專利名稱：等離子顯示器的電極制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是關(guān)于等離子顯示器的電極制造方法的技術(shù)。尤其是關(guān)于在等離子顯示器玻璃基板上形成金屬電極的一種等離子顯示器的電極制造方法。
背景技術(shù)：
通常情況下，等離子顯示器的前面基板和后面基板之間的阻隔壁可形成分別獨立的小單元，各個小單元內(nèi)充滿了氖(Ne)、氦(He)或氖和氦(Ne+He)的混合氣體和此類放電氣體以及含有少量氙的惰性氣體。高電壓放電時，惰性氣體發(fā)出真空紫外線(Vacuum Ultraviolet rays)，使阻隔壁中的熒光體發(fā)光，形成圖像。這樣，等離子顯示器以其屏幕輕薄的特點作為新一代標(biāo)志性產(chǎn)品而備受矚目。
圖1是表示現(xiàn)有技術(shù)的PDP面板結(jié)構(gòu)簡略示意圖。
如圖1所示，等離子顯示器中，由掃描電極102和維持電極103形成的數(shù)個維持電極組在顯示圖像的前玻璃板101上排列而形成前面板100，與上述數(shù)個電極組相交叉的數(shù)個尋址電極113在形成背面的后面玻璃板111上排列而形成后面板110，前、后面板保持一定距離平行分布。
掃描電極102和維持電極103在一個放電單元中相互放電，維持放電單元的發(fā)光，即由透明ITO物質(zhì)形成的透明電極(a)和由金屬材料制成的匯流電極(b)構(gòu)成的掃描電極102和維持電極103形成電極組。這是前面板100部分。
掃描電極102和維持電極103限制放電電流，用一個以上的電介質(zhì)層104覆蓋，使電極對之間絕緣。為了在上、下部電介質(zhì)層104上部形成容易放電的條件，在其上涂有氧化鎂(MgO)鍍膜的保護(hù)層105。
后面基板110上，長條形澆灌(或井字形澆灌)的阻隔壁保持平行排列，形成數(shù)個放電空間，即放電單元。另外，數(shù)個尋址電極113與阻隔壁112平行分布，以實現(xiàn)尋址放電、產(chǎn)生真空紫外線。
在后面基板110的上側(cè)面涂有R、G、B熒光體114，可發(fā)出可視光，在尋址放電時顯示圖像。在尋址電極113和熒光體之間114涂有可保護(hù)尋址電極113的下部電介質(zhì)層115。
這里，在上述阻隔壁112的上側(cè)面排列著黑色層116，它具有吸收從前玻璃板101外部產(chǎn)生的外部光、減少反射的光阻斷的作用和提高前玻璃板101的色彩純度(Purity)及對比度的作用等。
具有上述結(jié)構(gòu)的等離子顯示器，如上所述，利用微小的放電，在放電單元中發(fā)出可視光線；上述阻隔壁(barrier rib)112是為劃分出單元和單元之間的距離而形成的，這樣相鄰的單元就可在空間上分開；上述黑色層116的形成是為了防止放電時從阻隔壁上部發(fā)出不必要的光，降低等離子顯示器的對比度(Contrast)特性。
具有上述結(jié)構(gòu)的等離子顯示器，制造過程大致分為玻璃基板制造過程、前面基板制造過程、后面基板制造過程和組裝過程幾個階段。
下面將以現(xiàn)有技術(shù)的PDP前面基板制造過程為例說明其電極制造方法。
圖2是表示現(xiàn)有技術(shù)的PDP電極制造方法的工藝流程圖。
如圖所示，在S101階段，對于PDP面板來說，在顯示畫面的前面玻璃板10上部通過β印刷方式，用規(guī)定厚度的金屬形成感光性金屬涂料(A)。
在這里，感光性金屬涂膜(A)最好含有添加感光性樹脂的銀(Ag)涂料。上述感光性樹脂使用了對紫外線等光線反應(yīng)敏感的感光物質(zhì)。
然后在S102階段，使上述添加了感光樹脂的銀(Ag)涂料在一定時間內(nèi)干燥。
在S103階段，把形成規(guī)定模型的模型模板(B)置于上述感光性金屬涂料(A)上部的一定位置，從上側(cè)照射光線，使開口部分的感光性金屬涂料(A)在光照下感硬化，此過程稱為曝光過程。
經(jīng)過曝光的玻璃基板10在S104階段進(jìn)行定影過程。使曝光的玻璃基板10定影時，用模型模板B使暴露在光中的部分硬化，沒暴露在光中的部分用噴沙或蝕刻的方法將其清除。
然后，在S105階段，上述定影過程后余下的部分(即在曝光過程中被暴露的部分)感光性金屬涂料A在一定時間內(nèi)使其干燥。
然后，在S106階段中，在約500-600℃的溫度下，將上述干燥后的感光性金屬涂料A焙燒，形成規(guī)定模型的金屬電極11、12。
然后，如圖1所示，就形成了電介質(zhì)層104。在上述電介質(zhì)層的表面上形成了氧化鎂(MgO)保護(hù)層105，最后制成了PDP面板。
但是，如上所述，這種利用現(xiàn)有技術(shù)的等離子顯示器的電極制造方法是利用銀(Ag)涂料及薄膜的照相平版印刷方法(Photo Lithography)來形成電極或是利用通過Al或Cr-Cu-Cr高級鍍膜的蝕刻(Etching)方法來形成電極的。所以存在著以下問題因為使用了價格較高的感光性涂料銀(Ag)，所以使制造成本上升；并且焙燒后模型的兩端翹起，發(fā)生卷邊(Edge Curl)現(xiàn)象。

發(fā)明內(nèi)容
如上所述，本發(fā)明就是為了解決上述問題而提出的。本發(fā)明的目的在于為用戶提供等離子顯示器的電極制造方法，即在離子顯示器的玻璃基板上將DFR(DryFilm Resist)層合后，將其剝離，使其形成電極。這樣，可不必在金屬涂料中添加感光性樹脂，防止發(fā)生卷邊現(xiàn)象。
為了實現(xiàn)上述目的，依據(jù)本發(fā)明的等離子顯示器的電極制造方法中的等離子顯示器由前、后基板構(gòu)成包括透明電極和匯流電極的數(shù)個維持電極組在玻璃基板上形成前面基板，由與上述維持電極組相向交叉形成的數(shù)個尋址電極形成的后基板組成，本發(fā)明的等離子顯示器的電極制造方法具有由以下幾個階段構(gòu)成的特征在上述玻璃基板上部形成金屬涂料層的階段；在上述金屬涂料層上面將干膜光阻劑(DFR)層合的階段；在上述干膜光阻劑(DFR)層合的上述玻璃基板上放置模型模板，進(jìn)行曝光和定影的階段；上述定影階段后，剝離清除留在上述金屬涂料層上部的干膜光阻劑(DFR)的階段。
另外還包括剝離清除上述干膜光阻劑(DFR)的階段后，干燥或焙燒上述玻璃基板上部印刷的金屬涂料、形成電極的階段。
上述金屬涂料中，銅(Cu)或銀(Ag)至少要有一種；上述金屬涂料電極層利用焙燒膜形成規(guī)定的模型；上述干膜光阻劑(DFR)應(yīng)為感光物質(zhì)。
本發(fā)明的效果如上所述，依據(jù)本發(fā)明具有上述構(gòu)成的等離子顯示器的電極制造方法，不在金屬涂料中添加感光性樹脂，而是在等離子顯示器的玻璃基板的上面層合DFR后將其剝離形成電極。這樣，不必在金屬涂料中添加感光性樹脂，既節(jié)省了材料費，又可防止發(fā)生卷邊現(xiàn)象。這是本發(fā)明所具有的一個良好效果。
為進(jìn)一步說明本發(fā)明的上述目的、結(jié)構(gòu)特點和效果，以下將結(jié)合附圖對本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)的描述。


圖1是表示現(xiàn)有技術(shù)的PDP面板結(jié)構(gòu)簡略示意圖。
圖2是表示現(xiàn)有技術(shù)的PDP電極制造方法的工藝流程圖。
圖3是表示依據(jù)本發(fā)明的PDP面板制造方法的工藝流程圖。
圖4是表示依據(jù)本發(fā)明的PDP電極制造方法的工藝流程圖。
附圖中主要部分的符號說明10、20玻璃基板11、12電極13電介質(zhì)層A感光性金屬涂料層B模型模板 C金屬涂料層DDFR(Dry Film Resist)具體實施方式
下面，將參照附圖對本發(fā)明的等離子顯示器的電極制造方法的實施例進(jìn)行更加詳細(xì)的說明。
圖3是表示依據(jù)本發(fā)明的PDP面板制造方法的工藝流程圖。
如圖所示，依據(jù)本發(fā)明的等離子顯示器的制造方法包括前面板制造過程(S201-S204)、后面板制造過程(S205-S209)和將上述前面板和后面板組裝在一起的組裝過程(S210-S211)。
首先看一下上述前面基板的制造過程。
S201、S202，準(zhǔn)備好前面基板的材料—前面玻璃板，在前面玻璃板上部形成數(shù)個維持電極。
S203、S204，然后，在維持電極組上部形成上部電介質(zhì)層，在上部電介質(zhì)層上部形成保護(hù)維持電極組的MgO材質(zhì)的保護(hù)膜。
另外，看一下后面基板的制造過程。
S205、S206，后面基板的制造過程和前面基板的制造過程相同。首先準(zhǔn)備好材料一后面玻璃板，在后面玻璃板上形成數(shù)個尋址電極，使其與前面基板上形成的維持電極相向交叉。
S207、S208，然后，在尋址電極上面形成下部電介質(zhì)層，在上述下部電介質(zhì)層的上部形成劃分出等離子顯示器的放電單元的阻隔壁和阻隔壁上的黑色層。
S209，然后，在上述由阻隔壁劃分出的放電單元內(nèi)形成熒光體層。
分別通過干燥和焙燒等過程制造出前面基板和后面基板。
S210、這樣，將上述制造出來的前面基板和后面基板組裝在一起就形成了等離子顯示器。
在依據(jù)本發(fā)明的等離子顯示器的制造方法上，對前面基板的電極制造方法進(jìn)行更加詳細(xì)的說明如圖4所示。
圖4表示依據(jù)本發(fā)明的PDP前面基板制造方法的工藝流程圖。
S301，如圖所示，首先在上述玻璃基板10的上部形成金屬涂膜(C)。
這里，上述金屬涂膜中至少要含有銅(Cu)或銀(Ag)中任何一種；上述金屬涂膜C利用焙燒膜形成規(guī)定的模型，金屬涂膜C通過β印刷或鍍膜方法形成最為理想。
S302，然后，在上述金屬涂膜C的上部層合(Laminating)規(guī)定厚度的干膜光阻劑(DFRDry Film Resist)D.
上述干膜光阻劑(DFR)D以薄膜形態(tài)纏繞在輥上，印刷在上述玻璃基板10上，其理想材質(zhì)應(yīng)為對紫外線等光線敏感的感光物質(zhì)。
S303、304，然后，在層合了干膜光阻劑(DFR)D的上述玻璃基板10上部放置模型模板B，進(jìn)行曝光和定影。
也就是說，在S303階段，將規(guī)定模型的模型模板B放置在上述層合了干膜光阻劑(DFR)D的上述玻璃基板10上部的一定位置上，照射光線，使模型模板B的開口部分的干膜光阻劑(DFR)D曝光。
經(jīng)過上述曝光過程的前面基板10在S304階段進(jìn)行定影工藝。曝光的玻璃基板10定影時，因模型模板B的作用，受紫外線照射的部分變?nèi)?，不受照射的部分保持干膜光阻?DFR)D涂膜狀態(tài)，這樣就可以只清除暴露在紫外線的部分。
然后，在S305階段進(jìn)行噴沙或蝕刻，清除被模型模板B遮住的部分(即在曝光過程中沒受紫外線照射的部分)之外的鍍膜后，用規(guī)定的溶劑將金屬涂膜C上部的干膜光阻劑(DFR)D剝離、清除。
S306，另外，在剝離、清除上述干膜光阻劑(DFR)D后，將在上述玻璃基板10上部印刷的金屬涂膜C放在約500-600℃的溫度下進(jìn)行焙燒，最后完成電極11、12的制造過程。
本發(fā)明不在金屬涂料C中添加感光性樹脂，而是在等離子顯示器的玻璃基板10的上面層合干膜光阻劑(DFR)D后將其剝離形成電極。這樣，不必在金屬涂料C中添加感光性樹脂，既節(jié)省了材料費，又可防止發(fā)生卷邊現(xiàn)象。
本技術(shù)領(lǐng)域中的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)認(rèn)識到，以上的實施例僅是用來說明本發(fā)明，而并非用作為對本發(fā)明的限定，只要在本發(fā)明的實質(zhì)精神范圍內(nèi)，對以上所述實施例的變化、變型都將落在本發(fā)明權(quán)利要求書的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種等離子顯示器的電極制造方法，所述等離子顯示器包括透明電極和匯流電極的數(shù)個維持電極組在玻璃基板上形成前面基板，由與上述維持電極組相向交叉形成的數(shù)個尋址電極形成的后基板，其特征在于所述的等離子顯示器的電極制造方法具有由以下幾個階段構(gòu)成在上述玻璃基板上部形成金屬涂料層的階段；在上述金屬涂料層上面將干膜光阻劑層合的階段；在上述干膜光阻劑層合的上述玻璃基板上放置模型模板，進(jìn)行曝光和定影的階段；上述定影階段后，剝離清除留在上述金屬涂料層上部的干膜光阻劑的階段。
2.如權(quán)利要求1所述的等離子顯示器的電極制造方法，其特征在于還包括將上述玻璃基板上部印刷的金屬涂膜干燥或焙燒形成電極的階段。
3.如權(quán)利要求1或2所述的等離子顯示器的電極制造方法，其特征在于上述金屬涂料中至少要包括銅或銀中任何一種。
4.如權(quán)利要求1或2所述的等離子顯示器的電極制造方法，其特征在于上述金屬涂膜利用焙燒膜形成規(guī)定的模型。
5.如權(quán)利要求1或2所述的等離子顯示器電極制造方法，其特征在于上述干膜光阻劑為感光性物質(zhì)。
全文摘要
本發(fā)明是關(guān)于等離子顯示器的電極制造方法，所述等離子顯示器包括透明電極和匯流電極的數(shù)個維持電極組在玻璃基板上形成前面基板，由與維持電極組相向交叉形成的數(shù)個尋址電極形成的后基板，所述等離子顯示器的電極制造方法包括在玻璃基板上部形成金屬涂料層的階段；在金屬涂料層上面將干膜光阻劑(DFR)層合的階段；在DFR層合的上述玻璃基板上放置模型模板，進(jìn)行曝光和定影的階段；剝離清除留在上述金屬涂料層上部的DFR的階段；干燥或焙燒上述玻璃基板上部印刷的金屬涂料、形成電極的階段。本發(fā)明是在離子顯示器的玻璃基板上將干膜光阻劑層合后，將其剝離，使其形成電極。這樣，可不必在金屬涂料中添加感光性樹脂，防止發(fā)生卷邊現(xiàn)象。
文檔編號H01J9/02GK1979720SQ20051011094
公開日2007年6月13日 申請日期2005年11月30日 優(yōu)先權(quán)日2005年11月30日
發(fā)明者文炳俊, 沈正燮 申請人:樂金電子(南京)等離子有限公司