I (e) X M (e) 22+I (f) X M (f) 21+I (g) X M (g) 13+I (h) X M (h) 12+I (i) X M (i)丄 ..表達(dá)式6
[0109] 這是使用濾波器{M (a) 33, M (b) 32, M (c) 31，M (d) 23, M (e) 22, M (f) 21，M (g) 13, M (h) 12, M (i) n}的濾波處理，并且，計算目標(biāo)像素和周圍像素的濃度數(shù)據(jù){I (a)，I (b)，I (c)，I (d)，I ( e)，1(f)，1(g)，1(h)，I (i)}的線性和。
[0110] 此外，在本實(shí)施例中，通過改變激光的發(fā)光脈沖寬度即發(fā)光時間控制曝光量；但 是，不限于此。再例如，可通過改變激光的光量即發(fā)光強(qiáng)度來控制曝光量（這也可應(yīng)用于第 一實(shí)施例）。
[0111] 此外，在本實(shí)施例中，將包含目標(biāo)像素及其周圍像素的一組像素處的合成光量分 布的形狀校正為希望的形狀是處理的目的；但是處理的目的不限于此。再例如，處理的目的 可以是將包含目標(biāo)像素及其周圍像素的一組像素處的合成光量分布的重心位置校正為希 望的位置。因此，當(dāng)成像位置的偏移量根據(jù)縱向位置不同時可能出現(xiàn)的圖像質(zhì)量的不均勻 性。
[0112] 第三實(shí)施例
[0113] 與第二實(shí)施例類似，本實(shí)施例涉及基于事先測量的多個縱向位置處的斑點(diǎn)形狀設(shè) 定各像素的曝光量的技術(shù)。特別地，詳細(xì)描述與第二實(shí)施例不同的點(diǎn)。
[0114] 在本實(shí)施例中，當(dāng)斑點(diǎn)形狀隨設(shè)備內(nèi)的溫度變化改變時，根據(jù)溫度進(jìn)行適當(dāng)?shù)男?正。構(gòu)成光學(xué)掃描裝置101、102、103和104的部件由于溫度變化而膨脹（或收縮）。然后， 直到激光到達(dá)感光鼓的表面的光路長度改變，并且會出現(xiàn)散焦。此時，如圖18所示，斑點(diǎn)形 狀根據(jù)散射量改變。當(dāng)散焦增加時，斑點(diǎn)中心處的光強(qiáng)度減小，同時，周圍部分中的光強(qiáng)度 增加。由此，斑點(diǎn)形狀變寬并且散焦。為了校正由于溫度變化導(dǎo)致的斑點(diǎn)形狀的變化，與溫 度改變時的斑點(diǎn)形狀對應(yīng)的矩陣系數(shù)存儲于存儲器中，通過設(shè)置在設(shè)備內(nèi)的測量單元測量 內(nèi)部溫度，并且，根據(jù)溫度變化設(shè)定與各縱向位置對應(yīng)的矩陣系數(shù)。圖19示出設(shè)備中的包 含熱敏電阻器1903的配置的框圖。熱敏電阻器1903檢測內(nèi)部溫度。控制器1901監(jiān)視圖 像形成時的內(nèi)部溫度。如果溫度變?yōu)轭A(yù)定值，那么在激光的基礎(chǔ)上設(shè)定與溫度對應(yīng)的矩陣 系數(shù)。
[0115] 描述控制器1903的操作。與第二實(shí)施例類似，假定在緊接在供電之后在圖13(b) 所示的第一運(yùn)算單元1304的寄存器中寫入初始矩陣系數(shù)。而且，在連續(xù)作業(yè)期間，內(nèi)部溫 度被重復(fù)監(jiān)視，如果出現(xiàn)一定程度或更大程度的溫度變化，那么寫入寄存器中的矩陣系數(shù) 被更新。在圖20中示出連續(xù)作業(yè)期間的控制器的操作。在步驟1中，當(dāng)指示打印作業(yè)開始 時，控制器1901開始監(jiān)視溫度?？刂破?901在步驟2中監(jiān)視來自熱敏電阻器1903的輸出， 在步驟3中確定自從之前的監(jiān)視起的溫度變化是否超過預(yù)定的閾值。在步驟3中，如果確定 溫度變化不超過預(yù)定閾值，那么控制器1901在經(jīng)過預(yù)定的時間間隔之后將控制移到步驟2 中監(jiān)視內(nèi)部溫度。如果在步驟3中確定溫度變化超過預(yù)定閾值，那么控制器1901在步驟4 中開始設(shè)定矩陣中的濾波系數(shù)。在步驟5中，控制器1901基于主掃描計數(shù)器的計數(shù)值確定 縱向位置。在步驟6中，控制器1901從存儲器讀出基于步驟5中的確定結(jié)果的矩陣系數(shù)。 與各主掃描方向的各位置對應(yīng)的地址被分配給ROM 1303,并且，與地址相關(guān)聯(lián)地存儲與內(nèi) 部溫度對應(yīng)的矩陣中的濾波系數(shù)?？刂破?901在步驟6中讀出在與縱向位置和由熱敏電 阻器1901檢測的溫度對應(yīng)的矩陣中的濾波系數(shù)，并且，在步驟7中在寄存器中寫入讀取的 矩陣中的濾波系數(shù)。在步驟8中，控制器1901確定是否結(jié)束對于所有的縱向位置的設(shè)定。 如果確定設(shè)定結(jié)束，那么控制前進(jìn)到步驟9。在步驟9中，控制器1901確定作業(yè)是否結(jié)束。 如果作業(yè)沒有結(jié)束（作業(yè)繼續(xù)），那么控制移到步驟2中監(jiān)視內(nèi)部溫度。如果在步驟8中確 定作業(yè)結(jié)束，那么控制器1901結(jié)束對于矩陣中的濾波系數(shù)的設(shè)定操作。
[0116] 在本實(shí)施例中，與第二實(shí)施例類似，矩陣中的濾波系數(shù)根據(jù)在工廠中調(diào)整時事先 測量的各縱向位置處的斑點(diǎn)形狀存儲于ROM 1301中。此外，斑點(diǎn)的關(guān)于內(nèi)部溫度變化的變 化被事先測量，與溫度相關(guān)聯(lián)地存儲矩陣中的濾波系數(shù)。與第一和第二實(shí)施例相比，除了初 期的縱向位置處的斑點(diǎn)形狀的變化，根據(jù)第三實(shí)施例的圖像形成設(shè)備還可校正由于內(nèi)部溫 度變化導(dǎo)致的斑點(diǎn)形狀的變化。
[0117] 在本實(shí)施例中，根據(jù)內(nèi)部溫度的檢測結(jié)果設(shè)定矩陣中的濾波系數(shù)。但是，檢測對象 不限于內(nèi)部溫度。例如，可通過測量單元1902測量內(nèi)部濕度或內(nèi)部大氣壓力。再例如，構(gòu) 成圖像形成設(shè)備的部件中的任一個的位置、姿勢、速度、溫度、電阻、帶電量、驅(qū)動電流、驅(qū)動 定時等可以是檢測對象。
[0118] 本發(fā)明不限于上述的實(shí)施例，并且，可在不背離本發(fā)明的精神和范圍的情況下提 出各種變化和修改。因此，所附權(quán)利要求用于保護(hù)本發(fā)明的范圍。
[0119] 本申請要求在2013年4月18日提交的日本專利申請No. 2013-087877的權(quán)益，在 此通過引用將其全部內(nèi)容并入本文。
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種圖像形成設(shè)備，其特征在于，包括： 光源，被配置為發(fā)射用于將感光部件曝光的光束； 偏轉(zhuǎn)裝置，用于偏轉(zhuǎn)光束使得光束掃描感光部件； 光學(xué)裝置，用于將通過偏轉(zhuǎn)裝置偏轉(zhuǎn)的光束引導(dǎo)到感光部件； 數(shù)據(jù)產(chǎn)生裝置，用于產(chǎn)生與包含在輸出圖像中的各像素對應(yīng)的像素數(shù)據(jù)； 輸出裝置，用于輸出用于校正通過使感光部件沿光束掃描感光部件的掃描方向曝光 于光束而在感光部件上形成的以目標(biāo)像素為中心的靜電潛像的電勢分布的不均勻性的校 正數(shù)據(jù)，所述校正數(shù)據(jù)與掃描方向上的目標(biāo)像素的位置對應(yīng)，輸出單元輸出指示由于使位 于目標(biāo)像素周圍的周圍像素曝光于光束導(dǎo)致的目標(biāo)像素的位置處的電勢變化量的校正數(shù) 據(jù)； 校正裝置，用于基于校正數(shù)據(jù)和目標(biāo)像素的像素數(shù)據(jù)校正目標(biāo)像素的像素數(shù)據(jù)；以及 控制裝置，用于基于由校正裝置校正的目標(biāo)像素的像素數(shù)據(jù)控制光源以形成目標(biāo)像 素。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的圖像形成設(shè)備，其中，輸出裝置包含用于存儲與掃描方向上 的位置對應(yīng)的校正數(shù)據(jù)的存儲裝置。3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的圖像形成設(shè)備，還包括： 用于存儲指示掃描方向上的以目標(biāo)像素為中心的靜電潛像的電勢分布的第一方差值、 指示感光部件的旋轉(zhuǎn)方向上的以目標(biāo)像素為中心的靜電潛像的電勢分布的第二方差值、以 及掃描方向和旋轉(zhuǎn)方向上的以目標(biāo)像素為中心的靜電潛像的電勢分布的第三方差值的存 儲裝置；和 校正數(shù)據(jù)產(chǎn)生裝置，用于基于第一方差值、第二方差值以及第三方差值產(chǎn)生校正數(shù)據(jù)。4. 根據(jù)權(quán)利要求1~3中的任一項(xiàng)所述的圖像形成設(shè)備，其中，所述校正數(shù)據(jù)包含用于 目標(biāo)像素的校正參數(shù)和用于包圍目標(biāo)像素的多個周圍像素的校正參數(shù)。5. -種圖像形成設(shè)備，其特征在于，包括： 光源，被配置為發(fā)射用于將感光部件曝光的光束； 偏轉(zhuǎn)裝置，用于偏轉(zhuǎn)光束使得光束掃描感光部件； 光學(xué)裝置，用于將通過偏轉(zhuǎn)裝置偏轉(zhuǎn)的光束引導(dǎo)到感光部件； 數(shù)據(jù)產(chǎn)生裝置，用于產(chǎn)生與包含在輸出圖像中的各像素對應(yīng)的像素數(shù)據(jù)； 輸出裝置，用于輸出用于校正通過使感光部件沿光束掃描感光部件的掃描方向曝光于 光束而在感光部件上形成的以目標(biāo)像素為中心的靜電潛像的電勢分布的不均勻性的校正 數(shù)據(jù)，所述校正數(shù)據(jù)指示由于目標(biāo)像素曝光于光束導(dǎo)致的目標(biāo)像素周圍的周圍像素的像素 位置處的電勢變化量； 校正裝置，用于校正目標(biāo)像素的像素數(shù)據(jù)和基于校正數(shù)據(jù)校正的目標(biāo)像素的像素數(shù) 據(jù)；以及 控制裝置，用于基于由校正裝置校正的像素數(shù)據(jù)控制光源以形成目標(biāo)像素。6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的圖像形成設(shè)備，其中，輸出裝置包含用于存儲與掃描方向上 的位置對應(yīng)的校正數(shù)據(jù)的存儲裝置。7. 根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的圖像形成設(shè)備，其中，校正數(shù)據(jù)是包含與目標(biāo)像素對應(yīng)的 校正參數(shù)和與周圍像素對應(yīng)的校正參數(shù)的二維濾波，校正裝置基于根據(jù)掃描方向上的目標(biāo) 像素的位置從輸出裝置輸出的二維濾波來校正圖像數(shù)據(jù)。8.根據(jù)權(quán)利要求1~7中的任一項(xiàng)所述的圖像形成設(shè)備，還包括： 同步信號產(chǎn)生裝置，用于接收通過偏轉(zhuǎn)裝置偏轉(zhuǎn)的光束并且響應(yīng)于光束的接收產(chǎn)生同 步f目號； 時鐘信號產(chǎn)生裝置，用于產(chǎn)生作為頻率比同步信號的頻率高的信號的時鐘信號；以及 計數(shù)器，被配置為計數(shù)時鐘信號， 其中，計數(shù)器的計數(shù)值是與掃描方向上的位置對應(yīng)的值，以及 其中，輸出裝置基于計數(shù)器的計數(shù)值輸出與計數(shù)值對應(yīng)的校正數(shù)據(jù)。
【專利摘要】因激光沿主掃描方向關(guān)于感光部件的入射角根據(jù)曝光位置而不同。由此，激光在感光部件上形成的斑點(diǎn)形狀沿主掃描方向不同。濾波系數(shù)沿主掃描方向改變，并且，圖像數(shù)據(jù)利用濾波系數(shù)被校正。
【IPC分類】G03G15/04, G03G15/00, B41J2/47, G02B26/10, G03G15/043
【公開號】CN105164588
【申請?zhí)枴緾N201480021638
【發(fā)明人】堀內(nèi)出, 瀧川陽一, 平林純
【申請人】佳能株式會社
【公開日】2015年12月16日
【申請日】2014年3月27日
【公告號】WO2014171286A1