使平行光調(diào)節(jié)組件對曝光光線覆蓋面積的擴大倍數(shù)不同，具體地，當(dāng)凹透鏡的曲率半徑越大時，對曝光光線的發(fā)散程度越大，最終覆蓋到基板2上的曝光光線的面積也越大，但與此同時，所需凸透鏡的曲率半徑也必須加大，以使射出凹透鏡的發(fā)散的曝光光線能全部射入凸透鏡。
[0035]為了便于調(diào)節(jié)凹透鏡和凸透鏡之間的距離，使凹透鏡和凸透鏡的焦點重合，優(yōu)選地，在托架5上設(shè)置升降調(diào)節(jié)機構(gòu)6。升降調(diào)節(jié)機構(gòu)6可以為一個，該升降調(diào)節(jié)機構(gòu)6單獨與凹透鏡或凸透鏡連接；升降調(diào)節(jié)機構(gòu)6也可以設(shè)置多個，作為本發(fā)明實施例，升降調(diào)節(jié)機構(gòu)6設(shè)置兩個，并分別與凹透鏡和凸透鏡連接。通過調(diào)節(jié)升降調(diào)節(jié)機構(gòu)6，可以拉長或縮短凹透鏡與凸透鏡之間的距離，從而使凹透鏡和凸透鏡的焦點重合。
[0036]在對基板2進行曝光時，為方便放置基板2，上述曝光裝置還包括用于支撐基板2的基臺，基臺包括臺架9，基板2可以直接固定在臺架9上進行曝光。為使基板2在固定時受力均勻，防止基板2在曝光過程中破損，作為優(yōu)選地，上述基臺還包括真空吸附板8，真空吸附板8安裝在臺架9上，基板2通過真空吸附板8吸附固定。
[0037]由于基板2的尺寸越來越大，難免會出現(xiàn)因為平行光調(diào)節(jié)組件對曝光光線覆蓋面積的放大倍數(shù)不夠，不能一次接近曝光完成整塊基板2的光刻，優(yōu)選地，在臺架9上還安裝傳動機構(gòu)7，通過傳動機構(gòu)7可驅(qū)動真空吸附板8在臺架9上移動，進而使吸附固定在真空吸附板8上的基板2移動，便于對尺寸較大的基板2進行多次曝光。
[0038]由于掩膜板I因自身重力及外界氣壓的壓力，在曝光過程中，容易變形，影響基板2的曝光效果，作為優(yōu)選地，在掩膜板I上方設(shè)置有密封罩10，如圖4所示，密封罩10與掩膜板I形成一中空的密封腔體，并將密封罩10與抽真空管路11連通。通過抽真空管路11對由密封罩10和掩膜板I形成的密封腔體抽真空，以消除外界大氣壓對掩膜板I的壓力，降低掩膜板I的變形程度，避免光刻到基板2上的掩膜圖案失真，提高基板2的曝光效果。
[0039]需要補充說明的是，上述基板2可以是玻璃基板，當(dāng)然，為使得基板2更加輕薄、更柔、提高耐沖擊性，上述基板2也可以是塑料基板。具體的，所述曝光裝置用于對透明基板進行曝光，所述基板上形成的圖案為彩色濾光層圖案，即所述曝光裝置可以用于制備彩膜基板，當(dāng)然，所述曝光裝置也可以對其他類型的基板進行曝光處理，如陣列基板、電路板等。
[0040]本發(fā)明實施例提供的曝光裝置，通過在掩膜板I與基板2之間設(shè)置平行光調(diào)節(jié)組件，通過平行光調(diào)節(jié)組件中凹透鏡對曝光光線的發(fā)散作用，以及凸透鏡對曝光光線的匯聚作用，既保證了光刻至基板2上的掩膜圖案形狀不變，同時增大了覆蓋到基板2上的曝光光線的面積，與現(xiàn)有技術(shù)相比，在保持掩膜板I的尺寸不變的情況下，減少了對比該掩膜板I的尺寸大的基板2的曝光時長。另外，由于掩膜板I與基板2之間設(shè)置了平行光調(diào)節(jié)組件，使得掩膜板I與基板2之間的距離變大，當(dāng)基板2上有異物時，也不易劃傷掩膜板I。
[0041]實施例二
[0042]本發(fā)明實施例還提供利用上述曝光裝置對基板進行曝光的曝光方法，如圖5所示，包括:
[0043]SOl:將待曝光的基板放置在掩膜板下方。待曝光的基板可以直接平放至地面上，也可以固定在臺架上，優(yōu)選地，為使基板在固定時受力均勻，防止基板在曝光過程中破損，將基板吸附固定在真空吸附板上，真空吸附板安裝在臺架上，臺架上設(shè)置有傳動機構(gòu)，真空吸附板可通過傳動機構(gòu)在臺架上移動，掩膜板位于基板的上方。
[0044]S02:調(diào)節(jié)掩膜板、平行光調(diào)節(jié)組件或基板的位置，使透過掩膜板和平行光調(diào)節(jié)組件而面積增大的平行的曝光光線覆蓋到待曝光的基板上?？梢酝ㄟ^調(diào)節(jié)固定掩膜板的支架，使得面積增大的平行的曝光光線覆蓋到待曝光的基板上；也可以將平行光調(diào)節(jié)組件的托架通過導(dǎo)軌與臺架活動連接，通過調(diào)節(jié)托架在導(dǎo)軌中的位置，使得面積增大的平行的曝光光線覆蓋到待曝光的基板上；作為本技術(shù)方案的一種實施方式，通過傳動機構(gòu)調(diào)節(jié)基板的位置，使透過掩膜板和平行光調(diào)節(jié)組件而面積增大的平行的曝光光線覆蓋到待曝光的基板上。
[0045]需要說明的是，當(dāng)平行光調(diào)節(jié)組件對曝光光線覆蓋面積的放大倍數(shù)，足夠一次完成對整塊基板的曝光時，直接對整塊基板進行曝光。
[0046]當(dāng)需對基板進行多次接近曝光時，如進行兩次曝光，此時，需將基板分割成第一曝光區(qū)域和第二曝光區(qū)域。步驟S02具體為:
[0047]S021:調(diào)節(jié)基板的位置，使掩膜板、平行光調(diào)節(jié)組件位于基板第一曝光區(qū)域的正上方，進而使透過掩膜板和平行光調(diào)節(jié)組件而面積增大的平行的曝光光線覆蓋到基板的第一曝光區(qū)域，對第一曝光區(qū)域進行曝光；
[0048]S022:調(diào)節(jié)基板的位置，使掩膜板、平行光調(diào)節(jié)組件位于基板第二曝光區(qū)域的正上方，進而使透過掩膜板和平行光調(diào)節(jié)組件而面積增大的平行的曝光光線覆蓋到基板的第二曝光區(qū)域，對第二曝光區(qū)域進行曝光，從而完成對整塊基板的曝光。本發(fā)明實施例提供的曝光方法，采用了上述曝光裝置，能在保持掩膜板的尺寸不變的情況下，減少對比該掩膜板的尺寸大的基板的曝光時長。
[0049]當(dāng)平行光調(diào)節(jié)組件采用凹透鏡、凸透鏡時，利用上述曝光裝置對基板進行曝光的曝光方法還包括以下步驟:
[0050]S03:調(diào)節(jié)凹透鏡與凸透鏡之間距離，使凹透鏡與凸透鏡的焦點相互重合。凹透鏡和凸透鏡之間的距離，可以通過托架上的升降調(diào)節(jié)機構(gòu)進行調(diào)節(jié)。
[0051]需要說明的是，為消除外界大氣壓對掩膜板的壓力，降低掩膜板的變形程度，本發(fā)明實施例的曝光方法還包括:通過抽真空管路將所述密封罩與所述掩膜板形成的密封腔體中抽真空。
[0052]以上所述，僅為本發(fā)明的【具體實施方式】，但本發(fā)明的保護范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護范圍應(yīng)以所述權(quán)利要求的保護范圍為準(zhǔn)。
【主權(quán)項】
1.一種曝光裝置，其特征在于，包括: 具有掩膜圖案的掩膜板，曝光時所述掩膜板設(shè)置在待曝光的基板的用于形成圖案的表面的一側(cè)； 位于所述基板與掩膜板之間的平行光調(diào)節(jié)組件，所述平行光調(diào)節(jié)組件用于增大透過掩膜板覆蓋到基板上的曝光光線的面積。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，所述平行光調(diào)節(jié)組件包括凹透鏡、凸透鏡以及用于安裝凹透鏡和凸透鏡的托架，從所述掩膜板至基板，依次設(shè)置凹透鏡和凸透鏡，且凹透鏡與凸透鏡的主光軸、焦點均相互重合。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的曝光裝置，其特征在于，所述托架上設(shè)置有升降調(diào)節(jié)機構(gòu)，所述升降調(diào)節(jié)機構(gòu)與凹透鏡和凸透鏡中至少一個連接。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，還包括用于支撐所述基板的基臺，所述基臺包括臺架和真空吸附板，真空吸附板安裝在所述臺架上，基板通過真空吸附板吸附固定。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的曝光裝置，其特征在于，所述基臺還包括可驅(qū)動真空吸附板在所述臺架上移動的傳動機構(gòu)。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，所述掩膜板上方設(shè)置有密封罩，所述密封罩與掩膜板形成一中空的密封腔體，所述密封罩與抽真空管路連通。7.根據(jù)權(quán)利要求1-6任一項所述的曝光裝置，其特征在于，所述曝光裝置用于對透明基板進行曝光，所述基板上形成的圖案為彩色濾光層圖案。8.—種曝光方法，采用如權(quán)利要求1-7中任意一項所述的曝光裝置曝光，其特征在于，所述曝光方法包括: 將待曝光的基板放置在掩膜板及平行光調(diào)節(jié)組件的透過曝光光線的一側(cè)； 調(diào)節(jié)掩膜板、平行光調(diào)節(jié)組件或所述基板的位置，使透過掩膜板和平行光調(diào)節(jié)組件而面積增大的曝光光線能夠覆蓋到待曝光的基板用于形成圖案的表面的預(yù)設(shè)區(qū)域上。9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的曝光方法，其特征在于，所述平行光調(diào)節(jié)組件包括凹透鏡、凸透鏡以及用于安裝凹透鏡和凸透鏡的托架； 所述曝光方法還包括以下步驟:調(diào)節(jié)凹透鏡與凸透鏡之間的距離，使凹透鏡與凸透鏡的焦點相互重合。10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的曝光方法，其特征在于，所述掩膜板上方設(shè)置有密封罩，所述密封罩與掩膜板形成一中空的密封腔體，所述密封罩與抽真空管路連通； 所述曝光方法還包括以下步驟:通過抽真空管路將所述密封罩與所述掩膜板形成的密封腔體中抽真空。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種曝光裝置及曝光方法，涉及基板制造技術(shù)領(lǐng)域，為解決基板曝光用時長、曝光效率低的問題。所述曝光裝置包括具有掩膜圖案的掩膜板，曝光時掩膜板設(shè)置在待曝光的基板的用于形成圖案的表面的一側(cè)；位于基板與掩膜板之間的平行光調(diào)節(jié)組件，該平行光調(diào)節(jié)組件用于增大透過掩膜板覆蓋到基板上的曝光光線的面積。所述曝光方法包括：將待曝光的基板放置在掩膜板及平行光調(diào)節(jié)組件的透過曝光光線的一側(cè)；調(diào)節(jié)掩膜板、平行光調(diào)節(jié)組件或基板的位置，使透過掩膜板和平行光調(diào)節(jié)組件而面積增大的曝光光線覆蓋到待曝光的基板上。本發(fā)明提供的曝光裝置應(yīng)用于對基板的曝光。
【IPC分類】G03F7/20
【公開號】CN105116692
【申請?zhí)枴緾N201510617551
【發(fā)明人】肖宇, 汪棟, 李曉光
【申請人】京東方科技集團股份有限公司, 北京京東方顯示技術(shù)有限公司
【公開日】2015年12月2日
【申請日】2015年9月24日