彩膜修復(fù)機(jī)及彩膜修復(fù)方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及液晶顯示領(lǐng)域，尤其涉及一種彩膜修復(fù)機(jī)及彩膜修復(fù)方法。
【背景技術(shù)】
[0002]彩膜基板是液晶顯示裝置中重要的一部分，其用于實(shí)現(xiàn)液晶顯示裝置的彩色顯示。在彩膜基板的制程中，經(jīng)常會(huì)出現(xiàn)諸如突起、油污、漏出等各種缺陷，影響彩膜基板的平整度或光學(xué)品質(zhì)，因此，通常需要采用彩膜修復(fù)機(jī)對(duì)所述缺陷進(jìn)行修復(fù)，在這過(guò)程中，通常需要通過(guò)感測(cè)器對(duì)各個(gè)缺陷的高度進(jìn)行測(cè)量例如，在突起缺陷中，需要對(duì)所述突起進(jìn)行高度測(cè)量，如果高度超出制程要求，則需要對(duì)其進(jìn)行研磨，然后再次用感測(cè)器測(cè)量高度(通常簡(jiǎn)稱為“測(cè)高”)，若不符合要求，則再次研磨，如此循環(huán)，直至缺陷的高度在制程要求范圍內(nèi)。在對(duì)高度進(jìn)行測(cè)量時(shí)，所述感測(cè)器與彩膜基板直接接觸，而如果缺陷為油污時(shí)，感測(cè)器在反復(fù)地測(cè)量過(guò)程中，不可避免會(huì)沾到油污，從而在下一次測(cè)高時(shí)污染別的彩膜基板或者彩膜基板的其他部位，造成二次污染，并且難以及時(shí)發(fā)現(xiàn)，使污染不斷地?cái)U(kuò)大；同時(shí)，由于感測(cè)器上沾染了油污，會(huì)影響下一次測(cè)高的準(zhǔn)確性。可見，感測(cè)器一旦沾上了油污，就容易造成大批量不良品，會(huì)造成極大損失。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題在于，提供一種彩膜修復(fù)機(jī)，其可以清除感測(cè)模塊的污漬，從而避免感測(cè)模塊與彩膜基板再次接觸時(shí)引起二次污染，同時(shí)保證測(cè)高的準(zhǔn)確性。
[0004]本發(fā)明還提供一種彩膜修復(fù)方法。
[0005]為了解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明提供如下技術(shù)方案:
[0006]—方面，本發(fā)明提供一種彩膜修復(fù)機(jī)，包括驅(qū)動(dòng)裝置、第一感測(cè)器、第二感測(cè)器、研磨裝置和清潔裝置，所述驅(qū)動(dòng)裝置用于控制所述第一感測(cè)器、所述第二感測(cè)器及所述研磨裝置的位移，所述第一感測(cè)器和所述第二感測(cè)器靠近所述研磨裝置而設(shè)置，所述研磨裝置能夠相對(duì)于所述第一感測(cè)器和所述第二感測(cè)器上下運(yùn)動(dòng)，所述第一感測(cè)器、所述第二感測(cè)器與所述研磨裝置相互配合對(duì)所述彩膜基板進(jìn)行修復(fù)，所述清潔裝置用于清潔所述第一感測(cè)器和所述第二感測(cè)器。
[0007]其中，所述清潔裝置包括清洗單元和干燥單元，所述清洗單元用于清洗所述第一感測(cè)器和所述第二感測(cè)器，所述干燥單元用于干燥清洗后的所述第一感測(cè)器和所述第二感測(cè)器。
[0008]其中，所述清洗單元為超聲波清洗槽。
[0009]其中，所述干燥單元包括凈化氣罐和噴嘴，所述凈化氣罐裝有凈化氣體，所述凈化氣罐與所述噴嘴相連，使所述凈化氣體能夠經(jīng)由所述噴嘴噴出。
[0010]其中，所述凈化氣體為凈化壓縮空氣。
[0011 ] 其中，所述彩膜修復(fù)機(jī)還包括校正裝置，用于校正所述第一感測(cè)器和所述第二感測(cè)器，使所述第一感測(cè)器和所述第二感測(cè)器處于同一水平面。
[0012]另一方面，本發(fā)明還提供一種彩膜修復(fù)方法，其特征在于，包括如下步驟:
[0013]驅(qū)動(dòng)裝置控制第一感測(cè)器、第二感測(cè)器和研磨裝置移到彩膜基板的缺陷的上方；
[0014]所述驅(qū)動(dòng)裝置控制所述第一感測(cè)器下降至所述缺陷的表面，所述第一感測(cè)器測(cè)量所述缺陷的高度；
[0015]若所述高度值不符合制程要求，則所述研磨裝置下降至所述缺陷的表面，并對(duì)所述缺陷進(jìn)行研磨；
[0016]所述驅(qū)動(dòng)裝置控制所述第二感測(cè)器下降至研磨后所述缺陷的表面，所述第二感測(cè)器測(cè)量研磨后所述缺陷的高度；
[0017]若研磨后所述缺陷的高度符合制程的要求，則清潔裝置對(duì)所述第一感測(cè)器和所述第二感測(cè)器進(jìn)行清潔。
[0018]其中，所述清潔裝置包括清洗單元和干燥單元，所述清洗單元用于清洗所述第一感測(cè)器和所述第二感測(cè)器，所述干燥單元用于干燥清洗后的所述第一感測(cè)器和所述第二感測(cè)器。
[0019]其中，在所述步驟“所述驅(qū)動(dòng)裝置控制所述第一感測(cè)器下降至所述缺陷的表面，所述第一感測(cè)器測(cè)量所述缺陷的高度”和所述步驟“若所述高度值不符合制程要求，則所述研磨裝置下降，并對(duì)所述缺陷進(jìn)行研磨”之間，所述彩膜修復(fù)方法還包括:
[0020]所述第一感測(cè)器將所述缺陷的高度值反饋到主機(jī)，所述主機(jī)判斷所述缺陷的高度值是否符合制程要求；
[0021]若所述缺陷的高度值符合制程要求，則所述驅(qū)動(dòng)模塊控制所述第一感測(cè)器、所述第二感測(cè)器和所述研磨裝置移動(dòng)至所述彩膜基板的下一個(gè)缺陷。
[0022]其中，所述步驟“清潔裝置對(duì)所述第一感測(cè)器和所述第二感測(cè)器進(jìn)行清潔”具體包括如下步驟:
[0023]所述驅(qū)動(dòng)裝置控制所述第一感測(cè)器和所述第二感測(cè)器移到超聲波清洗槽進(jìn)行清洗；
[0024]清洗完畢后，所述驅(qū)動(dòng)裝置控制所述第一感測(cè)器和所述第二感測(cè)器上升至連接有凈化氣罐的噴嘴處，所述噴嘴噴出凈化氣體對(duì)清洗后的所述第一感測(cè)器和所述第二感測(cè)器進(jìn)行干燥。
[0025]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的技術(shù)方案具有以下有益效果:本發(fā)明設(shè)置了清潔裝置，對(duì)所述感測(cè)模塊進(jìn)行清洗，避免有油污的感測(cè)模塊再次與彩膜基板接觸所引起的二次污染，同時(shí)避免油污影響感測(cè)器測(cè)量高度的準(zhǔn)確性。
【附圖說(shuō)明】
[0026]為了更清楚地說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0027]圖1是本發(fā)明的實(shí)施例中彩膜修復(fù)機(jī)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0028]圖2是本發(fā)明的實(shí)施例中彩膜修復(fù)方法的流程圖；
[0029]圖3至圖7分別是本發(fā)明實(shí)施例中的彩膜修復(fù)方法中步驟SlOl至步驟S105所對(duì)應(yīng)的運(yùn)行狀態(tài)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0030]下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚地描述。
[0031]請(qǐng)參閱圖1和圖3，圖1是本發(fā)明實(shí)施例中彩膜修復(fù)機(jī)的結(jié)構(gòu)示意圖，圖2是本發(fā)明實(shí)施例中彩膜修復(fù)機(jī)在工作過(guò)程中的一個(gè)運(yùn)行狀態(tài)示意圖。所述彩膜修復(fù)機(jī)包括驅(qū)動(dòng)裝置10、第一感測(cè)器21、第二感測(cè)器22和研磨裝置30。所述驅(qū)動(dòng)裝置10與所述第一感測(cè)器21、第二感測(cè)器22及所述研磨裝置30連接，用于控制第一感測(cè)器21、第二感測(cè)器22和研磨裝置30的位移，所述第一感測(cè)器21、第二感測(cè)器22與所述研磨裝置30配合對(duì)彩膜基板60進(jìn)行修復(fù)，所述彩膜修復(fù)機(jī)還包括清潔裝置40，所述清潔裝置40用于清潔第一感測(cè)器21及第二感測(cè)器22。
[0032]具體地，請(qǐng)參閱圖2到圖6，圖2到圖6是本發(fā)明實(shí)施例中的彩膜修復(fù)機(jī)在工作過(guò)程中的運(yùn)行狀態(tài)示意圖。當(dāng)主機(jī)或光學(xué)檢測(cè)器件(圖中未示出)檢測(cè)到彩膜基板60有缺陷70時(shí)，驅(qū)動(dòng)裝置10控制第一感測(cè)器21、第二感測(cè)器22和研磨裝置30移動(dòng)到所述缺陷70的上方，驅(qū)動(dòng)裝置10控制第一感測(cè)器21下降，與所述缺陷70的表面接觸，并感測(cè)其高度，將所感測(cè)到的高度數(shù)值反饋給主機(jī)后，主機(jī)命令驅(qū)動(dòng)裝置10將研磨裝置30下降，對(duì)所述缺陷70進(jìn)行研磨，研磨結(jié)束后，第二感測(cè)器22再次對(duì)所述突起缺陷進(jìn)行測(cè)量，若所測(cè)得的高度仍然超出制程要求，下降研磨裝置30，以繼續(xù)進(jìn)行研磨，若所測(cè)得的高度已達(dá)到制程要求，則所述驅(qū)動(dòng)裝置10將研磨裝置30移走，并將第一感測(cè)器21、第二感測(cè)器22移動(dòng)到清潔裝置40，進(jìn)行清洗。具體地，所述清潔裝置40包括清洗單元41和干燥單元42，干燥單元42設(shè)置于清洗單元41的側(cè)壁，并位于清洗單元41的側(cè)上方，所述第一感測(cè)器21及第二感測(cè)器22在清洗單元41中清洗后，上升至所述干燥單元42處，干燥單元42對(duì)其進(jìn)行干燥，干燥單元42可以轉(zhuǎn)動(dòng)，從而可以從不同方向?qū)Φ谝桓袦y(cè)器21及第二感測(cè)器22進(jìn)行干燥。如此，第一感測(cè)器21及第二感測(cè)器22不會(huì)因?yàn)樵诟袦y(cè)高度的過(guò)程中沾上油污而影響其在下一次感測(cè)高度時(shí)的精度，同時(shí)避免了對(duì)彩膜基板的其他部位或者對(duì)另外的彩膜基板造成二次污染。
[0033]在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式中，第一感測(cè)器21及第二感測(cè)器22可以是電感式傳感器，電容式傳感器，光電式傳感器，超聲波式傳感器或霍爾式位移傳感器。
[0034]在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式中，所述清洗單元41為超聲波清洗槽，所述干燥單元42包括噴嘴和凈化氣罐，所述凈化氣罐內(nèi)裝有凈化氣體，所述凈化氣罐與所述噴嘴連接，為噴嘴提供凈化氣體，凈化氣體從噴嘴中噴出，用以干燥第一感測(cè)器21及第二感測(cè)器22，凈化氣體可以是凈化壓縮空氣。所述噴嘴可以轉(zhuǎn)動(dòng)，從而可以改變凈化氣體的噴出方向。
[0035]在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式中，所述驅(qū)動(dòng)裝置10可以包括驅(qū)動(dòng)單元和機(jī)械手，所述機(jī)械手連接于所述驅(qū)動(dòng)單元，所述驅(qū)動(dòng)單元為所述機(jī)械手提供傳動(dòng)動(dòng)力，所述機(jī)械手與所述第一感測(cè)器21、第二感測(cè)器22及研磨裝置30相接，并可以帶動(dòng)所一感測(cè)器21、第二感測(cè)器22及研磨裝置30移動(dòng)，以及調(diào)整所述第一感測(cè)器21、第二感測(cè)器22及研磨裝置30的高度。
[0036]本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施方式中提供一種彩膜修復(fù)機(jī)，所述彩膜修復(fù)機(jī)還包括校正裝置50，用于校正所述第一感測(cè)器21及所述第二感測(cè)器22，使所述第一感測(cè)器21和所述第二感測(cè)器22處于同一水平面。當(dāng)主機(jī)或光學(xué)檢測(cè)器件(圖未示出)檢測(cè)到彩膜基板60有缺陷70時(shí)，驅(qū)動(dòng)裝置10帶動(dòng)第