一種新型的黑色矩陣結(jié)構(gòu)液晶顯示屏的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本新型涉及液晶顯示領(lǐng)域，具體涉及一種新型的黑色矩陣結(jié)構(gòu)液晶顯示屏。
【背景技術(shù)】
[0002]在現(xiàn)有技術(shù)中，液晶顯示屏包括常黑模式和常白模式兩種模式。對(duì)于常黑模式的液晶顯示屏，在顯示過(guò)程中，由于液晶分子在液晶盒內(nèi)呈傾斜排列，在不同方向看時(shí)，會(huì)出現(xiàn)灰階反轉(zhuǎn)的問(wèn)題，這樣會(huì)導(dǎo)致非選擇像素并非完全呈暗態(tài)狀態(tài)，非選擇像素點(diǎn)也能有部分光透過(guò)，如此會(huì)影響液晶顯示屏的顯示對(duì)比度，特別是在戶(hù)外環(huán)境光線(xiàn)較強(qiáng)時(shí)，對(duì)比度更低。為解決上述存在的出現(xiàn)灰階反轉(zhuǎn)，影響對(duì)比度的問(wèn)題，常采用的方式是降低非顯示像素處的透光度，提高顯示像素與非顯示像素的對(duì)比度及增加液晶顯示屏的可視角度，從而適用于戶(hù)外顯示。
[0003]如附圖1所示，解決上述問(wèn)題的通常方案是在與配向膜接觸的上下兩片玻璃基板I內(nèi)表面上分別刻蝕用于顯示像素圖案的氧化錮錫電極2，同時(shí)在氧化錮錫電極2的間隙出分別填充有由黑色材料組成的黑矩陣3，阻擋非顯示像素處即氧化錮錫電極間隙出的光的透射，從而降低了非顯示像素的透光率，提高了顯示像素與非顯示像素的對(duì)比度，增加了液晶顯示屏的可視角度。
[0004]如附圖1所示，但是在上述技術(shù)方案的制程中，由于制作工藝及設(shè)備的限制，導(dǎo)致黑色材料(黑矩陣)涂布不均勻以及黑色材料的細(xì)微殘留，在烘烤時(shí)高溫而發(fā)生碳化，黑色材料的碳化會(huì)在氧化錮錫電極上形成凸起或毛刺4，上下兩基板玻璃I內(nèi)表面上的氧化錮錫電極2因凸起或毛刺4的彼此接觸，電性導(dǎo)通，從而使上下兩基板玻璃I內(nèi)表面上的兩氧化錮錫電極2短路，造成生產(chǎn)制備過(guò)程中液晶屏大批次不良，產(chǎn)品的可靠性得不到保證；同時(shí)使用液晶顯示屏?xí)r，按壓或是觸碰，也會(huì)使上下兩基板玻璃I內(nèi)表面上的兩氧化錮錫2電極短路，從而造成用戶(hù)端的產(chǎn)品不良。
[0005]因此，如何解決上述兩氧化錮錫電極之間有毛刺及易短路的問(wèn)題，又同時(shí)保證能阻擋非顯示像素處即氧化錮錫電極間隙出的光的透射，降低非顯示像素的透光率，提高顯示像素與非顯示像素的對(duì)比度，增加了液晶顯示屏的可視角度，乃本申請(qǐng)人研究之重點(diǎn)亦行業(yè)之企盼。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0006]本新型所要解決的技術(shù)問(wèn)題是針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中的缺陷提供一種新型的黑色矩陣結(jié)構(gòu)液晶顯示屏，該液晶顯示屏的可靠性好，不良品率低，使用壽命長(zhǎng)。
[0007]為克服上述技術(shù)問(wèn)題中的缺陷，本新型技術(shù)方案如下:一種新型的黑色矩陣結(jié)構(gòu)液晶顯示屏，包括彼此相對(duì)設(shè)置的上玻璃基板和下玻璃基板，所述上玻璃基板及下玻璃基板的內(nèi)表面上均設(shè)置一層黑色掩膜;在位于所述上玻璃基板及下玻璃基板上的兩所述黑色掩膜上設(shè)有ITO導(dǎo)電層，該ITO導(dǎo)電層為用于顯示像素圖案的氧化錮錫電極，且所述ITO導(dǎo)電層包覆所述黑色掩膜;在兩所述ITO導(dǎo)電層之間設(shè)有一液晶層，在該液晶層的上端面及下端面還設(shè)有匹配的配向膜，所述上玻璃基板的上端面及所述下玻璃基板的下端面上還分別設(shè)置有相對(duì)應(yīng)的上偏光片和下偏光片。
[0008]作為對(duì)上述技術(shù)方案的進(jìn)一步闡述:
[0009]在上述技術(shù)方案中，所述黑色掩膜的電阻率為16Ω.cm?108Ω.cm。
[0010]在上述技術(shù)方案中，所述黑色掩膜中含有黑色金屬氧化物顆粒。
[0011 ]在上述技術(shù)方案中，所述黑色金屬氧化物顆粒為氧化鈷、氧化鉻、氧化錳及氧化鎳中至少一種的顆粒。
[0012]在上述技術(shù)方案中，所述液晶層為包含具有介電各向異性的液晶合成物質(zhì)的液晶層。
[0013]本新型的還提供的一種制備上述液晶顯示屏的技術(shù)方案如下:
[0014]而制備上述技術(shù)方案中的液晶顯示屏的方法步驟如下:
[0015]步驟A，上玻璃基板和下玻璃基板制備:
[0016]選用玻璃基板，對(duì)玻璃基板表面做清洗處理；
[0017]步驟B，黑色掩膜制備:
[0018]選用包含氧化鈷、氧化鉻、氧化錳及氧化鎳中至少一種的顆粒的黑色材料涂布于清洗后的玻璃基板上，再依次對(duì)涂布均勻的黑色材料進(jìn)行曝光、顯影和固化；
[0019]步驟C，ITO導(dǎo)電層制備:
[0020]將包含氧化錮錫的電極材料均勻鍍于已制備好黑色掩膜的上玻璃基板及下玻璃基板上，鍍膜完成后對(duì)異物予以清洗；
[0021 ]步驟D，感光膠層制備及清除:
[0022]在ITO導(dǎo)電層上涂布一層感光膠，并依次進(jìn)行曝光、顯影、腐蝕處理，完成后再進(jìn)行去膠及清洗處理，將所述感光膠層去除掉；
[0023]步驟E，配向膜制備:
[0024]在完成步驟D的上玻璃基板及下玻璃基板的內(nèi)側(cè)面印刷配向膜并進(jìn)行打磨，打磨完成后，再進(jìn)行絲印、對(duì)版以及固化，完成配向膜制備；
[0025]步驟F，液晶層制備；液晶層的制備包括界破片和灌液晶分子。
[0026]步驟G，安裝偏光片；
[0027]步驟H，檢測(cè):檢測(cè)黑色掩膜是否殘留過(guò)剩，高溫碳化使兩層ITO導(dǎo)電層電性連通，并檢測(cè)感光膠層、ITO導(dǎo)電層是否涂布及制備均勻和偏光片是否安裝到位。
[0028]進(jìn)一步，步驟C中ITO導(dǎo)電層制備包括如下步驟:
[0029]步驟一:鍍前準(zhǔn)備，包括清潔和處理玻璃基板、制作蒸發(fā)源、清洗真空室和玻璃基板夾具及安裝蒸發(fā)源和安放玻璃基板；
[0030]步驟二:抽真空、離子轟擊，
[0031]將用于烘烤、預(yù)熔及蒸發(fā)的真空室抽氣至真空狀態(tài)，輝光放電，使真空室內(nèi)產(chǎn)生高速的離子，利用離子粒子清潔玻璃基板;離子轟擊的條件為:真空室內(nèi)壓力0.13 Pa?13Pa，輝光放電電壓1.5kV?10kV，轟擊時(shí)間5min?60min;
[0032]步驟三:烘烤、預(yù)熔及蒸發(fā)，將玻璃基板放置于真空室內(nèi)進(jìn)行烘烤、預(yù)熔及蒸發(fā)處理，去除玻璃基板、ITO導(dǎo)電層內(nèi)殘留氣體；
[0033]步驟四:導(dǎo)電層表面處理。
[0034]本新型的有益效果是:
[0035]—是，通過(guò)將黑色掩膜設(shè)置于ITO導(dǎo)電層下端，避免因制成原因而造成的于ITO導(dǎo)電層上形成毛刺或凸起，從而減少生產(chǎn)過(guò)程中不良品，提高生產(chǎn)效率；
[0036]二是，因黑色掩膜位于ITO導(dǎo)電層下端，避免使用過(guò)程中因碰觸或按壓而形成的使用端的不良，保證產(chǎn)品穩(wěn)定性；
[0037]三是，黑色掩膜位于ITO導(dǎo)電層下端，液晶顯示屏的可靠性好，減少不必要的返修，節(jié)省生產(chǎn)成本，且使用壽命長(zhǎng)。
[0038]四是，解決ITO電極之間有毛刺及易短路的問(wèn)題，又同時(shí)保證能阻擋非顯示像素處即ITO電極間隙出的光的透射，降低非顯示像素的透光率，提高顯示像素與非顯示像素的對(duì)比度，增加了液晶顯示屏的可視角度。
【附圖說(shuō)明】
[0039]圖1為現(xiàn)有液晶顯示器的結(jié)構(gòu)層次分別圖；
[0040]圖2是本新型的結(jié)構(gòu)層次分布圖；
[0041 ]圖3是本新型液晶顯示器制備的流程圖；
[0042 ]圖4使本新型的鍍ITO導(dǎo)電層的基本工藝流程。
[0043]圖中，11.上玻璃基板，12.下玻璃基板，21.上黑色掩膜，22.下黑色掩膜，31.上ITO導(dǎo)電層，32.下ITO導(dǎo)電層，41.上配向膜，42.下配向，51.上偏光片，52.下偏光片，6.液晶層。
【具體實(shí)施方式】
[0044]下面結(jié)合附圖2-4進(jìn)一步說(shuō)明本新型。
[0045]如圖2顯示本新型所述的具體實(shí)施例，一種新型的黑色矩陣結(jié)構(gòu)液晶顯示屏，包括彼此相對(duì)設(shè)置的上玻璃基板11和下玻璃基板12，所述上玻璃基板11及下玻璃基板12的內(nèi)表面上均設(shè)置一層黑色掩膜，其分別為上黑色掩膜21和下黑色掩膜22;在位于所述上玻璃基板11及下玻璃基板12上的所述上黑色掩膜21和下黑色掩膜22上分別設(shè)有上ITO導(dǎo)電層31和下ITO導(dǎo)電層32，該兩ITO導(dǎo)電層為用于顯示像素圖案的氧化錮錫電極，且兩所述ITO導(dǎo)電層對(duì)應(yīng)包覆相應(yīng)的所述上黑色