā)明一實施例表面涂層及防劃層的 工藝圖；圖6為設(shè)置本發(fā)明光學(xué)復(fù)合片的背光模塊概略示意圖。如圖3至圖4所示，本發(fā)明光學(xué)復(fù)合片20，包括基材層21、聚光層22、防劃層23 及上述聚光層22的表面涂層26。在本發(fā)明中，上述聚光層22在結(jié)構(gòu)化圖形25的表面具備含有納米粒子的表面涂 層26，該表面涂層26的厚度為0. 01 ii m-1 ii m。上述表面涂層26為膠黏劑樹脂，例如在紫外線硬化型膠黏劑中分散及含有納米 粒子，而上述納米粒子可從包含Si02、Ti02、A1203等氧化物或PMMA中選擇一種或多種。上 述膠黏劑為了提高微粒的分散性，還可包括包含陽離子系、陰離子系、非離子系、氟系等表 面活性劑的分散穩(wěn)定劑，較佳地，包括光聚合引發(fā)劑。上述表面涂層26的作用在于，由于表面涂層26的高硬度，可以降低在結(jié)構(gòu)化圖形 25尖端部22a與其它部件發(fā)生的劃傷。另外，通過表面涂層26的光遇到納米粒子而發(fā)生散射(scattering)，從而可隱蔽 或抵消因表面涂層里面的瑕疵(defect)所導(dǎo)致的暗點(dark spot)。上述基材層21由透光性材料制作而成，較佳地，包括由聚對苯二甲酸乙二醇酯 (PET)、聚萘二 甲酸乙二醇酯(PEN)、聚乙烯(polyethylene)、聚碳酸酯(Polycarbonate), 聚酯(Polyester)等制備而成的塑料薄膜，但非限制。例如，日本T0Y0B0公司銷售的C0SM0SHINE薄膜、T0RAY公司的LUMILAR薄膜等可 用作上述基材層21。聚光層22的作用在于使通過基材層21的光從層疊于其上部的顯示部(未圖示) 的正面出射，形成于基材層21上面，包括平整的光入射面和形成有圖形的光出射面。聚光層22在基材層21上面，包括形成向一個方向排列的多個棱鏡的結(jié)構(gòu)化圖形 25，結(jié)構(gòu)化圖形25的下面成為光入射面，而結(jié)構(gòu)化圖形25的上面成為光出射面。上述聚光層22可由聚甲基丙烯酸甲酯(Poly-methyl methacrylate，PMMA)等丙 烯酸樹脂或聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)樹脂構(gòu)成，而較佳地，由丙烯酸酯低聚物45至55 重量份、丙烯酸酯單體40至55重量份、光聚合引發(fā)劑1至5重量份及添加劑0. 01至2重 量份的混合物構(gòu)成，并向此混合物照射紫外線并交聯(lián)固化而成。較佳地，構(gòu)成上述聚光層22的混合物，含有丙烯酸酯低聚物45重量份、丙烯酸酯 單體52重量份、光引發(fā)劑3重量份及添加劑2重量份。丙烯酸酯低聚物選用聚氨酯丙烯酸 酯低聚物為宜。丙烯酸酯單體起到反應(yīng)性稀釋劑或交聯(lián)劑的作用。光聚合引發(fā)劑作用在 于吸收光生成基團之后引發(fā)，可從a -醇酮(a -Hydroxyketone)、苯基氧代乙酸 (Phenylglyoxylate)及a -氛基麗(a -Aminoketone)中選擇一禾中或多禾中。另外，添加劑可使用抑制聚合反應(yīng)的抑制劑、使表面變得均勻的表面平滑劑、抑制 氣泡發(fā)生的消泡劑等。在此，聚光層22的結(jié)構(gòu)化圖形25具備具有一定頂角(a)的尖端部22a，而上述尖 端部22a可以預(yù)先設(shè)定的間隔(w)排列。上述光學(xué)復(fù)合片20的結(jié)構(gòu)化圖形25，所述聚光層的結(jié)構(gòu)化圖形為以下結(jié)構(gòu)之一， 剖面為重復(fù)的三角形的圓筒狀，剖面為重復(fù)的三角形的金字塔狀，剖面為重復(fù)的半圓形的圓筒狀，剖面為重復(fù)的五角星的圓筒狀，剖面為重復(fù)的梯形的圓筒狀或透鏡狀。。本發(fā)明防劃層23形成于上述結(jié)構(gòu)化圖形25的另外一面即上述基材層22下部， 而且利用包含10至lOOnm大小納米粒子24的紫外線硬化型膠黏劑涂布成0. 1 y m至3 y m 的厚度。其中，納米粒子的粒徑若超過上述范圍，則因受短波長的影響而降低光線的遮蔽 性，從而降低亮度，而若不足上述范圍，則因納米粒子22b的表面能量的上升，發(fā)生凝聚的 問題。上述納米粒子可從包含Si02、Ti02、A1203等氧化物或PMMA中選擇。上述防劃層23較之現(xiàn)有技術(shù)具有更高的硬度，從而不僅具有防劃功能，而且由于 內(nèi)部包含的納米粒子起到散射從外部入射的光的作用。構(gòu)成上述防劃層23的膠黏劑樹脂為從聚碳酸酯(Polycarbonate，PC)、 聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚丙烯酸酯(polyacrylate，PAR)、聚氨酯丙烯酸 酯(urethaneacrylate)、聚醚酰亞胺(polyetherimide，PEI)、聚萘二 甲酸乙二醇酯 (polyethyelenennapthalate, PEN)、聚苯 謎(polyphenylenesulfide, PPS)、聚芳酉旨 (polyarylate)、聚酰亞胺(polyimide)中選擇的一種，而較佳地，由聚氨酯丙烯酸酯制備 而成。另外，在制造本發(fā)明背光模塊用光學(xué)復(fù)合片20時，若在基材層21下部形成上述防 劃層23，較佳地，含有納米粒子的防劃層23可以在棱鏡成型過程之前制造，而且需要對包 含納米粒子的膠黏劑內(nèi)的溶劑進行干燥蒸發(fā)。上述表面涂層26，在棱鏡成型過程之后制造為宜，而且需要對包含納米粒子的膠 黏劑內(nèi)的溶劑進行干燥蒸發(fā)。如圖5所示，本發(fā)明光學(xué)復(fù)合片20的防劃層制造裝置，包括拉伸輥30、纏繞輥 40、多個移送輥41、42、51、52、納米涂布模塊50、干燥模塊60及紫外線硬化模塊70。上述拉 伸輥30拉伸基材層21，而上述纏繞輥40纏繞涂布有防劃層23的基材層21。上述多個移 送輥41、42移送經(jīng)干燥模塊60及紫外線硬化模塊70完成防劃層23硬化的光學(xué)薄膜材料。上述納米涂布模塊50中包括包含Si02、Ti02、Al203等納米粒子的混合揮發(fā)性溶劑 的膠黏劑，而上述溶劑包括甲醇、乙醇、n-丙醇、ISO丙醇、n- 丁醇等醇類，而且還可包括甲 基乙基酮(Methyl Ethyl Keton)、甲基異丁酮(Methyllsobutyl Ketone, MIBK)等酮類。另外，上述膠黏劑為了提高納米粒子的分散性，還可包括包含陽離子系、陰離子 系、非離子系、氟系等表面活性劑的分散穩(wěn)定劑，較佳地，所述分散穩(wěn)定劑包括光聚合引發(fā) 劑。上述防劃層23經(jīng)納米涂布模塊50涂布之后，經(jīng)干燥模塊60及紫外線硬化模塊70
完成硬化，被纏繞輥40纏繞保管。上述表面涂層26通過上述納米涂布模塊50、干燥模塊60及紫外線硬化模塊70制 造成光學(xué)薄膜材料。在本發(fā)明中，在上述表面涂層26及防劃層23上涂布所需納米粒子分散穩(wěn)定劑的 方法，只要能夠完成均勻涂布的方法即可，沒有特別的限制。可利用包括一般的凹板涂布 法、拉絲涂布法、噴涂法、微凹板涂布法、狹縫涂布法等在內(nèi)的各種涂布方法。另外，可根據(jù) 需要采用噴墨法等涂布法、絲網(wǎng)印刷等涂布方法。另外，雖然未圖示，在基材層21下部涂布防劃層23之后，制造結(jié)構(gòu)化圖形25及聚光層22的方法與現(xiàn)有技術(shù)相同，因此，在此不再贅述。下面，結(jié)合圖6對設(shè)置本發(fā)明實施例具備涂布納米粒子的多層結(jié)構(gòu)的光學(xué)復(fù)合片 的背光模塊進行說明。本發(fā)明一實施例背光模塊80包括光學(xué)復(fù)合片20，該背光模塊包括光源84，該光 源84鄰近光源反射板83設(shè)置，并通過LED等提供白色光；導(dǎo)光板85，導(dǎo)引從上述光源84出 射的光；反射板82，為防止從上述光源84產(chǎn)生的光暴露至外部而設(shè)置于上述導(dǎo)光板85下 部；及光學(xué)復(fù)合片20，擴散及聚光從上述導(dǎo)光板85上部出射的光，該光學(xué)復(fù)合片20包括基 材層21、聚光層22、防劃層23，表面涂層26，結(jié)構(gòu)化圖形25(圖中未示)。上述表面涂層26在結(jié)構(gòu)化圖形25的表面涂布成0. 01 y m至1 y m的厚度，而上述 防劃層23厚度為0. 1 ii m至3 ii m，該防劃層23由包含lOnm至lOOnm大小納米粒子的紫外 線硬化型膠黏劑構(gòu)成。該防劃層23的厚度若超過上述范圍，則存在亮度降低，不能滿足顯 示裝置輕薄性的問題，而若不足上述范圍，則防劃層23的防劃效果較低。本發(fā)明一實施例背光模塊80中，通過LED燈產(chǎn)生的白色光，通過導(dǎo)光板85入射到 防劃層23，并通過防劃層23的納米粒子擴散之后，聚光至結(jié)構(gòu)化圖形25，然后被結(jié)構(gòu)化圖 形的表面涂敷層26再次擴散而同時實現(xiàn)聚光及擴散效果。根據(jù)本發(fā)明一實施例，因形成于基材層21下部的防劃層23，可去除原來為防止異 物的混入及防劃需單獨具備的保護片。綜上而論，本發(fā)明通過含有納米粒子的表面涂層，提高聚光層結(jié)構(gòu)化圖形的表面 強度，與此同時，通過納米粒子的擴散功能可隱蔽光學(xué)片的瑕疵；在結(jié)構(gòu)化圖形表面具有表 面涂層，可以避免現(xiàn)有技術(shù)中將微粒子加入結(jié)構(gòu)化圖形內(nèi)部影響結(jié)構(gòu)化圖形本身的透光率 的不足。另外，本發(fā)明含有納米粒子的防劃層，無需現(xiàn)有光學(xué)復(fù)合片中需單獨具備的保護 片，即可達到提高抗劃性能及維持亮度的目的，而且通過納米粒子的微細分散涂布，大大降 低浸濕(wet-out)現(xiàn)象及莫爾波紋(Moire)現(xiàn)象。以上所述的具體實施方式
，對本發(fā)明的目的、技術(shù)方案和有益效果進行了進一步 詳細說明，所應(yīng)理解的是，以上所述僅為本發(fā)明的具體實施方式
而已，并不用于限定本發(fā)明 的保護范圍，凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所做的任何修改、等同替換、改進等，均應(yīng)包含 在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
一種用于背光模塊的光學(xué)復(fù)合片，在該光學(xué)復(fù)合片中，其特征在于包括基材層，由透光性材料構(gòu)成；多個結(jié)構(gòu)化圖形，形成于上述基材層上部并具有一預(yù)定間隔；聚光層，包括分布于所述結(jié)構(gòu)化圖形表面的納米粒子的表面涂層；防劃層，在上述基材層下部，利用含有納米粒子的紫外線硬化型膠粘劑涂布而成。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于背光模塊的光學(xué)復(fù)合片，其特征在于所述表面涂 層及所述防劃層的膠粘劑中包括以下至少一種納米粒子包含Si02、Ti02，Al203或聚甲基丙 烯酸甲酯。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種用于背光模塊的光學(xué)復(fù)合片，其特征在于所述膠黏劑 包括包含表面活性劑的分散穩(wěn)定劑。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種用于背光模塊的光學(xué)復(fù)合片，其特征在于所述表面活 性劑包括陽離子系、陰離子系、非離子系或氟系。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種用于背光模塊的光學(xué)復(fù)合片，其特征在于所述膠黏劑 包括以下物質(zhì)中的至少一種，聚碳酸酯、聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚丙烯酸酯、聚氨酯丙烯 酸酯、聚醚酰亞胺、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚苯硫醚、聚芳酯或聚酰亞胺。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于背光模塊的光學(xué)復(fù)合片，其特征在于所述納米粒 子的粒徑為10至lOOnm。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于背光模塊的光學(xué)復(fù)合片，其特征在于所述表面涂 層厚度為0. ΟΙμ 至Ιμ 。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于背光模塊的光學(xué)復(fù)合片，其特征在于所述防劃層 厚度為0. Iym至3μπι。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于背光模塊的光學(xué)復(fù)合片，其特征在于所述聚光層 為含有丙烯酸酯低聚合物40-50重量份、丙烯酸酯單體45-55重量份、光聚合引發(fā)劑1_5重 量份及添加劑0. 01-2重量份的混合物經(jīng)照射紫外線并交聯(lián)而成。
10.根據(jù)權(quán)利要求1或9所述的一種用于背光模塊的光學(xué)復(fù)合片，其特征在于所述聚 光層的結(jié)構(gòu)化圖形為以下結(jié)構(gòu)之一，剖面為重復(fù)的三角形的圓筒狀，剖面為重復(fù)的三角形 的金字塔狀，剖面為重復(fù)的半圓形的圓筒狀，剖面為重復(fù)的五角星的圓筒狀，剖面為重復(fù)的 梯形的圓筒狀或透鏡狀。
全文摘要
本發(fā)明涉及用于背光模塊的光學(xué)復(fù)合片。本發(fā)明具備涂布納米粒子的多層結(jié)構(gòu)的用于背光模塊的光學(xué)復(fù)合片，包括基材層，由透光性材料構(gòu)成；多個結(jié)構(gòu)化圖形，形成于上述基材層上部并具有一預(yù)定間隔；聚光層，包括以0.01μm至1μm的厚度分布于上述結(jié)構(gòu)化圖形表面的納米粒子的表面涂層；及防劃層，在上述基材層下部，利用含有納米粒子的紫外線硬化型膠粘劑涂布成0.1μm至3μm的厚度。在通過含有納米粒子的表面涂層及防劃層提高抗劃性能的同時，通過納米粒子的微細分散涂布，大大降低浸濕(wet-out)現(xiàn)象及莫爾波紋(Moire)現(xiàn)象，從而兼?zhèn)渚酃饧皵U散功能。
文檔編號F21V5/08GK101852948SQ20101016065
公開日2010年10月6日 申請日期2010年4月23日 優(yōu)先權(quán)日2010年4月23日
發(fā)明者金長松, 金青松 申請人:上海凱鑫森產(chǎn)業(yè)投資控股有限公司