1.一種調(diào)節(jié)光束的系統(tǒng)，其特征在于，包括：反射鏡、面形檢測裝置、計算分析裝置和補(bǔ)償光發(fā)生裝置，其中：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述第一補(bǔ)償光用于將所述反射鏡的初始面形改變?yōu)榈谝幻嫘伟ǎ核龅谝谎a(bǔ)償光用于與所述入射光共同使所述反射鏡的表面的光學(xué)熱場勻化或所述補(bǔ)償光用于對所述反射鏡的局部區(qū)域加熱使所述反射鏡的局部區(qū)域產(chǎn)生熱形變。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項所述的系統(tǒng)，其特征在于，
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述系統(tǒng)還包括：環(huán)境控制裝置，其中：
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述計算分析裝置根據(jù)所述環(huán)境信息生成環(huán)境控制信息，所述環(huán)境控制信息指示對所述反射鏡所處的環(huán)境進(jìn)行改變，所述環(huán)境控制裝置根據(jù)所述環(huán)境控制信息改變所述反射鏡所處的環(huán)境。
7.根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述環(huán)境信息為所述反射鏡所處的溫度、濕度和真空度中的至少一項。
8.根據(jù)權(quán)利要求5至7中任一項所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述計算分析裝置，具體用于根據(jù)所述功率信息、所述位置信息、所述第一面形的信息和所述環(huán)境信息生成所述第二指示信息。
9.根據(jù)權(quán)利要求5至8中任一項所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述系統(tǒng)還包括：溫度檢測裝置，其中：
10.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述系統(tǒng)還包括：溫度檢測裝置，其中：
11.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述補(bǔ)償光發(fā)生裝置包括：第二光源、分光裝置、光源發(fā)生裝置和功率測量裝置，其中：
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述補(bǔ)償光發(fā)生裝置還包括：擴(kuò)束縮束裝置，所述擴(kuò)束縮束裝置位于所述第二光源與所述分光裝置之間，用于改變所述第一光束的光斑直徑。
13.根據(jù)權(quán)利要求11或12所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述補(bǔ)償光發(fā)生裝置還包括：測距裝置，所述測距裝置用于獲取所述位置信息。
14.根據(jù)權(quán)利要求1至13中任一項所述的系統(tǒng)，其特征在于，當(dāng)所述反射鏡處于真空環(huán)境時，所述系統(tǒng)還包括真空腔，所述真空腔包括舷窗，
15.根據(jù)權(quán)利要求1至14中任一項所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述系統(tǒng)還包括：整形模塊，所述整形模塊位于所述補(bǔ)償光發(fā)生裝置至所述反射鏡之間的光路上，用于對所述第一補(bǔ)償光進(jìn)行整形。