專利名稱：一種等離子顯示屏障壁及其制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種等離子顯示屏障壁及其制作方法。
背景技術(shù)：
傳統(tǒng)形成等離子顯示屏障壁的方法是利用噴砂法，介質(zhì)漿料被涂在玻璃基板上，形成介質(zhì)層，然后印刷障壁漿料從而形成障壁層，涂敷均勻并干燥。最后障壁層被DFR(dry film resist)覆蓋，DFR能抵抗噴砂刻蝕。再利用母版、DFR、障壁材料層被選擇性的曝光，曝光后的DFR具有化學(xué)穩(wěn)定性，顯影后形成障壁掩膜，并能耐砂粒噴蝕。然后通過氣流將砂粒噴到障壁層上，有DFR的障壁材料層被保留下來，形成障壁，其余的障壁材料層都被噴掉。噴砂后，障壁掩膜被揭掉(剝膜)，并進(jìn)行燒結(jié)，從而形成障壁。
而目前制作障壁在快速噴砂時，障壁的末端在掩膜底部的一部分會被大量移走，從而導(dǎo)致了障壁掩膜在噴砂時被從障壁層分開，形成錯誤的障壁圖形，如圖3所示。另外傳統(tǒng)的噴砂法燒結(jié)后會在障壁末端形成突出物，這些突出物影響了前基板與后基板的緊密結(jié)合，從而導(dǎo)致了誤放電和異常噪音。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于克服上述現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn)，提供了一種能夠使障壁末端側(cè)面被噴掉的部分減少，從而阻止了被過量噴蝕而形成彎曲的凹面的等離子顯示屏障壁及其制作方法。
為達(dá)到上述目的，本發(fā)明采用的制作方法為首先在基板上用絲網(wǎng)印刷法或涂敷法形成一個所需厚度的障壁材料層；然后通過光刻法在障壁材料層上形成條形或井字形障壁掩膜，每一個障壁掩膜都對應(yīng)一個障壁；其特點(diǎn)是，再在每一條縱向障壁掩膜的末端至少設(shè)置一個與縱向障壁掩膜寬度相等的虛設(shè)障壁和虛設(shè)障壁掩膜，該虛設(shè)障壁掩膜的長度小于2mm且虛設(shè)障壁掩膜與縱向障壁掩膜的間隙小于相鄰的兩縱向障壁掩膜或橫向障壁掩膜的間隙；最后通過噴砂法將砂粒噴射在障壁材料層和虛設(shè)障壁掩膜上，從而形成障壁。
按照本發(fā)明的制備方法制成的等離子顯示屏障壁，包括設(shè)置在基板上的條形或井字形障壁，其特點(diǎn)是，在條形或井字形障壁上設(shè)置有障壁掩膜，在縱向障壁掩膜的末端至少設(shè)置有一個與縱向障壁掩膜寬度相等的虛設(shè)障壁和虛設(shè)障壁掩膜，該虛設(shè)障壁掩膜的長度小于2mm且虛設(shè)障壁掩膜與縱向障壁掩膜的間隙小于相鄰的兩縱向障壁掩膜或橫向障壁掩膜的間隙。
本發(fā)明中，由于虛設(shè)障壁掩膜設(shè)置在縱向障壁掩膜末端，虛設(shè)障壁掩膜周圍的障壁材料層與障壁掩膜周圍的障壁層同時被噴砂法切開，通過噴砂法形成的虛設(shè)障壁實(shí)際阻止了被基板回彈的砂粒到達(dá)障壁末端，使得障壁末端側(cè)面被噴掉的部分減少，阻止了被過量噴蝕而形成彎曲的凹面。因?yàn)檫@樣的凹面上的障壁掩膜在砂粒的噴蝕下容易被噴掉，從而使得障壁圖形被破壞。


圖1是一個井字形障壁掩膜和虛設(shè)障壁掩膜的平面圖；圖2是一個條形障壁掩膜和虛設(shè)障壁掩膜的平面圖。
具體實(shí)施例方式
下面結(jié)合附圖對本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)說明。
參見圖1，本發(fā)明的障壁制作過程如下首先在基板5上按常規(guī)工藝形成一個所需厚度的障壁材料層4，然后通過光刻法在障壁材料層4上形成縱向障壁掩膜2和橫向障壁掩膜3，每一個障壁掩膜對應(yīng)一個障壁圖形，每一個縱向障壁掩膜2的末端都至少設(shè)置有一個與縱向障壁掩膜2寬度相等的虛設(shè)的障壁掩膜1，該虛設(shè)障壁掩膜1的長度小于2mm且虛設(shè)障壁掩膜1與縱向障壁掩膜2的間隙小于相鄰的兩縱向障壁掩膜2或橫向障壁掩膜3的間隙；通過噴砂法將砂粒噴射在障壁材料層4和虛設(shè)障壁掩膜1上，從而形成障壁。本發(fā)明中，由于虛設(shè)障壁掩膜1是在縱向障壁掩膜2的末端，虛設(shè)障壁掩膜1周圍的障壁材料層4與縱向障壁掩膜2周圍的障壁層同時被噴砂法切開，通過噴砂法形成的虛設(shè)障壁實(shí)際阻止了被玻璃基板5回彈阻止了到達(dá)障壁末端的回彈。使得障壁末端側(cè)面被噴掉的部分減少，從而阻止了被過量噴蝕而形成彎曲的凹面。這樣的結(jié)果是障壁掩膜再噴砂時沒有被從障壁上揭掉，從而形成正確的條形障壁圖形。
參見圖2，本發(fā)明的障壁制作過程如下在基板5上形成一個所需厚度的障壁材料層4，在障壁材料層4上形成縱向障壁掩膜2，每一個縱向障壁掩膜2對應(yīng)一個障壁圖形，每一個縱向障壁掩膜2的末端都至少有一個與縱向障壁掩膜2寬度相等的虛設(shè)障壁和虛設(shè)障壁掩膜1，該虛設(shè)障壁掩膜1的長度小于2mm且虛設(shè)障壁掩膜1與縱向障壁掩膜2的間隙小于相鄰的兩縱向障壁掩膜2或橫向障壁掩膜3的間隙；通過噴射到障壁層和障壁掩膜層上的研磨料進(jìn)行噴砂，形成障壁。
權(quán)利要求
1.一種等離子顯示屏障壁的制作方法，首先在基板[5]上用絲網(wǎng)印刷法或涂敷法形成一個所需厚度的障壁材料層[4]；然后通過光刻法在障壁材料層[4]上形成條形或井字形障壁掩膜，每一個障壁掩膜都對應(yīng)一個障壁；其特征在于再在每一條縱向障壁掩膜[2]的末端至少設(shè)置一個與縱向障壁掩膜[2]寬度相等的虛設(shè)障壁和虛設(shè)障壁掩膜[1]，該虛設(shè)障壁掩膜[1]的長度小于2mm且虛設(shè)障壁掩膜[1]與縱向障壁掩膜[2]的間隙小于相鄰的兩縱向障壁掩膜[2]或橫向障壁掩膜[3]的間隙；最后通過噴砂法將砂粒噴射在障壁材料層[4]和虛設(shè)障壁掩膜[1]上，從而形成障壁。
2.一種等離子顯示屏障壁，包括設(shè)置在基板[5]上的條形或井字形障壁，其特征在于在條形或井字形障壁上設(shè)置有障壁掩膜，在縱向障壁掩膜[2]的末端至少設(shè)置有一個與縱向障壁掩膜[2]寬度相等的虛設(shè)障壁和虛設(shè)障壁掩膜[1]，該虛設(shè)障壁掩膜[1]的長度小于2mm且虛設(shè)障壁掩膜[1]與縱向障壁掩膜[2]的間隙小于相鄰的兩縱向障壁掩膜[2]或橫向障壁掩膜[3]的間隙。
全文摘要
一種等離子顯示屏障壁及其制作方法，首先在基板上用絲網(wǎng)印刷法或涂敷法形成一個所需厚度的障壁材料層；然后通過光刻法在障壁材料層上形成條形或井字形障壁掩膜，在每一條縱向障壁掩膜的末端至少設(shè)置一個與縱向障壁掩膜寬度相等的虛設(shè)障壁和虛設(shè)障壁掩膜，該虛設(shè)障壁掩膜與縱向障壁掩膜的間隙小于相鄰的兩縱向障壁掩膜或橫向障壁掩膜的間隙；最后通過噴砂法將砂粒噴射在障壁材料層4和虛設(shè)障壁掩膜上，從而形成障壁。由于虛設(shè)障壁掩膜周圍的障壁材料層與障壁掩膜周圍的障壁層同時被噴砂法切開，通過噴砂法形成的虛設(shè)障壁實(shí)際阻止了被基板回彈的砂粒到達(dá)障壁末端，使得障壁末端側(cè)面被噴掉的部分減少，阻止了被過量噴蝕而形成彎曲的凹面。
文檔編號H01J9/24GK1750214SQ20051009614
公開日2006年3月22日 申請日期2005年10月13日 優(yōu)先權(quán)日2005年10月13日
發(fā)明者魯開誠 申請人:彩虹集團(tuán)電子股份有限公司