一種防反射層疊結(jié)構(gòu)及其制作方法、基板和顯示裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示裝置領(lǐng)域，特別涉及一種防反射層疊結(jié)構(gòu)及其制作方法、基板和顯示裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]薄膜晶體管液晶顯不器(英文ThinFilm Transistor Liquid Crystal Display,簡稱TFT-1XD)是平板顯示領(lǐng)域中重要的一種，其應(yīng)用領(lǐng)域非常廣泛，如電視、筆記本電腦、監(jiān)視器、手機(jī)等。
[0003]在TFT-LCD顯示面板中，由于薄膜晶體管、數(shù)據(jù)線和柵線等多處電場混亂，透光不受控制，不能用于顯示，所以需要通過設(shè)置黑矩陣對薄膜晶體管、數(shù)據(jù)線和柵線進(jìn)行遮擋，使顯示面板具有較好的顯示效果。
[0004]在現(xiàn)有技術(shù)中，黑矩陣可以采用金屬材料來制作。由于金屬材料具有一定的反射率，所以采用金屬材料制作的黑矩陣會對光線形成反射，造成顯示面板的顯示對比度極大下降，影響畫面質(zhì)量。而且，這種顯示面板的反射率與黑矩陣的面積大小相關(guān)，黑矩陣的面積越大，顯示面板的反射率越大，所造成的顯示對比度的下降也就越嚴(yán)重。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]為了解決現(xiàn)有技術(shù)的問題，本發(fā)明實施例提供了一種防反射層疊結(jié)構(gòu)及其制作方法、基板和顯示裝置。所述技術(shù)方案如下:
[0006]第一方面，本發(fā)明實施例提供了一種防反射層疊結(jié)構(gòu)，包括層疊設(shè)置的多個吸光層，所述多個吸光層中至少兩個吸光層中非金屬元素的含量不同。
[0007]在本發(fā)明實施例的一種實現(xiàn)方式中，所述多個吸光層中，非金屬元素的含量分布為:從所述防反射層疊結(jié)構(gòu)的一側(cè)向另一側(cè)逐漸降低，或者從所述防反射層疊結(jié)構(gòu)的一側(cè)向另一側(cè)先升高后降低。
[0008]在本發(fā)明實施例的另一種實現(xiàn)方式中，當(dāng)所述多個吸光層中非金屬元素的含量分布為從所述防反射層疊結(jié)構(gòu)的一側(cè)向另一側(cè)先升高后降低時，所述非金屬元素的含量以含量最高的吸光層為中心呈對稱分布。
[0009]在本發(fā)明實施例的另一種實現(xiàn)方式中，每個所述吸光層中非金屬元素的含量的范圍為大于零小于等于15%。
[0010]在本發(fā)明實施例的另一種實現(xiàn)方式中，所述吸光層的厚度范圍為10?50nm。
[0011]在本發(fā)明實施例的另一種實現(xiàn)方式中，所述吸光層的厚度為20nm。
[0012]在本發(fā)明實施例的另一種實現(xiàn)方式中，所述防反射層疊結(jié)構(gòu)還包括設(shè)置在上表面和/或下表面上的透明金屬層。
[0013]在本發(fā)明實施例的另一種實現(xiàn)方式中，所述吸光層的材料包括金屬氧化物、金屬氮化物和金屬氮氧化物中的一種或多種。
[0014]在本發(fā)明實施例的另一種實現(xiàn)方式中，所述金屬氧化物為:A10x、Cr0x、Cu0x、Mo0x、T1x, AlNdOx, CuMo0x、MoTa0x、MoT1x中的一種或多種，x為正數(shù)；所述金屬氮化物為:AlNy、CrNy、CuNy、MoNy、T1x、AlNdNy、CuMoNy、MoTaNy、MoTiNy中的一種或多種，y 為正數(shù)；所述金屬氮氧化物為:AlNaOb、CrNaOb, CuNaOb' MoNaOb' TiNaOb' AlNdNaOb, CuMoNaOb,MoTaNaOb, MoTiNaObφ的一種或多種，a和b為正數(shù)。
[0015]第二方面，本發(fā)明實施例還提供了一種基板，包括襯底基板及上述的防反射層疊結(jié)構(gòu)，所述防反射層疊結(jié)構(gòu)形成于所述襯底基板上方。
[0016]在本發(fā)明實施例的一種實現(xiàn)方式中，所述基板為顯示基板，所述防反射層疊結(jié)構(gòu)為所述顯示基板上的黑矩陣。
[0017]在本發(fā)明實施例的另一種實現(xiàn)方式中，所述顯示基板為COA基板。
[0018]在本發(fā)明實施例的另一種實現(xiàn)方式中，所述基板為觸摸基板，所述防反射層疊結(jié)構(gòu)為所述觸摸基板上用于連接感應(yīng)電極的橋接結(jié)構(gòu)。
[0019]第三方面，本發(fā)明實施例還提供了一種顯示裝置，所述顯示裝置包括上述的基板。
[0020]第四方面，本發(fā)明實施例還提供了一種顯示基板制作方法，所述方法包括:
[0021]提供一襯底基板；
[0022]在所述襯底基板上沉積多個吸光層，形成防反射層疊結(jié)構(gòu)，所述防反射層疊結(jié)構(gòu)包括層疊設(shè)置的多個吸光層，所述多個吸光層中至少兩個吸光層中非金屬元素的含量不同。
[0023]在本發(fā)明實施例的一種實現(xiàn)方式中，所述多個吸光層中，非金屬元素的含量分布為:從所述防反射層疊結(jié)構(gòu)的一側(cè)向另一側(cè)逐漸降低，或者從所述防反射層疊結(jié)構(gòu)的一側(cè)向另一側(cè)先升高后降低。
[0024]在本發(fā)明實施例的另一種實現(xiàn)方式中，當(dāng)所述多個吸光層中非金屬元素的含量分布為從所述防反射層疊結(jié)構(gòu)的一側(cè)向另一側(cè)先升高后降低時，所述非金屬元素的含量以含量最高的吸光層為中心呈對稱分布。
[0025]在本發(fā)明實施例的另一種實現(xiàn)方式中，所述吸光層的厚度范圍為10?50nm。
[0026]在本發(fā)明實施例的另一種實現(xiàn)方式中，所述吸光層的厚度為20nm。
[0027]在本發(fā)明實施例的另一種實現(xiàn)方式中，所述在所述襯底基板上沉積多個吸光層，形成防反射層疊結(jié)構(gòu)包括:
[0028]沉積所述多個吸光層，任意一個所述吸光層采用下述方式沉積得到:以金屬或合金為靶材，在Ar和O2氣氛中，采用濺射工藝沉積吸光層；或者，以金屬或合金為靶材，在Ar和N2氣氛中，采用濺射工藝沉積吸光層；或者，以金屬或合金為靶材，在41*、02和1氣氛中，采用濺射工藝沉積吸光層；
[0029]刻蝕所述多個吸光層形成防反射層疊結(jié)構(gòu)。
[0030]在本發(fā)明實施例的另一種實現(xiàn)方式中，所述方法還包括:
[0031]在所述沉積所述多個吸光層之前和/或之后，控制O2流量為0，沉積一層透明金屬層；或者，
[0032]在所述沉積所述多個吸光層之前和/或之后，控制N2流量為0，沉積一層透明金屬層；或者，
[0033]在所述沉積所述多個吸光層之前和/或之后，控制02和N 2流量為0，沉積一層透明金屬層。
[0034]在本發(fā)明實施例的另一種實現(xiàn)方式中，在形成所述防反射層疊結(jié)構(gòu)時，基體溫度為25?150°C，沉積功率為5?15kW，沉積壓力為0.1?0.5Pa ；
[0035]當(dāng)采用所述Ar和02氣氛沉積所述吸光層時，所述Ar和O 2氣氛中O 2的比重為O?20% ；當(dāng)采用所述Ar和N2氣氛沉積所述吸光層時，所述Ar和N 2氣氛中N 2的比重為O?20% ;當(dāng)采用所述Ar、OjP N 2氣氛沉積所述吸光層時，所述Ar、0 2和N 2氣氛中O 2和N 2的比重之和為O?20%。
[0036]在本發(fā)明實施例的另一種實現(xiàn)方式中，所述金屬為Al、Cr、Cu、Mo或Ti，所述合金為 AlNcU CuMo、MoTa 或 MoTi。
[0037]本發(fā)明實施例提供的技術(shù)方案帶來的有益效果是:
[0038]防反射層疊結(jié)構(gòu)由多個吸光層構(gòu)成，吸光層可以吸收環(huán)境光，降低防反射層疊結(jié)構(gòu)對環(huán)境光的反射，當(dāng)防反射層疊結(jié)構(gòu)應(yīng)用在顯示裝置中用于遮擋基板時，可以避免反射光拉高屏幕的純黑亮度，而對比度等于純白亮度除以純黑亮度，所以降低反射率可以提高顯示對比度，從而保證畫面質(zhì)量。
【附圖說明】
[0039]為了更清楚地說明本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案，下面將對實施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0040]圖1是本發(fā)明實施例提供的一種防反射層疊結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0041]圖2是本發(fā)明實施例提供的另一種防反射層疊結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖；
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