對液晶盒不施加電壓，那么液晶分子的初始方向沿著y軸方向排列。對于反射區(qū)域，當環(huán)境光通過上偏光板后，變成X方向的線偏振光，而X方向的線偏振光是可以通過反射區(qū)域的，最終到達下偏光板的時候被吸收，沒有反射光，從而為暗態(tài)。而對于透射區(qū)域，與通常技術(shù)相同。即當環(huán)境光通過上偏光板后，變成X方向的線偏振光，而X方向的線偏振光是可以通過透射區(qū)域的(透射區(qū)域可以透過自然光)，最終到達下偏光板的時候被吸收，沒有反射光，從而為暗態(tài)。
[0107]而對于下方來自背光源的光，當光經(jīng)過下偏光板的時候變成I方向的線偏振光，對于反射區(qū)域，y方向的線偏振光是無法通過線柵偏光膜的(線柵偏光膜的多條金屬線延伸方向與下偏光板的偏光軸方向相互平行)。而對于透射區(qū)域，y方向的線偏振光經(jīng)過液晶分子后還是y方向，是無法通過偏光軸為X方向的上偏光板的，從而背光源的光也無法通過，呈現(xiàn)暗態(tài)。
[0108]亮態(tài)的實現(xiàn)方法，如圖9所示。
[0109]對液晶盒施加電壓，液晶分子會沿著x-y面轉(zhuǎn)動，假設(shè)最亮態(tài)液晶分子相位延遲為人/2。
[0110]對于反射區(qū)域，當自然光自上而下經(jīng)過上偏光板后會變成X方向的線偏振光，而X方向的線偏振光經(jīng)過液晶分子變成y方向的線偏振光。y方向的線偏振光無法通過反射區(qū)域的線柵偏光膜而被反射回去，再次經(jīng)過液晶分子又變成X方向的線偏振光，可透過上偏光板，呈現(xiàn)亮態(tài)。而對于透射區(qū)域，y方向的線偏振光是可以通過透射區(qū)域，并可通過下偏光板，到達背光源處。
[0111]而對于透射區(qū)域，與通常技術(shù)相同。對于下方來自背光源的光，背光源的光經(jīng)過下偏光板后，變成y方向的線偏振光。即y方向的線偏振光是可以通過透射區(qū)域的，并經(jīng)過液晶分子變成X方向的線偏振光，可通過上偏光板，從而，可以通過液晶盒而呈現(xiàn)亮態(tài)。背光源的光到達反射區(qū)域時，y方向的線偏振光無法通過反射區(qū)域的線柵偏光膜，而被反射回去。
[0112]透射區(qū)域利用背光出射的方式實現(xiàn)顯示，而反射區(qū)域利用反射外界環(huán)境光實現(xiàn)顯示。即實現(xiàn)亮態(tài)顯示。需要說明的是，雖然圖8所示為ADS模式且為線柵偏光膜復(fù)用為像素電極的情況，但上述亮態(tài)和暗態(tài)的實現(xiàn)方法不限于該結(jié)構(gòu)，本發(fā)明實施例提供的其他模式或其他情況亦可參照上述亮態(tài)和暗態(tài)的實現(xiàn)方法。
[0113]本發(fā)明的實施例通過各子像素包括多個透射區(qū)域和多個反射區(qū)域，從而使得包含該種子像素的陣列基板的半透半反顯示面板及顯示裝置的亮度更均勻，整體均勻性好。
[0114]例如，各反射區(qū)域內(nèi)可通過設(shè)置線柵偏光膜的方式實現(xiàn)半透半反顯示模式，可以獲得單盒厚、無需額外的補償膜、亮度更均勻，整體均勻性好的半透半反顯示面板及顯示裝置。
[0115]例如，透射區(qū)域和反射區(qū)域可交替排布，透射區(qū)域105和反射區(qū)域104可在第一方向上交替排布。除此之外，透射區(qū)域105和反射區(qū)域104在第二方向上亦可交替排布，第二方向垂直于第一方向。從而更有利于包含該種類型透射區(qū)域和反射區(qū)域的陣列基板的顯示面板的亮度分布均勻性的提高。
[0116]并且，可將線柵偏光膜復(fù)用為像素電極?；蛘咭嗫蓪⒕€柵偏光膜與柵線或數(shù)據(jù)線同層設(shè)置，可以在通常的陣列基板制作工藝上不增加新的構(gòu)圖工藝而實現(xiàn)線柵偏光膜的制作，可以節(jié)省掩膜板使用數(shù)量以及制作工藝，節(jié)省生產(chǎn)成本，提高生產(chǎn)效率。
[0117]本發(fā)明實施例提供的陣列基板、液晶顯示面板及顯示裝置可以實現(xiàn)亮度更均勻，整體均勻性好、寬視角、單盒厚、工藝簡單、無需額外的補償膜的半透半反顯示模式?？山鉀Q通常的半透半反模式視角不好的問題。
[0118]本發(fā)明的實施例提供的顯示面板及顯示裝置與通常的ECB單盒厚模式以及雙盒厚半透半反模式相比，結(jié)構(gòu)更簡單，不需要額外的補償膜，而且可以實現(xiàn)寬視角顯示。
[0119]有以下幾點需要說明:
[0120](I)除非另作定義，此處使用的技術(shù)術(shù)語或者科學(xué)術(shù)語應(yīng)當為本發(fā)明所屬領(lǐng)域內(nèi)具有一般技能的人士所理解的通常意義。本公開中使用的“第一”、“第二”以及類似的詞語并不表示任何順序、數(shù)量或者重要性，而只是用來區(qū)分不同的組成部分。
[0121](2)本發(fā)明實施附圖中，各層薄膜厚度和區(qū)域形狀不反映陣列基板的真實比例，目的只是示意說明本發(fā)明實施例的內(nèi)容。可以理解，當諸如層、膜、區(qū)域或基板之類的元件被稱作位于另一元件“上”或“下”時，該元件可以“直接”位于另一元件“上”或“下”，或者可以存在中間元件。
[0122](3)本發(fā)明實施例及附圖中，只涉及到與本發(fā)明實施例涉及到的結(jié)構(gòu)，其他結(jié)構(gòu)，可參考通常設(shè)計。
[0123](4)在不沖突的情況下，本發(fā)明的實施例及實施例中的特征可以相互組合。
[0124]以上所述，僅為本發(fā)明的【具體實施方式】，但本發(fā)明的保護范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護范圍應(yīng)以所述權(quán)利要求的保護范圍為準。
【主權(quán)項】
1.一種陣列基板，包括襯底基板以及設(shè)置在所述襯底基板上的多個子像素，其中，各所述子像素所在區(qū)域均包括多個透射區(qū)域和多個反射區(qū)域。2.如權(quán)利要求1所述的陣列基板，其中，所述透射區(qū)域和所述反射區(qū)域在第一方向上交替排布。3.如權(quán)利要求2所述的陣列基板，其中，所述透射區(qū)域和所述反射區(qū)域在第二方向上交替排布，所述第二方向垂直于所述第一方向。4.如權(quán)利要求1所述的陣列基板，其中，各所述子像素所在區(qū)域內(nèi)的所述多個透射區(qū)域和/或所述多個反射區(qū)域均勻分布在所述子像素中。5.如權(quán)利要求1-4任一項所述的陣列基板，其中，各所述子像素內(nèi)均設(shè)置有線柵偏光膜，各所述子像素內(nèi)，所述線柵偏光膜均包括設(shè)置在所述多個反射區(qū)域內(nèi)的多組多條平行設(shè)置的金屬線，每個所述反射區(qū)域設(shè)置一組所述多條平行設(shè)置的金屬線，所述線柵偏光膜中的多條平行設(shè)置的金屬線配置來透過偏振方向垂直于所述金屬線延伸方向的線偏振光以及反射偏振方向平行于所述金屬線延伸方向的線偏振光。6.如權(quán)利要求5所述的陣列基板，其中，所述金屬線材質(zhì)包括鋁、鉻、銅、銀、鎳、鐵、鈷中的一種或幾種的組合。7.如權(quán)利要求5所述的陣列基板，還包括多條數(shù)據(jù)線，其中，所述線柵偏光膜與所述多條數(shù)據(jù)線同層設(shè)置且相互絕緣。8.如權(quán)利要求5所述的陣列基板，還包括多條柵線，其中，所述線柵偏光膜與所述多條柵線同層設(shè)置且相互絕緣。9.如權(quán)利要求8所述的陣列基板，還包括與所述柵線同層設(shè)置且延伸方向相同的公共電極線，其中，在各所述子像素內(nèi)所述線柵偏光膜與所述公共電極線電性相連。10.如權(quán)利要求8所述的陣列基板，其中，各子像素內(nèi)的線柵偏光膜與所述子像素內(nèi)的像素電極電性相連。11.如權(quán)利要求5所述的陣列基板，還包括薄膜晶體管，其中，所述線柵偏光膜復(fù)用作為所述子像素內(nèi)的像素電極，所述像素電極與所述薄膜晶體管的漏極電性相連。12.如權(quán)利要求11所述的陣列基板，其中，所述子像素內(nèi)的像素電極為狹縫狀電極或梳狀電極。13.如權(quán)利要求12所述的陣列基板，還包括公共電極，其中，所述公共電極位于所述像素電極和所述襯底基板之間。14.如權(quán)利要求5所述的陣列基板，其中，各所述子像素內(nèi)，所述線柵偏光膜復(fù)用作為所述子像素內(nèi)的公共電極。15.如權(quán)利要求14所述的陣列基板，其中，所述子像素內(nèi)的公共電極為狹縫狀電極。16.如權(quán)利要求15所述的陣列基板，還包括像素電極和薄膜晶體管，其中，所述像素電極位于所述公共電極和所述襯底基板之間，所述像素電極與所述薄膜晶體管的漏極電性相連。17.如權(quán)利要求5所述的陣列基板，其中，所述線柵偏光膜復(fù)用作為同層設(shè)置的插指結(jié)構(gòu)的像素電極和公共電極。18.如權(quán)利要求6-17任一項所述的陣列基板，其中，在各所述子像素內(nèi)，在所述線柵偏光膜上設(shè)置有透明金屬氧化物導(dǎo)電層。19.如權(quán)利要求18所述的陣列基板，其中，在各所述子像素內(nèi)，所述透明金屬氧化物導(dǎo)電層與所述線柵偏光膜的圖案一致。20.一種液晶顯示面板，包括:相對而置的對置基板和陣列基板，以及填充在所述陣列基板和對置基板之間的液晶層；其中， 所述陣列基板為如權(quán)利要求1-19任一項所述的陣列基板。21.如權(quán)利要求20所述的液晶顯示面板，其中，所述陣列基板為如權(quán)利要求1-4任一項所述的陣列基板的情況下，各所述子像素內(nèi)均設(shè)置線柵偏光膜，各所述子像素內(nèi)，所述線柵偏光膜均包括設(shè)置在所述多個所述反射區(qū)域內(nèi)的多組多條平行設(shè)置的金屬線，每個所述反射區(qū)域設(shè)置一組所述多條平行設(shè)置的金屬線，所述線柵偏光膜中的多條平行設(shè)置的金屬線配置來透過偏振方向垂直于所述金屬線延伸方向的線偏振光以及反射偏振方向平行于所述金屬線延伸方向的線偏振光，在所述陣列基板遠離所述對置基板的一側(cè)設(shè)置有下偏光板，所述多條平行設(shè)置的金屬線的延伸方向與所述下偏光板的偏光軸的方向相互平行； 所述陣列基板為如權(quán)利要求5-19任一項所述的陣列基板的情況下，在所述陣列基板遠離所述對置基板的一側(cè)設(shè)置有下偏光板，所述多條平行設(shè)置的金屬線的延伸方向與所述下偏光板的偏光軸的方向相互平行。22.—種顯示裝置，包括如權(quán)利要求20或21所述的液晶顯示面板。
【專利摘要】一種陣列基板、液晶顯示面板及顯示裝置。該陣列基板包括襯底基板以及設(shè)置在所述襯底基板上的多個子像素，其中，各所述子像素所在區(qū)域均包括多個透射區(qū)域和多個反射區(qū)域。其可使得包含本發(fā)明實施例提供的陣列基板的顯示面板及顯示裝置具有更均勻的亮度，整體均勻性好。
【IPC分類】G02F1/1362, G02F1/1335
【公開號】CN104991377
【申請?zhí)枴緾N201510483267
【發(fā)明人】王英濤
【申請人】京東方科技集團股份有限公司
【公開日】2015年10月21日
【申請日】2015年8月3日