專利名稱：蔭罩式等離子體顯示屏熒光粉膜的制備方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種蔭罩式等離子體顯示屏的制造工藝，尤其是其熒光粉膜 的制備方法，具體地說是一種蔭罩式等離子體顯示屏熒光粉膜的制備方法。
技術(shù)背景目前，蔭罩是彩色陰極射線管(CRT)包含彩色電視顯象管(CPT) 和電腦彩色顯示管(CDT)中的關(guān)鍵部件.蔭罩是一張開有十幾萬至幾十 萬個精確定位的點陣孔的金屬薄板，這些小孔的剖面呈喇叭狀。蔭罩材料采 用超低碳冷軋鋁鎮(zhèn)靜鋼帶(A K )或鐵鎳合金鋼帶(I N V A R )。蔭罩具有 非常高的精度，采用照相腐蝕工藝進行生產(chǎn)，涉及多項學(xué)科與技術(shù)。經(jīng)過十 多年的生產(chǎn)，相關(guān)工藝技術(shù)已經(jīng)相當成熟。等離子體顯示器(PDP)使特定的氣體放電并激發(fā)熒光材料來形成圖像。 即，通過在空間上相互靠近并充有所述氣體的兩個電極之間施加預(yù)定的電壓 來實現(xiàn)放電。通過由所述氣體產(chǎn)生的紫外線激發(fā)按預(yù)定圖案形成的熒光層來 構(gòu)成圖像。蔭罩式等離子體顯示器利用彩色CRT (陰極射線管)生產(chǎn)中常用的蔭罩來 代替現(xiàn)有PDP中制造工藝復(fù)雜的障壁。由于用蔭罩代替障壁，簡化了工藝， 降低了成本。現(xiàn)有的蔭罩式PDP中熒光體層主要采用三色套色噴涂方法，將紅綠藍三 色的熒光粉顆粒分別制成漿狀，由噴槍經(jīng)噴嘴霧化噴出進行涂敷。采用這種 方法工藝控制比較困難，或者是涂粉過少，造成熒光粉層厚度達不到要求， 亮度偏低；或者是涂粉過多，由于熒光粉漿料的流淌，會全部或部分堵塞蔭 罩孔，產(chǎn)生亮度不均勻甚至無法正常放電。為此，人們在漿料的配置和噴涂量的控制上投入了大量的人力物力仍未取 得理想的效果，不是噴涂量不夠，就是會有部分小孔補堵住，封屏后即形成暗點或不發(fā)光的黑點，影響了顯示質(zhì)量的提高，急需尋找到一種理想的噴涂方法，解決熒光粉層厚度與堵孔之間的矛盾。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的是針對現(xiàn)有的噴涂方法制備熒光粉層時存在的易產(chǎn)生堵孔 產(chǎn)生亮度不均勻甚至無法正常放電的問題，發(fā)明一種蔭罩式等離子體顯示屏 熒光粉膜的制備方法。本發(fā)明的技術(shù)方案是一種蔭罩式等離子體顯示屏熒光粉膜的制備方法，其特征在于它包括以 下步驟a) 將掩模蔭罩與工作蔭罩對準；b) 使辨模蔭罩與工作蔭罩緊密接合； C)噴涂第一基色的熒光粉；d) 使掩模蔭罩與工作蔭罩分離e) 將工作蔭罩烘干；f) 重復(fù)步驟a至e，依次在工作蔭罩上完成第二基色、第三基色熒光 粉的噴涂；g) 采用粒徑為0. 1 100 U m的顆粒從工作蔭罩的正面或/和背面對上 述涂粉工作蔭罩噴砂處理，以清除噴涂過程中堵塞蔭罩孔的多余熒光粉；h) 用潔凈氣體將噴砂顆粒去除干凈；i) 高溫?zé)Y(jié)，除去各類有機溶劑或粘接劑。 當從正面對工作蔭罩進行噴砂處理時所采用的噴砂顆粒的粒徑為0. l 1 l丄m，以達到消除熒光粉膜表面不光滑和三色熒光粉膜厚度不均勻的現(xiàn)象。 從正面或和背面對工作蔭罩進行噴砂處理，以達到消除工作蔭罩由于軋制和腐蝕殘留的表面應(yīng)力，改善由于蔭罩在工藝過程中熱脹冷縮造成的熒光粉膜不均勻的現(xiàn)象。當從背面對工作蔭罩進行噴砂處理時所采用的噴砂顆粒的粒徑為蔭罩孔小孔直徑的1% 50%。所述的噴砂顆粒為二氧化硅、三氧化二鋁或碳酸鈣。所述的噴砂壓力為1. 1 10個大氣壓。 本發(fā)明的有益效果本發(fā)明采用噴砂的方法，從小孔面或大孔面有目的地切削熒光粉層，從 而使蔭罩式PDP中熒光粉的噴涂達到工藝的要求。在保證熒光粉層厚度的同 時，有效地消除了熒光粉的堵孔現(xiàn)象，滿足SMPDP對熒光粉厚度和均勻性的 要求。本發(fā)明的噴砂方法不需要制作掩模可直接利用金屬蔭罩本身做掩模， 方便可行，成本較低。


圖1是本發(fā)明的基本流程圖。圖2是本發(fā)明的工作蔭罩的俯視和側(cè)視圖。 圖3是本發(fā)明的掩模蔭罩的俯視和側(cè)視圖。 圖4是本發(fā)明的工作蔭罩和掩模蔭罩對準狀態(tài)示意圖。 圖5是本發(fā)明噴砂裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。 圖6是本發(fā)明的涂敷紅色熒光粉后的蔭罩狀態(tài)示意圖。 圖7是本發(fā)明的三基色熒光粉噴涂后的效果示意圖。
具體實施方式
下面結(jié)合附圖和實施例對本發(fā)明作進一步的說明。 本發(fā)明的整個噴涂的流程如圖1所示。 下面對主要過程進行說明。1、 噴涂熒光粉漿料的配制，要求既要有一定的黏度和含粉量有要能被充 分霧化，這樣，熒光粉才能黏附在蔭罩孔的斜壁2a上(圖3下部所示)，且 不易流淌。本步驟的漿料配制與現(xiàn)有技術(shù)相同，只要滿足常替要求即可。2、 使工作蔭罩(圖2)與掩模蔭罩(圖3)對準。掩模蔭罩孔水平節(jié)距 2f是工作蔭罩孔水平節(jié)距l(xiāng)f的三倍。垂直節(jié)距l(xiāng)e、 2e相同。3、 工作蔭罩(圖2)與掩模蔭罩(圖3)對準后，利用磁板3a使套色掩 模蔭罩與工作蔭罩貼緊，完成二者的裝夾過程。如圖4所示。4、 使用二維掃描機構(gòu)帶動噴槍進行自動噴涂。調(diào)整槍網(wǎng)距離、噴涂流量、 空氣壓力掃描速度、步長以及噴涂次數(shù)等參數(shù)，使熒光粉均勻一致的附著在蔭罩上，本步驟可與現(xiàn)有的噴涂工藝完全相同，無特殊要求。如圖4所示，在掩模蔭罩與工作蔭罩對準的情況下進行噴粉后，在像素點(紅綠藍)的一種顏色的蔭罩孔內(nèi)及掩模蔭罩表面覆蓋了一層熒光粉4a(如 圖6所示)。厚度達到10 30微米，此時蔭罩的小孔可能部分或全部堵塞。 圖6中表示的是全部堵塞的情況。5、 揭去掩模蔭罩，烘干，再重復(fù)步驟3、 4的過程，在掩模蔭罩與工作 蔭罩對準的情況下噴涂第二基色的熒光粉4b、第三基色的熒光粉4c。如圖7 所示，三基色噴粉完成后，在蔭罩孔內(nèi)覆蓋了一層厚度達到要求的熒光粉。 小孔可能部分或全部堵住。6、 對經(jīng)過上述過程的工作蔭罩進行噴砂處理。噴砂可^小孔面進行，粒徑為蔭罩小孔尺寸1% 50% (通常為1 100微 米)的磨料顆粒5c經(jīng)1. 1-10個大氣壓的壓縮空氣攜帶下從噴嘴5a噴出，在 整個蔭罩5b上進行掃描。調(diào)整壓力、掃描速度、步長等參數(shù)，使磨料對熒光 粉層的切削均勻一致，噴砂裝置如圖5所示。具體實施時，也可從蔭罩大孔 面進行噴砂處理，詳見下面實例所述。經(jīng)過噴砂處理后，蔭罩5b的小孔被貫穿，最終結(jié)果如圖7所示，留下大 孔斜壁上所需要的一層熒光粉。7、 對經(jīng)過噴砂的蔭罩用潔凈的壓縮空氣吹掃，去除殘留在蔭罩表面和孔 里的沙粒和切削下來的熒光粉顆粒，經(jīng)高溫?zé)Y(jié)去除有機溶劑或粘結(jié)劑后最 終得到所需的PDP工作蔭罩。本發(fā)明的關(guān)鍵就是第六步，采用噴砂的方法，從大、小孔面有目的有選 擇地切削熒光粉層，從而使蔭罩式PDP中熒光粉層的制備達到工藝的要求。 這種方式的噴砂，不需要制作掩模，直接利用金屬蔭罩本身做掩模。實例一。1、噴涂熒光粉漿料的配制，把乙基纖維素的松油醇溶液、乙醇和一定量 的熒光粉在40-5(TC時混合，先使用機械攪拌，大致混合后在用超聲波攪拌1 一2小時，最后放在滾瓶機上滾動大約24小時；2、 工作蔭罩(圖2)與掩模蔭罩(圖3)對準后，裝夾靠磁板3a使套色 掩模蔭罩3與工作蔭罩2貼緊。如圖4所示。3、 使用二維掃描機構(gòu)帶動噴槍進行自動噴涂。調(diào)整槍網(wǎng)距離、噴涂流量、 空氣壓力掃描速度、步長以及噴涂次數(shù)等參數(shù)，使熒光粉均勻一致的附著在 蔭罩上。如圖6所示，在掩模蔭罩與工作蔭罩對準的情況下進行噴粉后，在像素 點(紅綠藍)的一種顏色的蔭罩孔內(nèi)及掩模蔭罩表面覆蓋了一層熒光粉4a。 厚度達到10 30微米，此時蔭罩的小孔可能部分或全部堵塞。圖6中表示的 是全部堵塞的情況。4、 揭去掩模蔭罩，烘干，再重復(fù)步驟3、 4的過程，在掩模蔭罩與工作 蔭罩對準的情況下噴涂第二基色的熒光粉4b、第三基色的熒光粉4c的噴涂、 烘干。三基色噴粉完成后，在工作蔭罩孔內(nèi)覆蓋了一層厚度達到要求的熒光 粉，小孔可能部分或全部堵住。5、 對經(jīng)過上述過程的工作蔭罩進行噴砂處理。工作蔭罩5b水平放置在玻璃板上，采取機械夾緊或者磁力吸附的方式固 定好。噴砂從小孔面進行，砂粒粒徑為蔭罩小孔尺寸1/2-1/100 (通常為l 100微米)的磨料顆粒，使磨料顆粒經(jīng)1. 1-IO個大氣壓的壓縮空氣攜帶從1-2 個噴嘴5a噴出，噴嘴5a在整個蔭罩面上進行X向Y向二維掃描。調(diào)整壓力、 掃描速度、步長等參數(shù)，使磨料5c對熒光粉層的切削均勻一致，如圖5所示。 經(jīng)過噴砂處理后，蔭罩5b的小孔被貫穿，最終結(jié)果如圖7所示，留下大孔斜 壁上所需要的一層熒光粉。6、 對經(jīng)過噴砂的蔭罩用潔凈的壓縮空氣吹掃，去除殘留在蔭罩表面和孔 里的沙粒和切削下來的熒光粉顆粒，經(jīng)高溫?zé)Y(jié)去除有機深劑和粘結(jié)劑后最 終得到所需的涂粉蔭罩。實例二。前四步與實例一相同，第五步噴砂從大孔面進行，粒徑為0. 1 1微米的 磨料顆粒經(jīng)1. 1-10個大氣壓的壓縮空氣攜帶從噴嘴5a噴出，在整個蔭罩5b 上進行掃描。調(diào)整壓力、掃描速度、步長等參數(shù)，使磨料對熒光粉層的切削均勻一致。經(jīng)過噴砂處理后，工作蔭罩5b的大孔面表面橋架ld上的多余熒光粉和 堵塞小孔的熒光粉被去除，小孔完全被貫穿。雖然大孔斜壁上的熒光粉層會 減薄，但一致性會得到改善。最終結(jié)果如圖7所示，留下大孔斜壁上所需要 的一層熒光粉。實例三。前六步與實施例二相同，第七步為了防止大孔斜壁上的熒光粉層減薄過 多，在一致性得到改善后可能還有部分小孔未能全部貫穿，因此增加一步從小孔面進行的噴砂。最終結(jié)果如圖7所示，留下大孔斜壁上所需要的一層熒 光粉。上述實,一 三中噴砂可選用硬度不同的材質(zhì)，如二氧化硅、三氧化二 鋁或碳酸鈣。本發(fā)明未涉及部分均與現(xiàn)有技術(shù)相同或可采用現(xiàn)有技術(shù)加以實現(xiàn)。
權(quán)利要求
1. 一種蔭罩式等離子體顯示屏熒光粉膜的制備方法，其特征在于它包括以下步驟a)將掩模蔭罩與工作蔭罩對準；b)使掩模蔭罩與工作蔭罩緊密接合；c)噴涂第一基色的熒光粉；d)使掩模蔭罩與工作蔭罩分離e)將工作蔭罩烘干；f)重復(fù)步驟a至e，依次在工作蔭罩上完成第二基色、第三基色熒光粉的噴涂；g)采用粒徑為0.1～100μm的顆粒從工作蔭罩的正面或/和背面對上述涂粉工作蔭罩噴砂處理，以清除噴涂過程中堵塞蔭罩孔的多余熒光粉；h)用潔凈氣體將噴砂顆粒去除干凈；i)高溫?zé)Y(jié)，除去各類有機溶劑或粘接劑。
2、 如權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征是從正面對工作蔭罩進行噴砂處理 時所采用的噴砂顆粒的粒徑為0. 1 lum，以達到消除熒光粉膜表面不光滑 和三色熒光粉膜厚度不均勻的現(xiàn)象。
3、 如權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征是從正面或和背面對工作蔭罩進行 噴砂處理，以達到消除工作蔭罩由于軋制和腐蝕殘留的表面應(yīng)力，改善由于 蔭罩在工藝過程中熱脹冷縮造成的熒光粉膜不均勻的現(xiàn)象。
4、 如權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征是從背面對工作蔭罩進行噴砂處理 時所采用的噴砂顆粒的粒徑為蔭罩孔小孔直徑的1% 50%。
5、 如權(quán)利要求l、 2或3所述的制備方法，其特征是所述的噴砂顆粒為二氧 化硅、三氧化二鋁或碳酸鈣。
6、 如權(quán)利要求1、 2或3所述的制備方法，其特征是所述的噴砂壓力為1. l 10個大氣壓。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種蔭罩式等離子體顯示屏熒光粉膜的制備方法，其關(guān)鍵是在三基色噴涂完成后進行高壓噴砂，將被熒光粉堵住的工作蔭罩上的小孔打通，噴砂壓力控制在1.1-10個大氣壓，砂粒粒徑為蔭罩小孔直徑的工作百分之一到二分之一之間。本發(fā)明解決了平板電視熒光粉膜制備的難題，具有方法簡單，效率高，有利于提高制備速度和質(zhì)量改善平板電視的顯示質(zhì)量。
文檔編號H01J9/14GK101281843SQ20081012362
公開日2008年10月8日 申請日期2008年5月27日 優(yōu)先權(quán)日2008年5月27日
發(fā)明者雄 張, 朱立鋒, 李忠明, 樊兆雯, 王保平, 王建華, 進 花, 剛 陳 申請人:南京華顯高科有限公司