的溫度任意地進(jìn)行了變更。各層的光學(xué)膜厚是根據(jù)光學(xué)式膜厚監(jiān)測法，并通過對監(jiān)視器 玻璃（壬二夕一力'7只）上的反射率進(jìn)行控制來進(jìn)行的。再者，霧度值（混濁度）是遵循 JIS7136而于高溫高濕試驗(yàn)前后測定的。
[0059] [表 1]
[0061] 表1所示的溫度是對抗反射膜的各層進(jìn)行成膜時(shí)的上述真空蒸鍍時(shí)的紅外線吸 收玻璃的溫度，在表1中「低一溫度一高」的中，「低一」表示溫度朝向箭頭方向降低，「一 高」表式溫度朝向箭頭方向升高。同樣地，表1所示的霧度值是遵循JIS7136而測得的值， 是將高溫高濕試驗(yàn)后的光學(xué)裝置的白霧現(xiàn)象數(shù)值化后得到的值。一般而言，霧度值0.3以 下的模糊程度被視為相機(jī)的成像圖像中可容許的范圍，霧度值〇. 2以下的模糊程度被視為 相機(jī)的成像圖像中無影響的范圍。此外，在表1中，根據(jù)抗反射膜的上表面中的粒徑以及霧 度值來看，（1) 一（3)表示適當(dāng)溫度，（4)、（5)表示允許溫度，（6)、（7)表示過量溫度，例如 300°C以上。
[0062] 在任意一個適當(dāng)溫度（1)、（2)、（3)下，抗反射膜的上表面中的粒子平均粒徑分別 為16nm、17nm、21nm，各粒子間的間隙面積皆變小。而且，各自的霧度值為0· 11、0· 09、0· 16， 未見到白霧現(xiàn)象的產(chǎn)生。
[0063] 此外，在允許溫度（4)、（5)下，抗反射膜的上表面中的粒子平均粒徑分別為22nm、 24nm，各粒子間的間隙面積皆大于上述適當(dāng)溫度（1)、（2)、（3)的情況。而且，各自的霧度值 為0. 20、0. 30,白霧現(xiàn)象勉強(qiáng)可被確認(rèn)，但是可以被允許。
[0064] 此外，在過量溫度（6)、（7)下，抗反射膜的上表面中的粒子平均粒徑分別為25nm、 30nm，各粒子間的間隙面積皆變大。而且，各自的霧度值為0. 37、0. 66,可清楚確認(rèn)到白霧現(xiàn) 象。
[0065] 即，粒子的平均粒徑小于25nm時(shí)，各粒子間的間隙面積變小，因此高溫高濕試驗(yàn) 后的霧度值較小。也就是說，幾乎沒有光學(xué)裝置的白霧現(xiàn)象產(chǎn)生。
[0066] 制造出的光學(xué)裝置的抗反射膜的上表面的粒子平均粒徑為17nm與30nm，在圖7中 示出其各自的SEM像。圖7的（a)示出以適當(dāng)溫度在紅外線吸收玻璃上形成有抗反射膜的 情況下的光學(xué)裝置的表面狀態(tài)。圖7的（b)示出以過量溫度在紅外線吸收玻璃上形成有抗 反射膜的情況下的光學(xué)裝置的表面狀態(tài)。
[0067] 將這些SEM像加以比較則能夠明了：在如圖的7(a)那樣以適當(dāng)溫度形成抗反射膜 的情況下，抗反射膜的上表面中的粒子平均粒徑變小為17nm，抗反射膜的上表面中的各粒 子間的間隙面積變小。另一方面，在如圖7的（b)那樣以過量溫度形成抗反射膜的情況下， 抗反射膜的上表面中的粒子平均粒徑變大為30nm，抗反射膜的上表面中的各粒子間的間隙 面積變大。
[0068] 圖8的（a)、（b)是示出比較例與實(shí)施例的高溫高濕試驗(yàn)前后的白霧現(xiàn)象的產(chǎn)生狀 態(tài)的照片。圖8的（a)是在過量溫度下制作且粒子的平均粒徑為30nm的比較例的光學(xué)裝 置，圖8的（b)是在適當(dāng)溫度下制作且粒子的平均粒徑為17nm的實(shí)施例的光學(xué)裝置。圖8 的（a)、（b)中分別是左側(cè)為高溫高濕試驗(yàn)后、右側(cè)為高溫高濕試驗(yàn)前。在光學(xué)裝置中，使光 從背面穿透。
[0069] 針對圖8的（a)所示的比較例進(jìn)行說明，高溫高濕試驗(yàn)前如圖8的（a)的右側(cè)照 片所示，光大致穿透并且沒有在光學(xué)裝置的表面散射，因此呈現(xiàn)較暗。然而，高溫高濕試驗(yàn) 后如圖的8 (a)的左側(cè)照片所示，水分浸透至光學(xué)裝置的內(nèi)部，基板的一部分溶解，其結(jié)果， 了解到因形成空間而造成光散射從而整體呈白霧狀。
[0070] 相對于此，針對圖8的（b)所示的實(shí)施例進(jìn)行說明，高溫高濕試驗(yàn)前如圖8的（b) 右側(cè)照片所示，光大致穿透并且沒有在光學(xué)裝置的表面反射，因此呈現(xiàn)較暗。而且，了解到 即時(shí)在高溫高濕試驗(yàn)后也如圖8的（b)左側(cè)照片所示，水分未浸透至光學(xué)裝置的內(nèi)部，因而 未呈白霧狀，而是透明的。也就是，明顯地，在高溫高濕試驗(yàn)前后光學(xué)裝置中的光穿透性并 未發(fā)生變化。
[0071] 如上所述，實(shí)施例的光學(xué)裝置是抗反射膜的上表面中的粒子平均粒徑小于25nm， 因而即使在高溫高濕的環(huán)境下，也不會產(chǎn)生白霧現(xiàn)象，能夠長期維持作為光學(xué)裝置的性能 的抗氣候性優(yōu)異的光學(xué)裝置。
[0072] 再者，在上述的實(shí)施方式中，雖然例舉出使用有低折射率層、中折射率層及高折射 率層的3層的抗反射膜、使用有高折射率層及低折射率層的2層的抗反射膜、使用有中折射 率層及低折射率層的2層的抗反射膜、以及使用有高折射率層及低折射率層的η層的抗反 射膜（實(shí)施方式中η = 4)，但抗反射膜的設(shè)計(jì)并不限定于這些實(shí)施方式，也可以由能夠獲得 所期望的抗反射特性的各折射率層與層數(shù)的組合來構(gòu)成。
[0073] 本發(fā)明能夠在不脫離其精神或主要特征的情況下以其他各種形式實(shí)施。因此，上 述實(shí)施方式及實(shí)施例在各方面來說只不過為一例示，不可限定解釋。本發(fā)明的范圍以專利 權(quán)利要求來表示，不受說明書正文任何限制。進(jìn)而，屬于專利權(quán)利要求的均等范圍的變形或 變更全部含在本發(fā)明的范圍內(nèi)。
[0074] 符號說明
[0075] 1，la, lb, Ic :光學(xué)裝置
[0076] 2 :紅外線吸收玻璃
[0077] 3 :抗反射膜
[0078] 3a :第1層的中折射率層
[0079] 3b :第2層的高折射率層
[0080] 3c :第3層的低折射率層
[0081] 3d :第1層的高折射率層
[0082] 3e :第2層的低折射率層
[0083] 3f :第1層的中折射率層
[0084] 3g :第2層的低折射率層
[0085] 3h :第1層的高折射率層
[0086] 3i :第2層的低折射率層
[0087] 3j :第3層的高折射率層
[0088] 3k:第4層的低折射率層
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種光學(xué)裝置，在可見光穿透性基板的至少1個面上具備防止可見光反射的抗反射 膜，其特征在于， 所述抗反射膜是由折射率不同的至少2層以上的折射率層層壓而構(gòu)成，并且所述至少 2層以上的折射率層之中，在除折射率低的折射率層之外的至少1層以上的折射率層中，至 少含有Al2O 3或ZrO 2或它們的混合物來作為其材料，并且所述抗反射膜的上表面中的粒子 平均粒徑小于25nm。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)裝置，其特征在于， 所述折射率不同的至少2層以上的折射率層是通過層壓于所述可見光穿透性基板的 表面上而構(gòu)成，并且至少在從可見光穿透性基板起算第1層的折射率層中，至少含有Al2O3 或ZrO2或它們的混合物來作為其材料。3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光學(xué)裝置，其特征在于， 所述可見光穿透性基板的材料是含有銅離子的氟磷酸鹽系玻璃或者是磷酸鹽系玻璃。
【專利摘要】本發(fā)明的課題在于提供一種即使放置于高溫高濕環(huán)境下也能夠有效地防止白霧現(xiàn)象產(chǎn)生的光學(xué)裝置。其解決手段如下：在紅外線吸收玻璃2的表面上具備防止可見光反射的抗反射膜3，抗反射膜是由折射率不同的至少2層以上的折射率層3a～3c層壓而構(gòu)成，并且上述至少2層以上的折射率層之中，在除折射率低的折射率層之外的至少1層以上的折射率層中，至少含有Al2O3或ZrO2或它們的混合物，并且抗反射膜的上表面中的粒子平均粒徑小于25nm。
【IPC分類】G02B1/115, G02B1/02, G02B5/22
【公開號】CN105122090
【申請?zhí)枴緾N201480020905
【發(fā)明人】加茂佑一, 大西學(xué)
【申請人】株式會社大真空
【公開日】2015年12月2日
【申請日】2014年3月12日
【公告號】WO2014174751A1