本實(shí)用新型涉及觸控技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種觸控基板及顯示裝置。

背景技術(shù)：

隨著顯示及觸控技術(shù)的發(fā)展，人們對(duì)觸摸屏的要求越來(lái)越高，更好的觸控性能深受廣大消費(fèi)者的喜愛(ài)。相對(duì)于電阻式觸摸屏，電容式觸摸屏具有反應(yīng)靈敏、不易磨損、只需一次校正或不需校正即可使用等優(yōu)點(diǎn)，并且電容技術(shù)在光損失和系統(tǒng)功耗上優(yōu)于電阻技術(shù)，而OGS (One Glass Solution，簡(jiǎn)稱一體化觸控)具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，輕、薄、透光性好等優(yōu)點(diǎn)，由于其省掉一片玻璃基板以及貼合工序，因此有利于降低生產(chǎn)成本、提高產(chǎn)品良率。

傳統(tǒng)的OGS觸控基板，包括襯底，襯底上具有觸控區(qū)、走線區(qū)和綁定區(qū)；觸控區(qū)設(shè)置有觸控結(jié)構(gòu)，走線區(qū)和綁定區(qū)設(shè)置有遮光層，走線區(qū)還設(shè)置有位于所述遮光層遠(yuǎn)離所述襯底一側(cè)且與觸控結(jié)構(gòu)中的觸控電極連接的走線，綁定區(qū)還設(shè)置有位于所述遮光層40遠(yuǎn)離所述襯底100一側(cè)且與所述走線一一對(duì)應(yīng)且電連接的走線端子31(如圖3所示)，所述走線端子31用于與FPC(Flexible Printed Circuit，簡(jiǎn)稱柔性線路板)進(jìn)行綁定。在此基礎(chǔ)上，為了消除觸控區(qū)的刻蝕紋，可在觸控結(jié)構(gòu)以及走線遠(yuǎn)離襯底100一側(cè)設(shè)置消影層50，通常采用 SiOxNy(氮氧化硅)作為消影層50的材料，而為了露出綁定區(qū)的走線端子31，需要用刻蝕膏將綁定區(qū)的消影層50刻蝕掉。

然而，刻蝕膏對(duì)綁定區(qū)的消影層50進(jìn)行刻蝕時(shí)，對(duì)遮光層40 也會(huì)產(chǎn)生影響，具體表現(xiàn)為：在長(zhǎng)期受到UV(ultraviolet，簡(jiǎn)稱紫外光)光照的情況下，刻蝕膏涂布范圍內(nèi)、且未被走線端子31覆蓋的遮光層40發(fā)生變性，如圖1所示，在可見(jiàn)光范圍內(nèi)，隨著UV光照時(shí)間的增加，刻蝕膏涂布范圍內(nèi)、且未被走線端子31覆蓋的遮光層 40的反射率逐漸增大，如圖2所示，在相同UV光照時(shí)間下，相對(duì)于沒(méi)有刻蝕膏作用的遮光層40，受到刻蝕膏作用的遮光層40透過(guò)率增大。由于刻蝕膏涂布范圍內(nèi)、且未被走線端子31覆蓋的遮光層40 的反射率和折射率都增大，導(dǎo)致其顏色變淡(如圖3所示)。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型的實(shí)施例提供一種觸控基板及顯示裝置，可以提高綁定區(qū)的遮光層的耐候性。

為達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型的實(shí)施例采用如下技術(shù)方案：

一方面，提供一種觸控基板，包括襯底，所述襯底包括觸控區(qū)和綁定區(qū)；所述觸控區(qū)設(shè)置有觸控結(jié)構(gòu)，所述綁定區(qū)設(shè)置有遮光層、以及與所述觸控結(jié)構(gòu)中的觸控電極電連接的走線端子；還包括覆蓋所述襯底的消影層；所述消影層位于所述綁定區(qū)的部分，設(shè)置在所述走線端子與所述襯底之間。

優(yōu)選的，所述消影層位于所述觸控區(qū)的部分，設(shè)置在所述襯底與所述觸控結(jié)構(gòu)之間。

優(yōu)選的，所述襯底還包括走線區(qū)，所述走線區(qū)設(shè)置有走線；所述觸控電極與所述走線端子通過(guò)所述走線電連接；其中，所述走線與所述觸控電極直接接觸；所述走線與所述走線端子通過(guò)一次構(gòu)圖工藝形成。

進(jìn)一步優(yōu)選的，觸控基板還包括設(shè)置在所述走線區(qū)，且位于所述走線遠(yuǎn)離所述襯底一側(cè)的涂覆保護(hù)層。

優(yōu)選的，所述消影層位于所述綁定區(qū)的部分，設(shè)置在所述遮光層與所述走線端子之間。

優(yōu)選的，所述觸控電極包括相互絕緣且交叉設(shè)置的第一觸控電極和第二觸控電極；所述第一觸控電極在與所述第二觸控電極交叉的區(qū)域通過(guò)搭橋電連接；所述搭橋與所述第二觸控電極通過(guò)絕緣塊隔離。

進(jìn)一步優(yōu)選的，走線、走線端子以及所述搭橋通過(guò)一次構(gòu)圖工藝形成。

優(yōu)選的，所述遮光層為黑色遮光層或白色遮光層。

另一方面，提供一種顯示裝置，包括顯示面板，以及設(shè)置在所述顯示面板出光側(cè)的觸控基板，所述觸控基板為第一方面所述的觸控基板。

本實(shí)用新型實(shí)施例提供一種觸控基板及顯示裝置，通過(guò)將消影層平鋪于襯底上，可無(wú)需采用刻蝕工藝，因而可簡(jiǎn)化工藝；在此基礎(chǔ)上，通過(guò)將消影層位于綁定區(qū)的部分，設(shè)置在走線端子與襯底之間，相對(duì)現(xiàn)有技術(shù)，無(wú)需為了露出走線端子，而使用刻蝕膏將綁定區(qū)的消影層刻蝕掉，因而，在長(zhǎng)期UV光照的情況下，不會(huì)由于綁定區(qū)的遮光層發(fā)生變性而導(dǎo)致顏色變淡，提高了綁定區(qū)的遮光層的耐候性。

附圖說(shuō)明

為了更清楚地說(shuō)明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅是本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為現(xiàn)有技術(shù)提供的受刻蝕膏作用的遮光層的反射率隨UV光照時(shí)間變化的曲線圖；

圖2為現(xiàn)有技術(shù)提供的在UV光照條件下兩種不同情況的遮光層的折射率對(duì)比圖；

圖3為現(xiàn)有技術(shù)提供的一種遮光層的顏色的變化圖；

圖4為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種觸控基板的俯視示意圖一；

圖5為圖4中A-A′向剖視示意圖一；

圖6為圖4中A-A′向剖視示意圖二；

圖7為圖4中B-B′向剖視示意圖；

圖8為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種觸控基板的俯視示意圖二；

圖9(a)為圖8中C-C′向剖視示意圖一；

圖9(b)為圖8中C-C′向剖視示意圖二。

附圖標(biāo)記：

01-觸控區(qū)；02-走線區(qū)；03-綁定區(qū)；10-觸控電極；11-第一觸控電極；12-第二觸控電極；13-搭橋；14-絕緣塊；21-走線；22-涂覆保護(hù)層；31-走線端子；40-遮光層；50-消影層；100-襯底。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。基于本實(shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。

本實(shí)用新型實(shí)施例提供一種觸控基板，如圖4-6所示，包括襯底100，襯底100包括觸控區(qū)01和綁定區(qū)03；觸控區(qū)01設(shè)置有觸控結(jié)構(gòu)，綁定區(qū) 03設(shè)置有遮光層40、以及與觸控結(jié)構(gòu)中的觸控電極10電連接的走線端子 31；還包括覆蓋襯底100的消影層50；消影層50位于綁定區(qū)03的部分，設(shè)置在走線端子31與襯底100之間。

需要說(shuō)明的是，第一，不對(duì)觸控結(jié)構(gòu)的具體結(jié)構(gòu)進(jìn)行限定，只要能實(shí)現(xiàn)觸控功能即可。圖1中觸控結(jié)構(gòu)僅為示意。

第二，觸控區(qū)01為當(dāng)所述觸控基板應(yīng)用于顯示裝置時(shí)，用于顯示畫面的區(qū)域。綁定區(qū)03為位于觸控區(qū)01的外圍，且用于走線端子31與 FPC進(jìn)行綁定的區(qū)域。

第三，消影層50覆蓋襯底100，即為消影層50平鋪于襯底100上，無(wú)需通過(guò)刻蝕工藝，只需通過(guò)成膜工藝形成即可。

第四，消影層50位于綁定區(qū)03的部分，可以設(shè)置在走線端子31與遮光層40之間(如圖5所示)，也可以設(shè)置在遮光層40與襯底100之間 (如圖6所示)。

其中，消影層50的材料可根據(jù)其相對(duì)觸控結(jié)構(gòu)的具體設(shè)置位置而定，只要能起到消除觸控區(qū)01的刻蝕紋即可。

本實(shí)用新型實(shí)施例提供一種觸控基板，通過(guò)將消影層50平鋪于襯底100上，可無(wú)需采用刻蝕工藝，因而可簡(jiǎn)化工藝；在此基礎(chǔ)上，通過(guò)將消影層50位于綁定區(qū)03的部分，設(shè)置在走線端子31與襯底100 之間，相對(duì)現(xiàn)有技術(shù)，無(wú)需為了露出走線端子31，而使用刻蝕膏將綁定區(qū)03的消影層50刻蝕掉，因而，在長(zhǎng)期UV光照的情況下，不會(huì)由于綁定區(qū)03的遮光層40發(fā)生變性而導(dǎo)致顏色變淡，提高了綁定區(qū)03的遮光層40的耐候性。

在此基礎(chǔ)上，優(yōu)選的，遮光層40的主體材料可以為甲基丙烯酸甲酯，任意顏色的遮光層40都可通過(guò)在聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA) 中加入相關(guān)化學(xué)物質(zhì)得到，例如黑色遮光層可在甲基丙烯酸甲酯中加入石墨得到。

優(yōu)選的，如圖7所示，消影層50位于觸控區(qū)01的部分，設(shè)置在襯底100與觸控結(jié)構(gòu)之間。

本實(shí)用新型實(shí)施例中，通過(guò)將消影層50設(shè)置在觸控結(jié)構(gòu)以及走線端子31下方，使得消影層50更為平坦，提高消影效果。

進(jìn)一步優(yōu)選的，消影層50的材料包括五氧化二鈮(Nb₂O₅)和二氧化硅(SiO₂)的混合物。

本實(shí)用新型實(shí)施例中，基于五氧化二鈮和二氧化硅的混合物的折射率，當(dāng)五氧化二鈮和二氧化硅的混合物作為消影層50材料，并設(shè)置在觸控結(jié)構(gòu)與襯底100之間時(shí)，可消除觸控區(qū)01的刻蝕紋。

優(yōu)選的，如圖4所示，襯底100還包括走線區(qū)02，走線區(qū)02設(shè)置有走線21；觸控電極10與走線端子31通過(guò)走線21電連接；其中，走線21與觸控電極10直接接觸；走線21與走線端子31通過(guò)一次構(gòu)圖工藝形成。

需要說(shuō)明的是，第一，走線區(qū)02為位于觸控區(qū)01的外圍，除去綁定區(qū)03的區(qū)域。

第二，走線端子31與走線21一一對(duì)應(yīng)。

本實(shí)用新型實(shí)施例中，無(wú)需在觸控電極10與走線21之間設(shè)置其他結(jié)構(gòu)層，簡(jiǎn)化工藝。

進(jìn)一步優(yōu)選的，如圖8、圖9(a)和9(b)所示，所述觸控基板還包括設(shè)置在走線區(qū)02，且位于走線21遠(yuǎn)離襯底100一側(cè)的涂覆保護(hù)層 22。

本實(shí)用新型實(shí)施例中，通過(guò)涂覆保護(hù)層22可對(duì)走線21進(jìn)行保護(hù)，避免受環(huán)境濕度影響對(duì)走線21造成腐蝕。

優(yōu)選的，如圖5所示，消影層50位于綁定區(qū)03的部分，設(shè)置在遮光層40與走線端子31之間。

本實(shí)用新型實(shí)施例中，在工藝制作過(guò)程中，通常先通過(guò)網(wǎng)印或鍍膜的方式在襯底100的走線區(qū)02和綁定區(qū)03形成遮光層40，再通過(guò)磁控濺射的方式形成消影層50，這種制作方式相對(duì)于先在襯底100 上形成消影層50，再在消影層50位于走線區(qū)02和綁定區(qū)03的部分、且遠(yuǎn)離襯底100的一側(cè)形成遮光層40，工藝流程更簡(jiǎn)單。

優(yōu)選的，如圖4和圖8所示，觸控電極10包括相互絕緣且交叉設(shè)置的第一觸控電極11和第二觸控電極12；第一觸控電極11在與第二觸控電極12交叉的區(qū)域通過(guò)搭橋13電連接；搭橋13與第二觸控電極12通過(guò)絕緣塊14隔離。

即，絕緣塊14設(shè)置于搭橋13與第二觸控電極12之間。

其中，第一觸控電極11和第二觸控電極12的材料均為透明導(dǎo)電材料，例如氧化銦錫(ITO)、銦鋅氧化物(IZO)等。第一觸控電極11和第二觸控電極12可以由多個(gè)菱形子電極連接構(gòu)成、多個(gè)條形子電極連接構(gòu)成、多個(gè)十字形子電極連接構(gòu)成或多個(gè)雪花型子電極連接構(gòu)成等。圖4和圖8以第一觸控電極11和第二觸控電極12均由多個(gè)菱形子電極連接構(gòu)成進(jìn)行示意。

需要說(shuō)明的是，不對(duì)搭橋13相對(duì)第二觸控電極12的位置進(jìn)行限定，搭橋13可以位于第二觸控電極12與襯底100之間，也可以設(shè)置在第二觸控電極12遠(yuǎn)離襯底100一側(cè)。

本實(shí)用新型實(shí)施例將第一觸控電極11在交叉區(qū)域通過(guò)搭橋13 電連接，搭橋13與第二觸控電極12通過(guò)絕緣塊14隔離得到觸控結(jié)構(gòu)，工藝成熟，觸控性能較好。

進(jìn)一步優(yōu)選的，走線21、走線端子31以及搭橋13通過(guò)一次構(gòu)圖工藝形成。

本實(shí)用新型實(shí)施例通過(guò)在形成搭橋13的同時(shí)形成走線21和走線端子31，可以避免構(gòu)圖工藝次數(shù)的增加，降低制備成本。

優(yōu)選的，遮光層40為黑色遮光層或白色遮光層。

本實(shí)用新型實(shí)施例中，由于黑色遮光層和白色遮光層實(shí)際應(yīng)用更廣泛，因此，相比于其他顏色的遮光層40，制備工藝更成熟。

本實(shí)用新型實(shí)施例還提供一種顯示裝置，包括顯示面板，以及設(shè)置在所述顯示面板出光側(cè)的觸控基板，所述觸控基板為本實(shí)用新型前述任一實(shí)施例的觸控基板。

需要說(shuō)明的是，所述顯示面板可以是液晶顯示面板，也可以是有機(jī)電致發(fā)光二極管(Organic Light Emitting Display，簡(jiǎn)稱OLED)。

當(dāng)顯示面板為液晶顯示面板時(shí)，其包括陣列基板、對(duì)盒基板以及設(shè)置在二者之間的液晶層。其中，陣列基板可以包括薄膜晶體管(Thin Film Transistor，簡(jiǎn)稱TFT)，與TFT的漏極電連接的像素電極；進(jìn)一步的還可以包括公共電極。對(duì)盒基板可以包括黑矩陣和彩膜。此處，彩膜可以設(shè)置在對(duì)盒基板上，也可設(shè)置在陣列基板上；公共電極可以設(shè)置在陣列基板上，也可設(shè)置在對(duì)盒基板上。

當(dāng)顯示面板為OLED顯示面板時(shí)，其包括陣列基板和封裝基板。其中，陣列基板可以包括TFT，與TFT的漏極電連接的陽(yáng)極、陰極、以及位于陽(yáng)極和陰極之間的有機(jī)材料功能層。

本實(shí)用新型實(shí)施例提供一種顯示裝置，通過(guò)在觸控基板上將消影層 50平鋪于襯底100上，可無(wú)需采用刻蝕工藝，因而可簡(jiǎn)化工藝；在此基礎(chǔ)上，通過(guò)將消影層50位于綁定區(qū)03的部分，設(shè)置在走線端子 31與襯底100之間，相對(duì)現(xiàn)有技術(shù)，無(wú)需為了露出走線端子31，而使用刻蝕膏將綁定區(qū)03的消影層50刻蝕掉，因而，在長(zhǎng)期UV光照的情況下，不會(huì)由于綁定區(qū)03的遮光層40發(fā)生變性而導(dǎo)致顏色變淡，提高了綁定區(qū)03的遮光層40的耐候性。

以上所述，僅為本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式，但本實(shí)用新型的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本實(shí)用新型揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本實(shí)用新型的保護(hù)范圍應(yīng)以所述權(quán)利要求的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。