下亦同。）的折射率層，含有Al203、Zr02、Al 203與ZrO^混合物 中的至少任一種作為材料。
[0030] 第2層的高折射率層3b是折射率為2. 0~2. 4的范圍且光學膜厚約1/2 λ的折 射率層，含有A1203、Zr02、Al2O 3與ZrO 2的混合物中的至少任一種作為材料。
[0031] 第3層的低折射率層3c是折射率為1. 5以下且光學膜厚約1/4 λ的折射率層，由 MgF2、其他材料構成。
[0032] 在這種結構的光學裝置1中，如圖2所例示，在可見光的波長區(qū)域400~700nm內 的反射率為1%以下。但是該波長區(qū)域的范圍會因人而異，因此作為一例示出。即，人的眼 睛在暗處會對400~620nm左右范圍的波長的光線產生反應，在亮處會對420~700nm左 右范圍的波長的光線產生反應。另一方面，普通的攝影機成像元件（CCD)會以高靈敏度響 應400~700nm范圍的波長的光線，進而也會響應小于400nm的波長的光線或者超過700nm 的波長（紅外區(qū)域）的光線。因此，如果如圖2般將可見光波長區(qū)域400~700nm內的反 射率設為1 %以下，并將該光學裝置1配置在成像元件正前方的光學系統(tǒng)內，則紅外光會被 該光學裝置1吸收而不會到達成像元件。另一方面，由于可見光能夠以高穿透率到達成像 元件，因此可以獲得接近人眼的良好的成像圖像。
[0033] 在實施方式中，特征在于抗反射膜3的上表面中的粒子平均粒徑小于25nm。粒子 的平均粒徑若如此成為極小，則抗反射膜3的上表面的粒子間的間隙面積會變小，因此即 使在高溫高濕環(huán)境下長時間放置，水分也難以浸入到抗反射膜3的內部，從而有效防止了 白霧現(xiàn)象的產生。
[0034] 如果上述抗反射膜3的上表面的粒子平均粒徑為24nm，則霧度4文）值成為 0. 3,所以平均粒徑優(yōu)選為24nm以下，如果平均粒徑為21nm，則霧度值小于0. 2,所以平均粒 徑更優(yōu)選為21nm以下。
[0035] 再者，所謂粒徑，是對每一粒子以算術雙軸平均徑（（長邊+短邊）/2)所測得的 值，所謂平均粒徑是將針對50個以上的粒子測定出的粒徑平均化后得到的粒徑。
[0036] 粒徑的測定方法是針對根據(jù)上述抗反射膜3的上表面中的SEM像而獲得的特定區(qū) 域，計測50個以上的粒子的長邊及短邊的長度來進行的。
[0037] 此外，所謂抗反射膜3的上表面是指抗反射膜3中與大氣相接的面。
[0038] 對此，參照圖3對以往的以及實施方式的各自的抗反射膜的上表面的狀態(tài)進行說 明，圖3的（a)示出以往的抗反射膜的上表面的狀態(tài)，圖3的（b)示出實施方式的抗反射膜 的上表面的狀態(tài)。以往的情況，在抗反射膜的上表面中的各粒子4a的直徑雖有各種大小， 但因為粒子4a的平均粒徑為25nm以上，所以如圖3的（a)示意性所示，各粒子4a間的間隙 5a的面積變大，為此，若在高溫高濕下經過長時間放置，則水分容易從形成抗反射膜的上表 面的各粒子4a間的間隙5a浸入到抗反射膜3的內部，從而產生白霧現(xiàn)象。
[0039] 相對于此，在實施方式中，形成抗反射膜3的上表面的各粒子4b的直徑雖有各種 大小，但因為粒子4b的平均粒徑小于25nm，所以如圖3的（b)示意性所示，在抗反射膜3的 上表面中的各粒子4b間的間隙的面積變小，即使在高溫高濕下經過長時間放置，水分也不 會容易地從抗反射膜3的上表面浸入到抗反射膜3的內部。因此，水分也難以浸入到構成 抗反射膜3的各折射率層3a~3c的邊界、或者抗反射膜3與紅外線吸收玻璃2的邊界，從 而可以長期有效地防止白霧現(xiàn)象的產生。
[0040] 圖4是另一實施方式的光學裝置的截面圖。在該實施方式中，抗反射膜3由從紅 外線吸收玻璃2起算第1層的高折射率層3d、與從紅外線吸收玻璃2起算第2層的低折射 率層3e的合計2層構成。
[0041] 第1層的高折射率層3d是折射率為2. 0~2. 4的范圍且光學膜厚約1/2 λ的折 射率層，含有A1203、Zr02、Al2O 3與ZrO 2的混合物中的至少任一種作為材料。
[0042] 第2層的低折射率層3e是折射率為1. 5以下且光學膜厚約1/4 λ的折射率層，由 MgF2、其他材料所構成。
[0043] 在該實施方式的情況下，抗反射膜3的表面的粒子平均粒徑也小于25nm，抗反射 膜的膜表面中的各粒子間的面積變小，即使在高溫高濕環(huán)境下，水分也難以浸入到抗反射 膜3的內部，從而防止了白霧現(xiàn)象的產生。
[0044] 圖5是又一實施方式的光學裝置的截面圖。在該實施方式中，抗反射膜3是由從 紅外線吸收玻璃2起算第1層的中折射率層3f、與從紅外線吸收玻璃2起算第2層的低折 射率層3g的合計2層構成。
[0045] 第1層的中折射率層3f是折射率為1.6~1.7的范圍且光學膜厚為1/4 λ~ 1/2 λ的范圍的折射率層，含有A1203、Zr02、Al2O 3與ZrOj^混合物中的至少任一種。
[0046] 第2層的低折射率層3g是折射率為1. 5以下且光學膜厚為約1/4 λ的折射率層， 由MgF2、其他材料所構成。
[0047] 在該實施方式的情況下，抗反射膜3的表面的粒子平均粒徑也小于25nm，抗反射 膜3的上表面中的各粒子間間隙的面積變小，即使在高溫高濕環(huán)境下，水分也難以浸入到 抗反射膜3的內部，從而防止了白霧現(xiàn)象的產生。
[0048] 圖6是再一實施方式的光學裝置Ic的截面圖。在該實施方式中，作為抗反射膜3 是以從紅外線吸收玻璃2起算奇數(shù)層為高折射率層、偶數(shù)層為低折射率層的方式交替層壓 而由η (η = 1，2, 3,4，…）層構成的抗反射膜的一個例子，由從紅外線吸收玻璃2起算第1 層的高折射率層3h、第2層的低折射率層3i、第3層的高折射率層3j、以及第4層的低折射 率層3k的合計4層構成。
[0049] 第1層的高折射率層3h是折射率為2. 0~2. 4的范圍且光學膜厚為約0. 13 λ的 折射率層，含有A1203、Zr02、Al2O 3與ZrO 2的混合物中的至少任一種作為材料。
[0050] 第2層的低折射率層3i是折射率為1. 5以下且光學膜厚為約0. 08 λ的折射率層， 由MgF2、SiO2、其他材料構成。
[0051] 第3層的高折射率層3j是折射率為2. 0~2. 4的范圍且光學膜厚為約0. 16 λ的 折射率層，由Zr02、TiO2、其他材料作為材料來構成。
[0052] 第4層的低折射率層3k是折射率為1. 5以下且光學膜厚為約0. 25 λ的折射率層， 由MgF2、SiO2、其他材料構成。
[0053] 在該實施方式的情況下，抗反射膜3的表面的粒子的平均粒徑也小于25nm，抗反 射膜3的上表面中的各粒子間間隙的面積變小，即使在高溫高濕環(huán)境下，水分也難以浸入 到抗反射膜3的內部，從而防止了白霧現(xiàn)象的產生。
[0054] (實施例）
[0055] <光學裝置的制造方法>
[0056] 實施例的光學裝置由紅外線吸收玻璃與抗反射膜構成，抗反射膜與圖1同樣地由 3層的層壓膜（折射率層）構成。對于紅外線吸收玻璃，使用了俯視尺寸為縱橫20mmX 30mm 左右、厚度〇. 30mm左右、折射率I. 56且含有銅離子的氟磷酸玻璃。
[0057] 構成抗反射膜的第1層至第3層的俯視尺寸與紅外線吸收玻璃相同，第1層的中 折射率層由折射率1. 70且光學膜厚為1/4 λ的Al2O3與ZrOd^混合物構成。第2層的高折 射率層由折射率2. 10且光學膜厚1/2 λ的ZrO2構成。第3層的低折射率層由折射率1. 38 且光學膜厚1/4 λ的MgF2構成。
[0058] 對各層的形成方法進行說明，即，將洗凈后的紅外線吸收玻璃設置于真空蒸鍍裝 置，在進行真空排氣后開始進行用于形成各層的真空蒸鍍。對真空蒸鍍時的紅外線吸收玻 璃