專利名稱：耐高溫高濕偏振片的生產(chǎn)方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種偏振光片的生產(chǎn)方法。
現(xiàn)有的偏振片在50℃以上的溫度條件下使用一段時間后會失去偏光作用，沒有耐高溫性能，使用要求較苛刻。而且現(xiàn)有的偏振片對濕度要求也較高，一旦工作環(huán)境較惡劣，濕度大，偏振片也會失去偏光作用，因此現(xiàn)有偏振片使用時要用塑料片封合后才能使用，增加了偏振片的厚度。此外，現(xiàn)有的偏振片多為平面片，且成品無法再改變形狀，不能根據(jù)需要改制成弧面片。
本發(fā)明的目的就是為了解決上述同題，提出一種耐高溫高濕偏振片的生產(chǎn)方法。
本發(fā)明的技術(shù)解決方案一種耐高溫高濕偏振片的生產(chǎn)方法，先將聚乙烯醇原料在水中浸泡后，加溫，使它們充分溶解，再加入適量碘，其混合溶解液倒在水平放置的光潔度較高的材料平面上，略干后，取向拉伸，再干燥后制得偏振片芯片，其特征在于a、配制處理液取硅溶膠用酸調(diào)至PH值為2-4的溶液待用；b、制作耐高溫高濕偏振片將配制好的處理液均勻涂覆在偏振片芯片的兩面，等處理液稍干后再在40℃至300℃的溫度進(jìn)行升溫干燥，取出自然晾干即為本發(fā)明的耐高溫高濕偏振片。
本發(fā)明的偏光片采用特殊工藝處理，其耐高溫、高濕性能大大提高，可在200℃以上的工作溫度下正常使用，不會失去偏光作用，其耐濕性即使在水中使用，即使不用塑料片封合，也不會失去偏光作用，在偏振片的領(lǐng)域有了質(zhì)的提高，可在特殊環(huán)境下使用，產(chǎn)品使用壽命長。本發(fā)明產(chǎn)品性能優(yōu)良，使用面廣，特別適用于偏振光車燈罩，解決遇熱失去偏光作用的問題，也適用于鏡片，解決遇熱遇濕失去偏光作用的問題，還適用于隱形眼鏡片，具有很大的社會效益和經(jīng)濟效益。
下面對本發(fā)明生產(chǎn)方法詳細(xì)描述如下1、生產(chǎn)偏振片芯片將聚乙烯醇(如牌號為1799的聚乙烯醇)先在水中浸泡一段時間后，然后加溫至90℃，聚乙烯醇與水之比為5～8∶100，使它們充分溶解，再加入適量碘，其混合溶解液倒在水平放置的光潔度較高的材料平面上(如玻璃、不銹鋼板等)，自然流平，在未完全干燥前形成一軟薄膜層，然后揭下該軟薄膜層向兩個方向拉伸，拉伸后再定位繼續(xù)干燥，干燥后即得到偏振片芯片。
2、配制處理液取硅溶膠用酸調(diào)至PH值為2-4的溶液待用，若用強酸，應(yīng)用6％以下濃度的稀酸，以防止硅溶膠膠化，若用弱酸可直接使用。最好采用濃度5％的鹽酸將硅溶膠調(diào)至PH值為2-4的溶液。本發(fā)明中，可采用5％的鹽酸將硅溶膠調(diào)至PH值為3的溶液待用。
3、制作耐高溫高濕偏振片將配制好的處理液均勻涂覆在偏振片芯片的兩面。偏振片芯片最好處于無水較軟狀態(tài)下進(jìn)行涂覆，如果偏振片芯片較硬，則應(yīng)將偏振片浸泡在處理液中，待其稍軟后拎出則自然涂覆一層處理液，在涂覆過程中應(yīng)保證偏振片芯片的平面性，等處理液稍干后再在40℃至300℃的溫度下進(jìn)行升溫干燥。干燥過程最好分為兩段，第一段用40-140℃升溫干燥至偏振片退色，第二段用140-300℃溫度干燥。干燥中最好采用紅外線干燥。干燥結(jié)束時，稍冷卻后即可放置在水中浸泡，使偏振片芯片上的干燥后的處理液脫落(也可用超聲波或稀堿溶液清洗)，使得偏振片芯片清晰透光，如果偏振片芯片色度太深，再用漂白粉處理至所需要色度，取出自然晾干即為本發(fā)明的耐高溫高濕偏振片。用硅熔膠強迫酸在高溫下和偏振片芯片作用，硅溶膠起封合作用，酸就與偏振片芯片在高溫下作用后改變了偏振片芯片的內(nèi)部結(jié)構(gòu)，故具有耐高溫、高濕的性能。
成品后的偏振片，若要制成弧面狀，只需將成品在水中浸泡使其柔軟，然后在弧形物面上定型干燥即得到弧面偏振片，可用于制作汽車燈罩等。
本發(fā)明的偏振片，根據(jù)使用要求不同，可直接應(yīng)用，也可單面粘結(jié)玻璃面組成偏光片使用，或者雙面均粘結(jié)玻璃面組成偏光片應(yīng)用。
權(quán)利要求
1.一種耐高溫高濕偏振片的生產(chǎn)方法，先將聚乙烯醇原料在水中浸泡后，加溫，使它們充分溶解，再加入適量碘，其混合溶解液倒在水平放置的光潔度較高的材料平面上，略干后，取向拉伸，再干燥后制得偏振片芯片，其特征在于a、配制處理液取硅溶膠用酸調(diào)至PH值為2-4的溶液待用；b、制作耐高溫高濕偏振片將配制好的處理液均勻涂覆在偏振片芯片的兩面，等處理液稍干后再在40℃至300℃的溫度進(jìn)行升溫干燥，取出自然晾干即為本發(fā)明的耐高溫高濕偏振片。
2.按權(quán)利要求1所述的耐高溫高濕偏振片的生產(chǎn)方法，其特征在于在配制處理液的工序中，若用強酸，應(yīng)用6％以下濃度的稀酸，以防止硅溶膠膠化，若用弱酸可直接使用。
3.按權(quán)利要求2所述的耐高溫高濕偏振片的生產(chǎn)方法，其特征在于最好采用濃度5％的鹽酸將硅溶膠調(diào)至PH值為2-4的溶液作為處理液。
4.按權(quán)利要求1所述的耐高溫高濕偏振片的生產(chǎn)方法，其特征在于偏振片芯片最好處于無水較軟狀態(tài)下進(jìn)行涂覆，如果偏振片芯片較硬，則應(yīng)將偏振片芯片浸泡在處理液中，待其稍軟后拎出則自然涂覆一層處理液，在涂覆過程中應(yīng)保證偏振片芯片的平面性。
5.按權(quán)利要求1所述的耐高溫高濕偏振片的生產(chǎn)方法，其特征在于升溫干燥工序最好分為兩段，第一段用40-140℃升溫干燥至偏振片退色，第二段用140-300℃溫度干燥。
6.按權(quán)利要求5所述的耐高溫高濕偏振片的生產(chǎn)方法，其特征在于干燥中最好采用紅外線干燥。
7.按權(quán)利要求1所述的耐高溫高濕偏振片的生產(chǎn)方法，其特征在于干燥結(jié)束時，稍冷卻后即可放置在水中浸泡，使偏振片芯片上的干燥后的處理液脫落，也可用超聲波或稀堿溶液清洗，使得偏振片芯片清晰透光，如果偏振片芯片色度太深，再用漂白粉處理至所需要色度。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種偏振光片的生產(chǎn)方法,它先將聚乙烯醇原料在水中浸泡后,加溫,使它們充分溶解,再加入適量碘,其混合溶解液倒在水平放置的光潔度較高的材料平面上,干燥后制得偏振片芯片,然后取硅溶膠用酸調(diào)至pH值為2—4的溶液待用;將配制好的處理液均勻涂覆在偏振片芯片的兩面,等處理液稍干后再在40℃至300℃的溫度進(jìn)行升溫干燥,取出自然晾干即為本發(fā)明的耐高溫高濕偏振片。
文檔編號G02B5/30GK1204061SQ98111328
公開日1999年1月6日 申請日期1998年6月1日 優(yōu)先權(quán)日1998年6月1日
發(fā)明者虞靈 申請人:虞靈