掩膜板、彩膜基板及其制作方法、顯示面板、顯示裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及掩膜板、彩膜基板及其制作方法、顯示面板、顯示裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]目前，隨著液晶生產(chǎn)線代的升級(jí)，可生產(chǎn)的基板的尺寸越來(lái)越大，其生產(chǎn)良率的要求越來(lái)越高，但同時(shí)也引發(fā)一系列問(wèn)題。例如:在彩膜基板的制作過(guò)程中，由于彩膜基板面積過(guò)大而造成面內(nèi)壓力分布不均成為限制產(chǎn)品設(shè)計(jì)的主要因素。
[0003]尤其在制作柱狀隔墊物時(shí)，如圖1所示，由于彩膜基板I的面積過(guò)大，因此，采用的用于制作柱狀隔墊物的掩膜板2的面積也會(huì)比較大，由于重力的原因會(huì)造成掩膜板2中間區(qū)域彎曲下陷，使得四周曝光高度hi比中心曝光高度h2高50?70um，針對(duì)使用正性光刻膠的情況而言，被曝光區(qū)域是需要顯影掉的，最終保留的柱狀隔墊物位于非曝光區(qū)域，因此，形成的柱狀隔墊物的高度是不會(huì)受到曝光影響的；然而，使用負(fù)性光刻膠的情況不同，最終保留的柱狀隔墊物位于曝光區(qū)域，非曝光區(qū)域是要顯影掉的，因此，由負(fù)性光刻膠形成的柱狀隔墊物的高度會(huì)受到曝光程度的影響，從而導(dǎo)致曝光形成的柱狀隔墊物的高度有0.05um的差異，影響彩膜基板的面板均一性。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明實(shí)施例提供一種掩膜板、彩膜基板及其制作方法、顯示面板、顯示裝置，用以解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的由于掩膜板面積過(guò)大而導(dǎo)致同一面板中曝光高度不同，進(jìn)而導(dǎo)致形成的柱狀隔墊物的遠(yuǎn)離彩膜基板的一端面不在同一水平面的問(wèn)題。
[0005]本發(fā)明實(shí)施例采用以下技術(shù)方案:
[0006]—種掩膜板，包括:
[0007]至少兩個(gè)透光率等級(jí)的曝光區(qū)域，其中，所述掩膜板中對(duì)應(yīng)黑矩陣的曝光區(qū)域的透光率等級(jí)按照由中心區(qū)域向四周區(qū)域依次升高的規(guī)則設(shè)置。
[0008]優(yōu)選地，所述掩膜板的透光率等級(jí)的取值范圍為:60% -100%。
[0009]一種彩膜基板的制作方法，所述方法包括:
[0010]提供一彩膜基底；
[0011]在所述彩膜基底上形成圖案化的黑矩陣；
[0012]在形成有黑矩陣的彩膜基底上，利用所述的掩膜板形成圖案化的彩色光阻，其中，利用所述掩膜板中心區(qū)域形成的彩色光阻的高度低于利用所述掩膜板四周區(qū)域形成的彩色光阻的高度；
[0013]在所述彩色光阻之上、對(duì)應(yīng)所述黑矩陣的區(qū)域形成柱狀隔墊物，其中，所述柱狀隔墊物中遠(yuǎn)離所述彩膜基底的一端面均在同一水平面上。
[0014]優(yōu)選地，在形成有黑矩陣的彩膜基底上，利用所述的掩膜板形成圖案化的彩色光阻，具體包括:
[0015]在形成有黑矩陣的彩膜基底上，涂布第一彩色光阻材料，利用具有至少兩個(gè)透光率等級(jí)的第一掩膜板形成圖案化的第一彩色光阻；
[0016]在形成有第一彩色光阻的彩膜基底上，涂布第二彩色光阻材料，利用具有至少兩個(gè)透光率等級(jí)的第二掩膜板形成圖案化的第二彩色光阻；
[0017]在形成有第二像素單元的彩膜基底上，涂布第三像素材料，利用具有至少兩個(gè)透光率等級(jí)的第三掩膜板形成圖案化的第三彩色光阻。
[0018]優(yōu)選地，用于形成柱狀隔墊物的區(qū)域的圖形為矩形或圓柱形，所述用于形成柱狀隔墊物的區(qū)域的圖形面積大于待形成的柱狀隔墊物在垂直彩膜基底方向上的投影面積。
[0019]優(yōu)選地，在所述彩色光阻之上、對(duì)應(yīng)所述黑矩陣的區(qū)域形成柱狀隔墊物，具體包括:
[0020]在具有高度差的彩色光阻之上，涂布用于制作柱狀隔墊物的有機(jī)材料和光刻膠層；
[0021]利用掩膜板對(duì)所述有機(jī)材料和光刻膠層進(jìn)行曝光，形成柱狀隔墊物，其中，所述柱狀隔墊物中遠(yuǎn)離所述彩膜基底的一端面均在同一水平面上。
[0022]一種彩膜基板，包括:
[0023]彩膜基底；
[0024]位于所述彩膜基底之上的圖案化的黑矩陣；
[0025]位于形成有黑矩陣的彩膜基底之上圖案化的彩色光阻，其中，利用權(quán)利要求1-2任一所述的掩膜板中心區(qū)域形成的彩色光阻的高度低于利用所述掩膜板四周區(qū)域形成的彩色光阻的高度；
[0026]位于所述彩色光阻之上、對(duì)應(yīng)所述黑矩陣的區(qū)域的柱狀隔墊物，其中，所述柱狀隔墊物中遠(yuǎn)離所述彩膜基底的一端均在同一水平面上。
[0027]優(yōu)選地，位于形成有黑矩陣的彩膜基底之上圖案化的彩色光阻，具體包括:
[0028]多個(gè)呈條狀圖形、且間隔排列的第一彩色光阻，第二彩色光阻和第三彩色光阻。
[0029]優(yōu)選地，所述彩色光阻中用于形成柱狀隔墊物的區(qū)域處的彩色光阻的高度差大于O μ m，小于等于0.05 μ m。。
[0030]一種顯示面板，包括所述的彩膜基板。
[0031]一種顯示裝置，包括所述的顯示面板。
[0032]在本發(fā)明實(shí)施例中，通過(guò)在制作彩膜基板的工藝流程中，使用具有至少兩個(gè)透光率等級(jí)的掩膜板制作彩色光阻，使得形成的彩色光阻的中間區(qū)域中用于形成柱狀隔墊物的位置的高度低于四周區(qū)域中用于形成柱狀隔墊物的位置的高度，從而，補(bǔ)償了后續(xù)由于掩膜板面積較大而造成柱狀隔墊物膜層曝光不均勻而導(dǎo)致的柱狀隔墊物的高度不在同一水平面內(nèi)的缺陷，盡可能的使中間區(qū)域形成的柱狀隔墊物的高度與四周區(qū)域形成的柱狀隔墊物的高度在同一水平面內(nèi)，保證了面板的均一性，以便后續(xù)對(duì)位貼合。
【附圖說(shuō)明】
[0033]為了更清楚地說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)要介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)性的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0034]圖1為現(xiàn)有技術(shù)中，制作柱狀隔墊物的原理示意圖；
[0035]圖2為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種彩膜基板的制作方法的流程圖；
[0036]圖3(a)-圖3(c)為本發(fā)明實(shí)施例提供的彩膜基板的制作工藝示意圖；
[0037]圖4(a)-圖4(b)為利用本發(fā)明所涉及的彩膜基板制作柱狀隔墊物的工藝示意圖；
[0038]圖5(a)-圖5(b)為利用具有兩個(gè)透光率等級(jí)的掩膜板制作彩色光阻的示意圖；
[0039]圖6(a)-圖6(b)為利用具有三個(gè)透光率等級(jí)的掩膜板制作彩色光阻的示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0040]為了使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步地詳細(xì)描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其它實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0041]在本發(fā)明實(shí)施例中，通過(guò)在制作彩膜基板的工藝流程中，使用具有至少兩個(gè)透光率等級(jí)的掩膜板制作彩色光阻，使得形成的彩色光阻的中間區(qū)域中用于形成柱狀隔墊物的位置的高度低于四周區(qū)域中用于形成柱狀隔墊物的位置的高度，從而，補(bǔ)償了后續(xù)由于掩膜板面積較大而造成柱狀隔墊物膜層曝光不均勻而導(dǎo)致的柱狀隔墊物的高度不在同一水平面內(nèi)的缺陷，盡可能的使中間區(qū)域形成的柱狀隔墊物的遠(yuǎn)離彩膜基底的一端面與四周區(qū)域形成的柱狀隔墊物的遠(yuǎn)離彩膜基底的一端面在同一水平面上，保證了面板的均一性，以便后續(xù)對(duì)位貼合。
[0042]下面通過(guò)具體的實(shí)施例對(duì)本發(fā)明所涉及的技術(shù)方案進(jìn)行詳細(xì)描述，本發(fā)明包括但并不限于以下實(shí)施例。
[0043]如圖2所示，為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種彩膜基板的制作方法的流程圖，該方法主要包括以下步驟:
[0044]步驟11:提供一彩膜基底。