墊物的均一性問(wèn)題。
[0070]若當(dāng)前掩膜板為三個(gè)透光率等級(jí)，則表示需要改掩膜板有一個(gè)完全透光區(qū)域以及兩個(gè)不完全透光區(qū)域，該不完全透光區(qū)域應(yīng)位于靠近中間區(qū)域，且其透光率等級(jí)應(yīng)限定在小于100%透光率，大于60%透光率的范圍內(nèi)，如圖6(a)所示，為彩色光阻掩膜板，只示出了部分結(jié)構(gòu)，該彩色光阻掩膜板中位于四周區(qū)域的曝光區(qū)域(空白區(qū)域)的透光率等級(jí)為100%，位于靠近中間區(qū)域的曝光區(qū)域(疏網(wǎng)格區(qū)域)的透光率等級(jí)為80%，中間(密網(wǎng)格區(qū)域)的透光率等級(jí)為60%;該掩膜板的面積較大，針對(duì)不同的彩色光阻的制備，可以錯(cuò)開一個(gè)條形的彩色光阻使用，進(jìn)而制備其他顏色的彩色光阻。根據(jù)上述掩膜板進(jìn)行三次(每次對(duì)位都錯(cuò)開一個(gè)條形彩色光阻)對(duì)位曝光，依次形成RGB像素單元，如圖6 (b)，其中，中間區(qū)域中用于形成柱狀隔墊物的區(qū)域(豎條紋區(qū)域)的彩色光阻的高度為H3，靠近中間(右斜條紋區(qū)域)的彩色光阻的高度為H2，其他區(qū)域(左斜條紋區(qū)域)的彩色光阻的高度均為Hl,且 H1>H2>H3。
[0071]同理，本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種與上述制作彩膜基板的方法屬于同一發(fā)明構(gòu)思的彩膜基板，該彩膜基板主要包括:
[0072]彩膜基底；
[0073]位于所述彩膜基底之上的圖案化的黑矩陣；
[0074]位于形成有黑矩陣的彩膜基底之上圖案化的彩色光阻，其中，利用權(quán)利要求1-2任一所述的掩膜板中心區(qū)域形成的彩色光阻的高度低于利用所述掩膜板四周區(qū)域形成的彩色光阻的高度；
[0075]位于所述彩色光阻之上、對(duì)應(yīng)黑矩陣的區(qū)域的柱狀隔墊物，其中，所述柱狀隔墊物中遠(yuǎn)離所述彩膜基底的一端面均在同一水平面上。
[0076]優(yōu)選地，位于形成有黑矩陣的彩膜基底之上圖案化的彩色光阻，具體包括:
[0077]多個(gè)呈條狀圖形、且間隔排列的第一彩色光阻，第二彩色光阻和第三彩色光阻；
[0078]所述第一彩色光阻、第二彩色光阻和第三彩色光阻均滿足:利用權(quán)利要求1-2任一所述的掩膜板中心區(qū)域形成的彩色光阻的高度低于利用所述掩膜板四周區(qū)域形成的彩色光阻的高度。
[0079]優(yōu)選地，所述彩色光阻中用于形成柱狀隔墊物的區(qū)域處的彩色光阻的高度差大于O μ m，小于等于0.05 μ m。
[0080]優(yōu)選地，用于形成柱狀隔墊物的區(qū)域的圖形為矩形或圓柱形，所述用于形成柱狀隔墊物的區(qū)域的圖形面積大于待形成的柱狀隔墊物在垂直彩膜基底方向上的投影面積。
[0081]此外，本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種顯示面板，包括上述任一方案中所涉及的彩膜基板。
[0082]同時(shí)，本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種顯示裝置，包括上述顯示面板，其中，該顯示裝置可以為液晶面板、手機(jī)、平板電腦、電視機(jī)、顯示器、筆記本電腦、數(shù)碼相框、導(dǎo)航儀等任何具有顯示功能的產(chǎn)品或部件。
[0083]盡管已描述了本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例，但本領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)人員一旦得知了基本創(chuàng)造性概念，則可對(duì)這些實(shí)施例作出另外的變更和修改。所以，所附權(quán)利要求意欲解釋為包括優(yōu)選實(shí)施例以及落入本發(fā)明范圍的所有變更和修改。
[0084]顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對(duì)本發(fā)明進(jìn)行各種改動(dòng)和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣，倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本發(fā)明也意圖包含這些改動(dòng)和變型在內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種掩膜板，其特征在于，包括: 至少兩個(gè)透光率等級(jí)的曝光區(qū)域，其中，所述掩膜板中對(duì)應(yīng)黑矩陣的曝光區(qū)域?qū)?yīng)的透光率等級(jí)按照由中心區(qū)域向四周區(qū)域依次升高的規(guī)則設(shè)置。
2.如權(quán)利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜板的透光率等級(jí)的取值范圍為:60% -100%。
3.一種彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述方法包括: 提供一彩膜基底； 在所述彩膜基底上形成圖案化的黑矩陣； 在形成有黑矩陣的彩膜基底上，利用權(quán)利要求1-2任一所述的掩膜板形成圖案化的彩色光阻，其中，利用所述掩膜板中心區(qū)域形成的彩色光阻的高度低于利用所述掩膜板四周區(qū)域形成的彩色光阻的高度； 在所述彩色光阻之上、對(duì)應(yīng)所述黑矩陣的區(qū)域形成柱狀隔墊物，其中，所述柱狀隔墊物中遠(yuǎn)離所述彩膜基底的一端面均在同一水平面上。
4.如權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，在形成有黑矩陣的彩膜基底上，利用權(quán)利要求1-2任一所述的掩膜板形成圖案化的彩色光阻，具體包括: 在形成有黑矩陣的彩膜基底上，涂布第一彩色光阻材料，利用所述掩膜板形成圖案化的第一彩色光阻； 在形成有第一彩色光阻的彩膜基底上，涂布第二彩色光阻材料，利用所述掩膜板形成圖案化的第二彩色光阻； 在形成有第二彩色光阻的彩膜基底上，涂布第三彩色光阻材料，利用所述掩膜板形成圖案化的第三彩色光阻。
5.如權(quán)利要求3或4任一所述的方法，其特征在于，用于形成柱狀隔墊物的區(qū)域的圖形為矩形或圓柱形，所述用于形成柱狀隔墊物的區(qū)域的圖形面積大于待形成的柱狀隔墊物在垂直彩膜基底方向上的投影面積。
6.如權(quán)利要求3或4任一所述的方法，其特征在于，在所述彩色光阻之上、對(duì)應(yīng)所述黑矩陣的區(qū)域形成柱狀隔墊物，具體包括: 在具有高度差的彩色光阻之上，涂布用于制作柱狀隔墊物的有機(jī)材料和光刻膠層； 利用掩膜板對(duì)所述有機(jī)材料和光刻膠層進(jìn)行曝光，形成柱狀隔墊物，其中，所述柱狀隔墊物中遠(yuǎn)離所述彩膜基底的一端面均在同一水平面上。
7.一種彩膜基板，其特征在于，包括: 彩膜基底； 位于所述彩膜基底之上的圖案化的黑矩陣； 位于形成有黑矩陣的彩膜基底之上圖案化的彩色光阻，其中，利用權(quán)利要求1-2任一所述的掩膜板中心區(qū)域形成的彩色光阻的高度低于利用所述掩膜板四周區(qū)域形成的彩色光阻的高度； 位于所述彩色光阻之上、對(duì)應(yīng)所述黑矩陣的區(qū)域的柱狀隔墊物，其中，所述柱狀隔墊物中遠(yuǎn)離所述彩膜基底的一端均在同一水平面上。
8.如權(quán)利要求7所述的彩膜基板，其特征在于，位于形成有黑矩陣的彩膜基底之上圖案化的彩色光阻，具體包括: 多個(gè)呈條狀圖形、且間隔排列的第一彩色光阻，第二彩色光阻和第三彩色光阻。
9.如權(quán)利要求7或8任一所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩色光阻中用于形成柱狀隔墊物的區(qū)域處的彩色光阻的高度差大于O μ m，小于等于0.05 μ mo
10.一種顯示面板，其特征在于，包括權(quán)利要求7-9任一所述的彩膜基板。
11.一種顯示裝置，其特征在于，包括權(quán)利要求10所述的顯示面板。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種掩膜板、彩膜基板及其制作方法、顯示面板、顯示裝置，主要內(nèi)容包括：通過(guò)在制作彩膜基板的工藝流程中，使用具有至少兩個(gè)透光率等級(jí)的掩膜板制作彩色光阻，使得形成的彩膜基板的中間區(qū)域中用于形成柱狀隔墊物的位置處彩色光阻高度低于四周區(qū)域中用于形成柱狀隔墊物的位置處彩色光阻的的高度，從而，補(bǔ)償了后續(xù)由于掩膜板面積較大而造成柱狀隔墊物膜層曝光不均勻而導(dǎo)致的柱狀隔墊物中遠(yuǎn)離彩膜基板的一端面不在同一水平面內(nèi)的缺陷，盡可能的使中間區(qū)域形成的柱狀隔墊物中遠(yuǎn)離彩膜基板的一端面與四周區(qū)域形成的柱狀隔墊物中遠(yuǎn)離彩膜基板的一端面在同一水平面內(nèi)，保證了面板的均一性，以便后續(xù)對(duì)位貼合。
【IPC分類】G03F1-54, G02F1-1333, G02F1-1339, G02F1-1335
【公開號(hào)】CN104698739
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510152639
【發(fā)明人】孟慶勇
【申請(qǐng)人】合肥京東方光電科技有限公司, 京東方科技集團(tuán)股份有限公司
【公開日】2015年6月10日
【申請(qǐng)日】2015年4月1日