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光刻機(jī)曝光參數(shù)的獲取方法_2

文檔序號(hào):9216355閱讀:來(lái)源:國(guó)知局
)/2 ;以及,第二圖形的主體圖形的遮光坐標(biāo)點(diǎn)為 Xm=-(Px+a)/2、Xp= (Px+a)/2、Ym=-(Py+dl+b)-d3/2、Yp=-t-dl-d3/2,且中心變換值為 X=0、 Y=(Py+dl+b+d3)/2 ;第二圖形的測(cè)試圖形的遮光坐標(biāo)點(diǎn)為Xm=_(Px+a)/2、Xp=(Px+a)/2、 Ym=-t-d3/2、Yp=-d3/2,且中心變換值為 X=0、Y=-dl+(Py+dl+b+d3)/2 ;
[0041] 當(dāng)所述完整圖形包含主體圖形和測(cè)試圖形時(shí),若以插花的形式僅曝光主體圖 形,則第一圖形的主體圖形的遮光坐標(biāo)點(diǎn)為Xm=- (Px+a) /2、Xp= (Px+a) /2、Ym=d3/2、 Yp=(Py+b)+d3/2,且中心變換值為X=0、Y=-(Py+t+dl+b+d3)/2;以及,第二圖形的主體圖形 的遮光坐標(biāo)點(diǎn)為 Xm=_(Px+a)/2、Xp=(Px+a)/2、Ym=-(Py+t+dl+b)_d3/2、Yp=-t-dl_d3/2,且 中心變換值為 X=0、Y=(Py+t+dl+b+d3)/2;
[0042] 當(dāng)所述完整圖形包含主體圖形和測(cè)試圖形時(shí),若以插花的形式曝光主體圖形和測(cè) 試圖形,貝1J第一圖形的主體圖形的遮光坐標(biāo)點(diǎn)為Xm=-(Px+a)/2、Xp=(Px+a)/2、Ym=d3/2、 Yp=(Py+b)-t-d4+d3/2,且中心變換值為X=0、Y=-(Py+t+dl+b+d3)/2;第一圖形的測(cè)試圖形 的遮光坐標(biāo)點(diǎn)為 Xm=_(Px+a) /2、Xp= (Px+a) /2、Ym= (Py+dl+b) +d3/2、Yp= (Py+t+dl+b) +d3/2, 且中心變換值為X=0、Y=-t-dl-(Py+t+dl+b+d3)/2;以及,第二圖形的主體圖形的遮光坐標(biāo) 點(diǎn)為 Xm=_(Px+a)/2、Xp=(Px+a)/2、Ym=-(Py+t+dl+b)_d3/2、Yp=-t-dl-t-d4_d3/2,且中心 變換值為X=0、Y=(Py+t+dl+b+d3)/2 ;第二圖形的測(cè)試圖形的遮光坐標(biāo)點(diǎn)為Xm=-(Px+a)/2、 Xp= (Px+a) /2、Ym=-t-d3/2、Yp=-d3/2,且中心變換值為 X=0、Y=-t-dl+ (Py+t+dl+b+d3) /2;
[0043] 其中,(Xm,Ym)為第一遮光坐標(biāo)點(diǎn),(Xp,Yp)為第二遮光坐標(biāo)點(diǎn),Xm和Xp為對(duì)應(yīng) 于所述第一軸的參數(shù)值、Ym和Yp為對(duì)應(yīng)于所述第二軸的參數(shù)值,X為沿所述第一軸的變換 值、Y為沿所述第二軸的變換值,Px為所述第一期望步進(jìn)長(zhǎng)度、Py為所述第二期望步進(jìn)長(zhǎng) 度,a為所述一個(gè)完整圖形上的左側(cè)緩沖區(qū)在所述第一軸方向上的寬度、b為所述一個(gè)完整 圖形上的下側(cè)緩沖區(qū)在所述第二軸方向上的高度,t為所述實(shí)際高度,dl為所述主體圖形 和所述測(cè)試圖形在所述光刻版上的間距,d3為所述第一圖形和所述第二圖形在所述第二軸 方向上的間距,d4為所述測(cè)試圖形和部分所述主體圖形在所述光刻版上的間距。
[0044] 針對(duì)三合一版的光刻處理過(guò)程,本發(fā)明提出了下述處理方式:
[0045] 優(yōu)選地,所述光刻機(jī)曝光參數(shù)包括:遮光坐標(biāo)和中心變換值;若所述光刻版上包 含三個(gè)完整圖形,第一圖形和第三圖形沿所述第一軸對(duì)稱(chēng),第二圖形位于所述第一圖形和 所述第三圖形之間、且第二圖形的中心點(diǎn)與所述原點(diǎn)重合,則按照如下方式計(jì)算所述光刻 機(jī)曝光參數(shù):
[0046] 當(dāng)所述完整圖形僅包含主體圖形時(shí),第一圖形的主體圖形的遮光坐標(biāo)點(diǎn) 為 Xm=_(Px+a)/2、Xp=(Px+a)/2、Ym=(Py+b)/2+d3、Yp=(Py+b)/2+(Py+b+d3),且中心 變換值為X=0、Y=- (Py+b+d3);第二圖形的主體圖形的遮光坐標(biāo)點(diǎn)為Xm=- (Px+a) /2、 Xp= (Px+a) /2、Ym=- (Py+b) /2、Yp= (Py+b) /2,且中心變換值為 X=0、Y=0 ;以及,第三圖形 的主體圖形的遮光坐標(biāo)點(diǎn)為 Xm=_ (Px+a) /2、Xp= (Px+a) /2、Ym=_ (Py+b) /2_ (Py+b+d3)、 Yp= (Py+b) /2_ (Py+b+d3),且中心變換值為 X=0、Y=Py+b+d3 ;
[0047] 當(dāng)所述完整圖形包含主體圖形和測(cè)試圖形時(shí),若以無(wú)插花的形式僅曝光 主體圖形,則第一圖形的主體圖形的遮光坐標(biāo)點(diǎn)為Xm=_ (Px+a) /2、Xp= (Px+a) /2、 Ym=(Py+t+dl+b)/2+d3、Yp=(Py+t+dl+b)/2+(Py+b+d3),且中心變換值為 X=0、 Y=_(Py+t+dl+b+d3);第二圖形的主體圖形的遮光坐標(biāo)點(diǎn)為Xm=-(Px+a)/2、Xp=(Px+a)/2、 Ym=-(Py+t+dl+b)/2、Yp=(Py+t+dl+b)/2-t-dl,且中心變換值為 X=0、Y=0;以及,第三圖形 的主體圖形的遮光坐標(biāo)點(diǎn)為 Xm=_ (Px+a) /2、Xp= (Px+a) /2、Ym=_ (Py+t+dl+b) /2_ (Py+t+dl+b +d3)、Yp=- (Py+t+dl+b) /2-t-dl-d3,且中心變換值為 X=0、Y=Py+t+dl+b+d3 ;
[0048] 當(dāng)所述完整圖形包含主體圖形和測(cè)試圖形時(shí),若以無(wú)插花的形式曝光主體圖 形和測(cè)試圖形,則第一圖形的主體圖形的遮光坐標(biāo)點(diǎn)為Xm=- (Px+a) /2、Xp= (Px+a) /2、 Ym=(Py+dl+b)/2+d3、Yp=(Py+dl+b)/2-t+(Py+b+d3),且中心變換值為 X=0、 Y=_ (Py+dl+b+d3);第一圖形的測(cè)試圖形的遮光坐標(biāo)點(diǎn)為Xm=- (Px+a) /2、Xp= (Px+a) /2、 Ym= (Py+dl+b) /2_t+ (Py+dl+b+d3)、Yp= (Py+dl+b) /2+ (Py+dl+b+d3),且中心變換值為 X=0、 Y=-dl_(Py+dl+b+d3);第二圖形的主體圖形的遮光坐標(biāo)點(diǎn)為Xm=_(Px+a)/2、Xp=(Px+a)/2、 Ym=-(Py+dl+b)/2、Yp= (Py+dl+b)/2-t-dl,且中心變換值為 X=0、Y=0 ;第二圖形的測(cè)試圖 形的遮光坐標(biāo)點(diǎn)為 Xm=_(Px+a)/2、Xp=(Px+a)/2、Ym=(Py+dl+b)/2_t、Yp=(Py+dl+b)/2, 且中心變換值為X=0、Y=-dl ;以及,第三圖形的主體圖形的遮光坐標(biāo)點(diǎn)為Xm=-(Px+a)/2、 Xp=(Px+a)/2、Ym=-(Py+dl+b)/2-(Py+dl+b+d3)、Yp=-(Py+dl+b)/2-t-dl_d3,且中心 變換值為X=0、Y=Py+dl+b+d3 ;第三圖形的測(cè)試圖形的遮光坐標(biāo)點(diǎn)為Xm=- (Px+a) /2、 Xp= (Px+a)/2、Ym=-(Py+dl+b)/2-t-d3、Yp=-(Py+dl+b)/2-d3,且中心變換值為 X=0、 Y=-dl+(Py+dl+b+d3);
[0049] 當(dāng)所述完整圖形包含主體圖形和測(cè)試圖形時(shí),若以插花的形式僅曝光 主體圖形,則第一圖形的主體圖形的遮光坐標(biāo)點(diǎn)為Xm=_ (Px+a) /2、Xp= (Px+a) /2、 Ym=(Py+t+dl+b)/2+d3、Yp=(Py+t+dl+b)/2+(Py+b+d3),且中心變換值為 X=0、 Y=_(Py+t+dl+b+d3);第二圖形的主體圖形的遮光坐標(biāo)點(diǎn)為Xm=-(Px+a)/2、Xp=(Px+a)/2、 Ym=-(Py+t+dl+b)/2、Yp=(Py+t+dl+b)/2-t-dl,且中心變換值為 X=0、Y=0;以及,第三圖形 的主體圖形的遮光坐標(biāo)點(diǎn)為 Xm=_ (Px+a) /2、Xp= (Px+a) /2、Ym=_ (Py+t+dl+b) /2_ (Py+t+dl+b +d3)、Yp=(Py+t+dl+b)/2_(Py+b+d3),且中心變換值為 X=0、Y=Py+t+dl+b+d3 ;
[0050] 當(dāng)所述完整圖形包含主體圖形和測(cè)試圖形時(shí),若以插花的形式曝光主體圖 形和測(cè)試圖形,則第一圖形的主體圖形的遮光坐標(biāo)點(diǎn)為Xm=_ (Px+a) /2、Xp= (Px+a) /2、 Ym=(Py+t+dl+b)/2+d3、Yp=(Py+t+dl+b)/2-t_d4+(Py+b+d3),且中心變換值為 X=0、 Y=_(Py+t+dl+b+d3);第一圖形的測(cè)試圖形的遮光坐標(biāo)點(diǎn)為Xm=-(Px+a)/2、Xp=(Px+a)/2、 Ym= (Py+t+dl+b)/2+(Py+dl+b+d3)、Yp= (Py+t+dl+b)/2+(Py+t+dl+b+d3),且中心變換值 為X=0、Y=-t-dl-(Py+t+dl+b+d3);第二圖形的主體圖形的遮光坐標(biāo)點(diǎn)為Xm=-(Px+a)/2、 Xp=(Px+a)/2、Ym=-(Py+t+dl+b)/2、Yp=(Py+t+dl+b)/2-t-dl-t_d4,且中心變換值 為X=0、Y=0;第二圖形的測(cè)試圖形的遮光坐標(biāo)點(diǎn)為Xm=- (Px+a) /2、Xp= (Px+a) /2、 Ym=(Py+t+dl+b)/2-t、Yp=(Py+t+dl+b)/2,且中心變換值為 X=0、Y=-t-dl ;以及,第三圖 形的主體圖形的遮光坐標(biāo)點(diǎn)為 Xm=_ (Px+a) /2、Xp= (Px+a) /2、Ym=_ (Py+t+dl+b) /2_ (Py +t+dl+b+d3)、Yp= (Py+t+dl+b)/2-t-dl-t_d4-(Py+t+dl+b+d3),且中心變換值為 X=0、 Y=Py+t+dl+b+d3 ;第三圖形的測(cè)試圖形的遮光坐標(biāo)點(diǎn)為Xm=_ (Px+a) /2、Xp= (Px+a) /2、 Ym=- (Py+t+dl+b) /2-t-d3、Yp=- (Py+t+dl+b) /2-d3,且中心變換值為 X=0、Y=Py+b+d3 ;
[0051]其中,(Xm,Ym)為第一遮光坐標(biāo)點(diǎn),(Xp,Yp)為第二遮光坐標(biāo)點(diǎn),Xm和Xp為對(duì)應(yīng) 于所述第一軸的參數(shù)值、Ym和Yp為對(duì)應(yīng)于所述第二軸的參數(shù)值,X為沿所述第一軸的變換 值、Y為沿所述第二軸的變換值,Px為所述第一期望步進(jìn)長(zhǎng)度、Py為所述第二期望步進(jìn)長(zhǎng) 度,a為所述一個(gè)完整圖形上的左側(cè)緩沖區(qū)在所述第一軸方向上的寬度、b為所述一個(gè)完整 圖形上的下側(cè)緩沖區(qū)在所述第二軸方向上的高度,t為所述實(shí)際高度,dl為所述主體圖形 和所述測(cè)試圖形在所述光刻版上的間距,d3為所述第一圖形和所述第二圖形、所述第二圖 形和所述第三圖形在所述第二軸方向上的間距,d4為所述測(cè)試圖形和部分所述主體圖形在 所述光刻版上的間距。
[0052] 針對(duì)四合一版的光刻處理過(guò)程,本發(fā)明提出了下述處理方式:
[0053] 優(yōu)選地,所述光刻機(jī)曝光參數(shù)包括:遮光坐標(biāo)和中心變換值;若所述光刻版上包 含四個(gè)完整圖形,第一圖形位于第一象限、第二圖形位于第二象限、第三圖形位于第三象 限、第四圖形位于第四象限,且第一圖形和第四圖形、第二圖形和第三圖形分別沿所述第一 軸對(duì)稱(chēng),第一圖形和第二圖形、第三圖形和第四圖形分別沿所述第二軸對(duì)稱(chēng),則按照如下方 式計(jì)算所述光刻機(jī)曝光參數(shù):
[0054] 當(dāng)所述完整圖形僅包含主體圖形時(shí),第一圖形的主體圖形的遮光坐標(biāo)點(diǎn)為 Xm=d2/2、Xp=Px+a+d2/2、Ym=d3/2、Yp=Py+b+d3/2,且中心變換值為 X=-(Px+a+d2)/2、 Y=- (Py+b+d3) /2 ;第二圖形的主體圖形的遮光坐標(biāo)點(diǎn)為Xm=- (Px+a) -d2/2、Xp=-d2/2、 Ym=d3/2、Yp=Py+b+d3/2,且中心變換值為 X=(Px+a+d2)/2、Y=-(Py+b+d3)/2;第三圖形的主 體圖形的遮光坐標(biāo)點(diǎn)為 Xm=-(Px+a)-d2/2、Xp=-d2/2、Ym=-(Py+b)-d3/2、Yp=-d3/2,且中 心變換值為X= (Px+a+d2) /2、Y= (Py+b+d3) /2 ;以及,第四圖形的主體圖形的遮光坐標(biāo)點(diǎn)為 Xm=d2/2、Xp=Px+a+d2/2、Ym=
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