專利名稱：一種背光模組及其光源組件的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是關(guān)于一種光源組件，特別是關(guān)于一種具有整光結(jié)構(gòu)的光源組件，前述光 源組件可適用于背光模組中。
背景技術(shù)：
目前無論是發(fā)光二極管(LED)或是冷陰極管(CCFL)在生活或是工業(yè)的應(yīng)用上，其 發(fā)光的亮度皆能夠符合市場(chǎng)上的需求。然而，發(fā)光二極管(LED)或冷陰極管(CCFL)所產(chǎn)生 的發(fā)光區(qū)域一直存在著某些特定部位具有發(fā)光過量的問題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種背光模組及其光源組件，以解決現(xiàn)有技術(shù)中發(fā)光組件 產(chǎn)生的發(fā)光區(qū)域某些特定部位發(fā)光過量的問題。根據(jù)本發(fā)明的目的，提出一種光源組件，其包含一框型區(qū)域及至少兩個(gè)發(fā)光裝置。 兩個(gè)發(fā)光裝置均位于此框型區(qū)域的周邊。發(fā)光裝置包含一個(gè)發(fā)光組件及一個(gè)光學(xué)組件，光 學(xué)組件設(shè)置在發(fā)光組件上。其中，上述框型區(qū)域具有一幾何中心，光學(xué)組件設(shè)置至少一個(gè)整 光結(jié)構(gòu)，整光結(jié)構(gòu)面向幾何中心。進(jìn)一步地，所述發(fā)光裝置成一多邊形排列，發(fā)光裝置位于多邊形的端點(diǎn)。更進(jìn)一步地，所述多邊形為三角形、四邊形、五邊形、六邊形、七邊形或八邊形。進(jìn)一步地，所述整光結(jié)構(gòu)設(shè)置于光學(xué)組件的周邊。進(jìn)一步地，所述整光結(jié)構(gòu)的位置相對(duì)于發(fā)光組件的中心位置具有一仰角，所述仰 角介于0 90度之間。更進(jìn)一步地，所述仰角為45度。進(jìn)一步地，所述整光結(jié)構(gòu)可以是溝槽、刻痕、微粒子或反射片，藉此以達(dá)到讓整個(gè) 框型區(qū)域的幾何中心，不會(huì)有發(fā)光過量的問題，換句話說，可以讓整個(gè)框型區(qū)域發(fā)光量更均 勻化。進(jìn)一步地，所述發(fā)光組件包含至少一個(gè)發(fā)光二極管或至少一個(gè)冷陰極管。進(jìn)一步地，所述發(fā)光組件運(yùn)用于一背光模組中。根據(jù)本發(fā)明的目的，更提出一種背光模組，其包含多個(gè)光學(xué)膜片、一光源組件及一 框架組。此光源組件設(shè)置于光學(xué)膜片的下方，框架組用以容置多個(gè)光學(xué)膜片及光源組件。光 源組件包含一框型區(qū)域及至少兩個(gè)發(fā)光裝置，兩個(gè)發(fā)光裝置位于框型區(qū)域的周邊，發(fā)光裝 置包含一發(fā)光組件及一光學(xué)組件，光學(xué)組件設(shè)置于發(fā)光組件上；其中，框型區(qū)域定義有一幾 何中心，光學(xué)組件設(shè)置至少一個(gè)整光結(jié)構(gòu)，且整光結(jié)構(gòu)面向幾何中心。承上所述，因依本發(fā)明的光源組件及背光模組，其可具有一或多個(gè)下述優(yōu)點(diǎn)(1)此光源組件及背光模組可以避免整個(gè)發(fā)光區(qū)域產(chǎn)生發(fā)光過量的問題。(2)此光源組件及背光模組讓整個(gè)發(fā)光區(qū)域的發(fā)光量更均勻化。


圖IA為本發(fā)明一實(shí)施例的光源組件的俯視示意圖；圖IB為沿圖IA的A-A方向的光源組件的側(cè)視示意圖；圖IC為本發(fā)明另一實(shí)施例的光源組件的俯視示意圖；圖2A為本發(fā)明另一實(shí)施例的光源組件的俯視示意圖；圖2B為沿圖2A的B-B方向的光源組件的側(cè)視示意圖；圖2C為本發(fā)明的另一實(shí)施例的光源組件的實(shí)施例的俯視示意圖；圖3A為本發(fā)明的另一實(shí)施例的光源組件的俯視示意圖；圖3B為本發(fā)明另一實(shí)施例的光源組件的俯視示意圖；圖4為本發(fā)明的部份背光模組的側(cè)視示意圖。主要組件符號(hào)說明10,30,50 光源組件100 框型區(qū)域101幾何中心200發(fā)光裝置210發(fā)光組件220光學(xué)組件221整光結(jié)構(gòu)300框型區(qū)域301幾何中心400發(fā)光裝置410發(fā)光組件420光學(xué)組件421整光結(jié)構(gòu)500框型區(qū)域501幾何中心600發(fā)光裝置610發(fā)光組件620光學(xué)組件621整光結(jié)構(gòu)700光源組件800光學(xué)膜片900框架組100CI 背光模組θ 仰角
具體實(shí)施例方式請(qǐng)參閱圖IA及圖1B，圖IA為本發(fā)明一實(shí)施例的光源組件的俯視示意圖，圖IB為 沿圖IA的A-A方向的光源組件的側(cè)視示意圖。本發(fā)明光源組件10包含一框型區(qū)域100及 兩發(fā)光裝置200。兩發(fā)光裝置200位于此框型區(qū)域100的兩對(duì)應(yīng)周邊上。發(fā)光裝置200包 含一個(gè)發(fā)光組件210及一個(gè)光學(xué)組件220，其中光學(xué)組件220設(shè)置在發(fā)光組件210的上方。 此外，發(fā)光組件210包含至少一個(gè)發(fā)光二極管(LED)或是至少一個(gè)冷陰極管(CCFL)。以本 實(shí)施例而言，此發(fā)光組件210包含一個(gè)冷陰極管(CCFL)。其中，上述框型區(qū)域100定義有一幾何中心101，光學(xué)組件220于其周邊則設(shè)置有 至少一個(gè)整光結(jié)構(gòu)221，且整光結(jié)構(gòu)221面向幾何中心101，其中，整光結(jié)構(gòu)221的位置相對(duì) 于發(fā)光組件210的中心位置具有一仰角θ，以本實(shí)施例而言，其仰角約45度，但并不以此為 限，當(dāng)框型區(qū)域大小不同、光學(xué)組件不同、光源設(shè)置不同等皆會(huì)影響整光結(jié)構(gòu)所處的仰角θ 有所不同，以本發(fā)明整光結(jié)構(gòu)而言，上述仰角θ可介于約0 90度之間。而且，整光結(jié)構(gòu)221可以是溝槽、刻痕、微粒子或反射片等，藉此以避免整個(gè)框型 區(qū)域100的幾何中心101產(chǎn)生發(fā)光過量的問題。換句話說，可以讓整個(gè)框型區(qū)域100發(fā)光 量更均勻化。其中，整光結(jié)構(gòu)221并不以上述提及方式為限，凡是對(duì)于光具有轉(zhuǎn)折、吸收、減弱的結(jié)構(gòu)或是物質(zhì)，可使框型區(qū)域內(nèi)發(fā)光均勻化，皆為本發(fā)明所述整光結(jié)構(gòu)的范疇。另外請(qǐng)參閱圖1C，其為本發(fā)明另一實(shí)施例的光源組件的俯視示意圖。圖IC繪示 出從個(gè)如圖IA所示的光源組件10，并規(guī)則排列，以符合不同的工業(yè)需求，如運(yùn)用于背光模組。特別說明的是，本發(fā)明所述任何實(shí)施態(tài)樣的光源組件，不僅可運(yùn)用于如背光模組 中，亦可運(yùn)用其它光均勻化的裝置、設(shè)備或應(yīng)用，但不以此為限。并且，本發(fā)明所述的框型區(qū)域并不局限于方形、矩形、三邊形、四邊形、五邊形、六 邊形、七邊形、八邊形等，亦可為圓形、橢圓形…等規(guī)則形狀，甚致可為一不規(guī)則形狀的多邊 形、環(huán)形等。請(qǐng)參閱圖2A及圖2B，圖2A為本發(fā)明另一實(shí)施例的光源組件的俯視示意圖，圖2B 為沿圖2A的B-B方向的光源組件的側(cè)視示意圖。如圖2A所示，此光源組件30包含一框型 區(qū)域300及兩發(fā)光裝置400。兩發(fā)光裝置400位于此框型區(qū)域300的兩對(duì)應(yīng)周邊上。發(fā)光 裝置400包含一個(gè)發(fā)光組件410及一個(gè)光學(xué)組件420，其中光學(xué)組件420設(shè)置在發(fā)光組件 410的上方。此外，發(fā)光組件410包含至少一個(gè)發(fā)光二極管(LED)或是至少一個(gè)冷陰極管 (CCFL)。以本實(shí)施例而言，此發(fā)光組件410包含一個(gè)發(fā)光二極管(LED)。其中，上述框型區(qū)域300定義有一幾何中心301，光學(xué)組件420于其周邊則設(shè)置有 至少一個(gè)整光結(jié)構(gòu)421，且整光結(jié)構(gòu)421面向幾何中心301，其中，整光結(jié)構(gòu)421的位置相對(duì) 于發(fā)光組件410的中心位置具有一仰角θ，以本實(shí)施例而言，其仰角約45度，但并不以此為 限，當(dāng)框型區(qū)域大小不同、光學(xué)組件不同、光源設(shè)置不同等皆會(huì)影響整光結(jié)構(gòu)所處的仰角θ 有所不同，以本發(fā)明整光結(jié)構(gòu)而言，上述仰角θ可介于約0 90度之間。而且，整光結(jié)構(gòu)421可以是溝槽、刻痕、微粒子或反射片，藉此以避免整個(gè)框型區(qū) 域300的幾何中心301產(chǎn)生發(fā)光過量的問題。換句話說，可以讓整個(gè)框型區(qū)域300發(fā)光量 更均勻化。其中，整光結(jié)構(gòu)并不以上述提及方式為限，舉凡對(duì)于光具有轉(zhuǎn)折、吸收、減弱的結(jié) 構(gòu)或是物質(zhì)，可使框型區(qū)域內(nèi)發(fā)光均勻化，皆為本發(fā)明所述整光結(jié)構(gòu)的范疇。另外，請(qǐng)參閱圖2C，其為本發(fā)明之另一實(shí)施例的光源組件的實(shí)施例的俯視示意圖。 圖2C繪示出多個(gè)如圖2Α所示的光源組件30并規(guī)則排列，以符合不同的工業(yè)需求，如運(yùn)用 于背光模組，特別是可視為發(fā)光二極管光條(LEDlight bar)運(yùn)用于側(cè)光式的背光模組中， 此外，亦可運(yùn)用于直下式背光模組中。請(qǐng)參閱圖3A，其為本發(fā)明的另一實(shí)施例的光源組件的俯視示意圖。如圖3A所示， 此光源組件50包含一框型區(qū)域500及四個(gè)發(fā)光裝置600，且四個(gè)發(fā)光裝置600位于此框型 區(qū)域500的周邊上。四個(gè)發(fā)光裝置600成四邊形排列，且該四個(gè)發(fā)光裝置600位于四邊形的 端點(diǎn)。此外，本發(fā)明的光源組件更可包含五個(gè)、六個(gè)、七個(gè)、八個(gè)或是八個(gè)以上的發(fā)光裝置， 且這些發(fā)光裝置可以形成三角形、四邊形、五邊形、六邊形、七邊形、八邊形或八邊形以上的 多邊形，而且這些發(fā)光裝置位于多邊形的端點(diǎn)上。上述發(fā)光裝置600包含一個(gè)發(fā)光組件610及一個(gè)光學(xué)組件620。光學(xué)組件620設(shè) 置在發(fā)光組件610上。發(fā)光組件610包含至少一個(gè)發(fā)光二極管(LED)或是至少一個(gè)冷陰極 管(CCFL)。以本實(shí)施例而言，此發(fā)光組件610包含一個(gè)發(fā)光二極管(LED)。其中，上述框型區(qū)域500定義有一幾何中心501，光學(xué)組件620于其周邊則設(shè)置有 至少一個(gè)整光結(jié)構(gòu)621，且整光結(jié)構(gòu)621面向幾何中心501，其中，整光結(jié)構(gòu)621的位置相對(duì)于發(fā)光組件610的中心位置具有一仰角θ，以本實(shí)施例而言，其仰角約45度，但并不以此為 限，當(dāng)框型區(qū)域大小不同、光學(xué)組件不同、光源設(shè)置不同等皆會(huì)影響整光結(jié)構(gòu)所處的仰角θ 有所不同，以本發(fā)明整光結(jié)構(gòu)而言，上述仰角θ可介于約0 90度之間。而且，整光結(jié)構(gòu)621可以是溝槽、刻痕、微粒子或反射片等，藉此以避免整個(gè)框型 區(qū)域500的幾何中心501產(chǎn)生發(fā)光過量的問題。換句話說，可以讓整個(gè)框型區(qū)域500發(fā)光 量更均勻化。其中，整光結(jié)構(gòu)并不以上述提及方式為限，舉凡對(duì)于光具有轉(zhuǎn)折、吸收、減弱的 結(jié)構(gòu)或是物質(zhì)，可使框型區(qū)域內(nèi)發(fā)光均勻化，皆為本發(fā)明所述整光結(jié)構(gòu)的范疇。另外，請(qǐng)參閱圖3Β，其為本發(fā)明另一實(shí)施例的光源組件的俯視示意圖。圖3Β繪示 出多個(gè)如圖3Α所示的光源組件50，并規(guī)則排列，以符合不同的工業(yè)需求，如運(yùn)用于背光模 組，特別是運(yùn)用于直下式背光模組中。請(qǐng)參閱圖4，其為本發(fā)明的部份背光模組的側(cè)視示意圖。如圖4所示，此背光模組 1000包含多個(gè)光學(xué)膜片800、多個(gè)光源組件700及一框架組900。此光源組件700設(shè)置于 光學(xué)膜片800的下方，且框架組900用以容置上述多個(gè)光學(xué)膜片800及多個(gè)光源組件700。 另外，光源組件700可為前述所提及的光源組件，如，圖3Α所示的光源組件。特別說明的是，本發(fā)明所述光學(xué)組件的整光結(jié)構(gòu)面向該幾何中心，其中，“面向”意 指光學(xué)組件的整光結(jié)構(gòu)鄰近于幾何中心，以解決幾何中心過亮的問題。此外，整光結(jié)構(gòu)并不 僅局限于設(shè)置于光學(xué)組件的周邊，亦可設(shè)置于光學(xué)組件的開口處(圖中未示出，亦即光學(xué) 組件用以設(shè)置發(fā)光組件處)的內(nèi)環(huán)面，亦可設(shè)置透過如雷射制程，將整光結(jié)構(gòu)設(shè)置于光學(xué) 組件之中(圖中未示出，亦即，如上述周邊與內(nèi)環(huán)面間)。以上所述僅為本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例，對(duì)本發(fā)明而言僅是說明性的，而非限制性的； 本領(lǐng)域技術(shù)人員理解，在本發(fā)明權(quán)利要求所限定的精神和范圍內(nèi)可對(duì)其進(jìn)行許多改變，修 改，甚至等效變更，但都將落入本發(fā)明的保護(hù)范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種光源組件，其特征在于其至少包含一框型區(qū)域；及至少兩個(gè)發(fā)光裝置，所述發(fā)光裝置位于所述框型區(qū)域的周邊，所述發(fā)光裝置包含一發(fā) 光組件及一光學(xué)組件，所述光學(xué)組件設(shè)置于所述發(fā)光組件上；其中，所述框型區(qū)域定義有一幾何中心，所述光學(xué)組件設(shè)置至少一個(gè)整光結(jié)構(gòu)，且所述 整光結(jié)構(gòu)面向所述幾何中心。
2.如權(quán)利要求1所述的光源組件，其特征在于所述發(fā)光裝置成一多邊形排列，所述發(fā) 光裝置位于所述多邊形的端點(diǎn)。
3.如權(quán)利要求2所述的光源組件，其特征在于所述多邊形為三角形、四邊形、五邊形、 六邊形、七邊形或八邊形。
4.如權(quán)利要求1所述的光源組件，其特征在于所述整光結(jié)構(gòu)設(shè)置于所述光學(xué)組件的 周邊。
5.如權(quán)利要求1所述的光源組件，其特征在于所述整光結(jié)構(gòu)的位置相對(duì)于所述發(fā)光 組件的中心位置具有一仰角，所述仰角介于0 90度之間。
6.如權(quán)利要求5所述的光源組件，其特征在于所述仰角為45度。
7.如權(quán)利要求1所述的光源組件，其特征在于所述整光結(jié)構(gòu)為溝槽、刻痕、微粒子或 反射片。
8.如權(quán)利要求1所述的光源組件，其特征在于所述發(fā)光組件包含至少一個(gè)發(fā)光二極 管或至少一個(gè)冷陰極管。
9.如權(quán)利要求1所述的光源組件，其特征在于所述發(fā)光組件運(yùn)用于一背光模組中。
10.一種背光模組，其特征在于其至少包含多個(gè)光學(xué)膜片、一光源組件及一用以容置 所述多個(gè)光學(xué)膜片及光源組件的框架組；所述光源組件設(shè)置于所述的多個(gè)光學(xué)膜片的下 方，所述光源組件包含一框型區(qū)域；及至少兩個(gè)發(fā)光裝置，所述發(fā)光裝置位于所述框型區(qū)域的周邊，所述發(fā)光裝置包含一發(fā) 光組件及一光學(xué)組件，所述光學(xué)組件設(shè)置于所述發(fā)光組件上；其中，所述框型區(qū)域定義有一幾何中心，所述光學(xué)組件設(shè)置至少一個(gè)整光結(jié)構(gòu)，且所述 整光結(jié)構(gòu)面向所述幾何中心。
全文摘要
本發(fā)明揭露一種背光模組及其光源組件，所述光源組件包含一框型區(qū)域及至少兩個(gè)發(fā)光裝置。發(fā)光裝置位于此框型區(qū)域的周邊上，發(fā)光裝置包含一個(gè)發(fā)光組件及一個(gè)光學(xué)組件，光學(xué)組件設(shè)置在發(fā)光組件上。其中上述框型區(qū)域有一幾何中心，光學(xué)組件設(shè)置至少一個(gè)整光結(jié)構(gòu)，且整光結(jié)構(gòu)面向上述幾何中心。所述背光模組包含多個(gè)光學(xué)膜片、一光源組件及一框架組。此光源組件設(shè)置于光學(xué)膜片的下方，且框架組用以容置多個(gè)光學(xué)膜片及光源組件。采用上述結(jié)構(gòu)，可避免整個(gè)發(fā)光區(qū)域產(chǎn)生發(fā)光過量的問題，可讓整個(gè)發(fā)光區(qū)域的發(fā)光量更均勻化。
文檔編號(hào)F21V17/10GK102116441SQ20101000329
公開日2011年7月6日 申請(qǐng)日期2010年1月6日 優(yōu)先權(quán)日2010年1月6日
發(fā)明者李一昌, 陳榮舜 申請(qǐng)人:奇菱科技股份有限公司