負型厚膜光阻組成物及其用圖
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明是關(guān)于一種負型厚膜光阻組成物及其用途，尤其指一種適用于電鍍工藝的 負型厚膜光阻組成物及其用途。
【背景技術(shù)】
[0002] 近年來，隨著微型化電子設(shè)備的發(fā)展，業(yè)界亦追求多引腳薄膜封裝化、封裝尺寸微 小化等高密度構(gòu)裝技術(shù)的發(fā)展。
[0003] 厚膜光阻為用于上述半導(dǎo)體封裝工藝的重要關(guān)鍵材料，例如，可用于利用電鍍法 形成凸塊（bumping)或金屬接線柱等的凸塊工藝中。然而，由于公知用于制作凸塊或金屬 接線柱的電鍍液通常含有氰化物（cyanide)或非氰化物（non-cyanide),此類厚膜光阻于 工藝中往往難以保持其形狀，容易發(fā)生變形或厚膜光阻剝離，造成線路導(dǎo)通、短路等問題。 再者，于硅片的電鍍工藝中，亦需考慮厚膜光阻與基材間的附著性，例如，于電鍍工藝前后， 厚膜光阻是否易于自基材上剝除，于電鍍過程中，厚膜光阻是否與基材保持良好的附著性。
[0004] 因此，發(fā)展一能用于硅片的凸塊工藝的厚膜光阻，且其具有高感亮度、與硅片基材 間保持良好附著性、電鍍不易變形等特性，對于推動相關(guān)產(chǎn)業(yè)的發(fā)展有其幫助。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005] 本發(fā)明的目的是提供一種負型厚膜光阻組成物，通過該組成物所含具有剛性結(jié)構(gòu) 的堿可溶樹脂及雙酚芴衍生物單體制備出同時兼具有高感亮度、與硅片基材間保持良好附 著性、電鍍不易變形等特性的負型厚膜光阻組成物，以利應(yīng)用于硅片的凸塊工藝。
[0006] 本發(fā)明的另一目的是提供一種上述負型厚膜光阻組成物的用途。
[0007] 為達成上述目的，本發(fā)明提供的負型厚膜光阻組成物，包括：(A) 20至50重量百分 比的堿可溶樹脂，其可由復(fù)數(shù)種單體聚合而成，其中，該些單體可包含如式（1A)及式（1B) 所示的化合物，且基于該些單體占堿可溶樹脂的重量比，式（1A)化合物與式（1B)化合物兩 者共占20至60%，且于式（1A)及式（1B)的X可各自獨立為氫、甲基或乙基，
[0008]
【主權(quán)項】
1. 一種負型厚膜光阻組成物，包括： (A) 20至50重量百分比的堿可溶樹脂，由復(fù)數(shù)種單體聚合而成，其中，該些單體包含如 式（1A)及式（1B)所示的化合物，且基于該些單體占堿可溶樹脂的重量比，式（1A)化合物 及式（1B)化合物兩者共占20至60%，且于式（1A)及式（1B)的X各自獨立為氫、甲基或乙 基；
(B) 10至30重量百分比的交聯(lián)劑，為一具有至少一乙烯性不飽和雙鍵的雙酚芴衍生物 單體； (C) 5至15重量百分比的光起始劑；以及 (D) 余量溶劑。
2. 如權(quán)利要求1所述的負型厚膜光阻組成物，其中，該些單體包括式（1C)化合物、式 (1D)化合物或其組合；
3. 如權(quán)利要求1所述的負型厚膜光阻組成物，其中，該堿可溶樹脂的重量平均分子量 為8, 000至30, 000克/摩爾，且其聚合度分布性指數(shù)為1至3。
4. 如權(quán)利要求2所述的負型厚膜光阻組成物，其中，該堿可溶樹脂由復(fù)數(shù)種單體聚合 而成，該些單體為式（1A)、式（1B)、式（1C)、及式（1D)所示化合物，其中，基于該些單體占 堿可溶樹脂的總重量比，式（1A)化合物與式（1B)化合物共占20至60%，式（1C)化合物 占10至30%，式（1D)化合物占10至20%，且于式（1A)及式（1B)的X各自獨立為氫、甲 基或乙基，
5. 如權(quán)利要求1所述的負型厚膜光阻組成物，其中，該雙酚芴衍生物單體為下式（2)所 示的化合物；
其中，m、n、x、及y各自獨立為0至2的正整數(shù)，且m、n、x及y至少一者不為0。
6. 如權(quán)利要求5所述的負型厚膜光阻組成物，其中，m+n+x+y大于或等于2。
7. 如權(quán)利要求1所述的負型厚膜光阻組成物，其中，該負型光阻組成物包括大于0至 10重量百分比的抑制劑。
8. 如權(quán)利要求1所述的負型厚膜光阻組成物，其中，該負型光阻組成物包括大于0至 10重量百分比的附著促進劑。
9. 如權(quán)利要求1所述的負型厚膜光阻組成物，其中，該負型光阻組成物包括大于0至 10重量百分比的流平劑。
10. -種如權(quán)利要求1至9任一項所述的負型厚膜光阻組成物的用途，是將該負型光阻 組成物用于一電鍍工藝。
【專利摘要】本發(fā)明系有關(guān)于一種負型厚膜光阻組成物，包括：(A)20至50重量百分比的堿可溶樹脂，由復(fù)數(shù)種單體聚合而成，其中，該些單體包含如式(1A)及式(1B)所示的化合物，且基于該些單體占堿可溶樹脂的重量比，式(1A)化合物與式(1B)化合物兩者共占20至60％，且于式(1A)及式(1B)的X各自獨立為氫、甲基或乙基；(B)10至30重量百分比的交聯(lián)劑，為一具有至少一乙烯性不飽和雙鍵的雙酚芴衍生物單體；(C)5至15重量百分比的光起始劑；以及(D)余量溶劑。本發(fā)明亦有關(guān)于一種上述負型厚膜光阻組成物的用途。
【IPC分類】G03F7-038, G03F7-004
【公開號】CN104570596
【申請?zhí)枴緾N201410305718
【發(fā)明人】陳怡靜, 周乃天, 黃新義
【申請人】臺灣永光化學(xué)工業(yè)股份有限公司
【公開日】2015年4月29日
【申請日】2014年6月30日
【公告號】US20150118617