本實(shí)用新型涉及液晶顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種掩膜板及曝光系統(tǒng)。

背景技術(shù)：

隨著液晶顯示技術(shù)的發(fā)展，大尺寸液晶顯示器將成為未來的發(fā)展方向，在制作液晶顯示器中的顯示基板時，所用到的掩膜板也隨之增大。

在現(xiàn)有技術(shù)中，通常采用接近式曝光工藝制作顯示基板，且在接近式曝光過程中，掩膜板與顯示基板之間具有一定的距離(稱為曝光間距)，由于曝光間距是微米級的，使得無法在掩膜板下面對其進(jìn)行支撐，支撐位置只能放在掩膜板邊緣位置處，這樣在重力作用下，掩膜板會呈現(xiàn)一定程度的中心下沉，使得掩膜板的膜面形成向待曝光基板凸起的弧面，導(dǎo)致入射光不再垂直照射到掩膜板面上，從而使得入射光出現(xiàn)折射而導(dǎo)致光路有一定偏離，這樣就會使得基板的曝光位置出現(xiàn)偏差，從而影響基板的曝光；且由于在重力作用下，掩膜板會呈現(xiàn)一定程度的中心下沉，使得掩膜板的曝光間距從中心到邊緣的差別可以達(dá)到幾十微米，進(jìn)而對產(chǎn)品尺寸的均一性造成影響。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型的目的在于提供一種掩膜板及曝光系統(tǒng)，解決接近式曝光過程中，掩膜板中心下沉，所導(dǎo)致的曝光位置偏差和曝光距離不均的問題。

為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案：

一種掩膜板，與被曝光基板相對設(shè)置，包括層疊設(shè)置的透光部和遮光部，所述透光部和所述遮光部均具有凸起，所述遮光部的凸起方向和所述透光部的凸起方向相同；

所述遮光部與所述被曝光基板相對設(shè)置，所述遮光部的凸起方向朝向所述透光部。

優(yōu)選的，所述透光部和所述遮光部在曝光方向上的截面為弧狀結(jié)構(gòu)。

較佳的，所述透光部的曲率和所述遮光部的曲率相同。

較佳的，曝光狀態(tài)時，所述透光部與被曝光基板基本相互平行，所述遮光部也與所述被曝光基板基本相互平行。

優(yōu)選的，所述透光部為透光基板，所述遮光部為金屬膜層。

可選的，所述透光基板的側(cè)壁加工有提供支撐面的斜面結(jié)構(gòu)。

較佳的，所述透光基板包括第一透光部和第二透光部，所述第二透光部的光入射面與所述第一透光部的光出射面相接觸；其中，所述第二透光部的光入射面與所述第二透光部的光出射面通過斜面結(jié)構(gòu)相連，所述第二透光部的光入射面的面積大于所述第二透光部的光出射面的面積。

一種曝光系統(tǒng)，包括上述的掩膜板所有特征。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型提供的掩膜板的有益效果如下：

本實(shí)用新型提供的掩膜板中，透光部和遮光部是層疊在一起的，透光部和遮光部均具有凸起，遮光部的凸起方向和透光部的凸起方向相同；遮光部朝向透光部凸起時，在接近式曝光狀態(tài)時，所述遮光部與基板相對，使得遮光部的凸起方向和透光部的凸起方向均與重力方向相反，因此，本實(shí)用新型提供的掩膜板在接近式曝光時，遮光部的凸起和透光部的凸起在重力的作用下，使得遮光部的凸起程度和透光部的凸起程度均相對減輕，這樣遮光部和透光部就趨近于與地面平行的平面狀態(tài)，使得入射光的光路接近理想光路，降低接近式曝光時曝光位置偏差和曝光距離不均發(fā)生的機(jī)率，因此，本實(shí)用新型提供的掩膜板能夠減少現(xiàn)有技術(shù)中在接近式曝光時，平面狀態(tài)的遮光部和透光部因重力作用發(fā)生的中心下沉現(xiàn)象，所導(dǎo)致的入射光出現(xiàn)折射而導(dǎo)致光路偏離和曝光距離不均的問題。

本發(fā)明還提供了一種曝光系統(tǒng)，包括上述技術(shù)中的掩膜板。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明提供的曝光系統(tǒng)的有益效果與上述技術(shù)方案提供的掩膜板的有益效果相同，在此不做贅述。

附圖說明

此處所說明的附圖用來提供對本實(shí)用新型的進(jìn)一步理解，構(gòu)成本實(shí)用新型的一部分，本實(shí)用新型的示意性實(shí)施例及其說明用于解釋本實(shí)用新型，并不構(gòu)成對本實(shí)用新型的不當(dāng)限定。在附圖中：

圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例中提供的掩膜板的整體結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例中掩膜板的透光部的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為本實(shí)用新型實(shí)施例中接近式曝光狀態(tài)時掩膜板所處的狀態(tài)示意圖；

圖4為接近式曝光狀態(tài)時透光基板所處的狀態(tài)示意圖。

附圖標(biāo)記：

1-透光部， 11-第一透光部；

12-第二透光部， 2-遮光部；

3-被曝光基板， 4-邊緣支撐。

具體實(shí)施方式

為了進(jìn)一步說明本實(shí)用新型實(shí)施例提供的掩膜板及曝光系統(tǒng)，下面結(jié)合說明書附圖進(jìn)行詳細(xì)描述。

實(shí)施例一

請參閱圖1和圖3，本實(shí)用新型實(shí)施例提供的掩膜板，與被曝光基板相對設(shè)置，包括層疊設(shè)置的透光部1和遮光部2，透光部1和遮光部2均具有凸起，遮光部2的凸起方向和透光部1的凸起方向相同；遮光部2的凸起朝向透光部1。

在接近式曝光狀態(tài)時，遮光部2與被曝光基板3相對，即掩膜板的遮光部2靠近與地面平行的被曝光基板3，使得遮光部2的凸起方向和透光部1的凸起方向均與重力方向相反，透光部1的凸起和遮光部2的凸起在重力的作用下，使得透光部1的凸起程度和遮光部2的凸起程度均相對減輕，這樣透光部1和遮光部2就趨近于與地面平行的平面狀態(tài)，使得入射光的光路接近理想光路，降低接近式曝光時曝光位置偏差和曝光距離不均發(fā)生的機(jī)率，因此，本實(shí)用新型提供的掩膜板能夠減少現(xiàn)有技術(shù)中在接近式曝光時，平面狀態(tài)的透光部1和遮光部2因重力作用發(fā)生的中心下沉現(xiàn)象，所導(dǎo)致的入射光出現(xiàn)折射而導(dǎo)致光路偏離和曝光距離不均的問題。

考慮到接近式曝光狀態(tài)下，現(xiàn)有技術(shù)中掩膜板在重力的作用下，掩膜板的中心會發(fā)生與重力方向相同的下沉現(xiàn)象，而產(chǎn)生弧狀形變，因此，請參閱圖1-圖3，本實(shí)施例中的透光部1和遮光部2在曝光方向上的截面均為弧狀結(jié)構(gòu)，使得在接近式曝光狀態(tài)時，在重力的作用下，通過透光部1和遮光部2的弧狀的結(jié)構(gòu)抵消因為重力作用給透光部1和遮光部2帶來的弧狀形變，這樣不僅能夠使得本實(shí)施例的掩膜板在接近式曝光狀態(tài)時保持水平狀態(tài)，還能夠提供給入射光更為接近理想狀態(tài)的光路。

值得注意的是，上述實(shí)施例中的透光部1和遮光部2設(shè)置為相同的曲率，將透光部1和遮光部2設(shè)置為相同的曲率，使得在重力的作用下，透光部1的凸起和遮光部2的凸起變化的程度一致，避免了因透光部1的和遮光部2的變化程度不一致而產(chǎn)生的復(fù)雜折射光路，從而減小光路偏差所帶來的曝光位置不準(zhǔn)確的問題。

需要注意的是，請參閱圖3，接近式曝光狀態(tài)時，透光部1與被曝光基板3相互平行，遮光部2也與被曝光基板3相互平行，此時，在接近式曝光狀態(tài)時，入射光可以呈現(xiàn)出理想的光路狀態(tài)，進(jìn)而徹底避免了光路偏差的問題，曝光間距不均的現(xiàn)象也不存在了。

另外，接近式曝光狀態(tài)時，透光部1與被曝光基板3基本相互平行，遮光部2也與被曝光基板3基本相互平行，也能夠間接的限定沒有處在接近式曝光狀態(tài)時，透光部1的曲率和遮光部2的曲率。

本實(shí)施例中提供的掩膜板中，還可以采用如下方式確定透光部1的曲率和遮光部2的曲率：

步驟1，將板狀的透光基板的邊緣進(jìn)行支撐，使其位于如圖4所示的位置，待板狀的透光基板在重力的作用下形成弧面的曲率不再發(fā)生變化后，測量板狀的透光基板由于重力所致的中心下沉所形成弧面的曲率；

步驟2，將該曲率作為透光基板的參考曲率，對該板狀的透光基板的兩個面進(jìn)行打磨，使得透光基板的光入射面打磨成凸起的弧面，透光基板的光出射面打磨成凹陷的弧面；其中，透光基板的光入射面的曲率和透光基板的光出射面的曲率均等于參考曲率；

步驟3，將打磨好的透光基板的邊緣進(jìn)行支撐，使其位于如圖4所示的位置，且打磨好的透光基板的光出射面朝向地面；此時，在重力作用下，透光基板的中心開始下沉，當(dāng)透光基板的中心不再下沉?xí)r，測量此時透光基板的光出射面的曲率和透光基板的光入射面的曲率，如果光出射面的曲率和光入射面的曲率均為零，說明完成打磨，則將遮光面的金屬層鍍制在透光基板的光出射面；如果光出射面的曲率和/或光入射面的曲率不等于為零，則說明未完成打磨，并返回至步驟1。

可以理解的是，本實(shí)施例提供的掩膜板中，透光部1為透光基板，通常由玻璃制成，也可由其他的透光材料制成；遮光部2為金屬膜層，該金屬膜層為圖案化的膜層，該金屬膜層的材料為不透光的金屬材料，通常由鉻或者氧化鉻制成。

另外，請參閱圖3，為了能夠使得掩膜板在接近式曝光時更加穩(wěn)固，本實(shí)施例中將透光基板的側(cè)壁加工有提供支撐面的斜面結(jié)構(gòu)，當(dāng)接近式曝光狀態(tài)時，該斜面結(jié)構(gòu)能夠分別與曝光裝置中的邊緣支撐4相配合，使得掩膜板能夠更加穩(wěn)固地位于被曝光基板3的上方。

具體的，請參閱圖2，本實(shí)施例中的透光基板包括第一透光部11和第二透光部12，第二透光部12的光入射面與第一透光部11的光出射面相接觸；其中，第二透光部12的光入射面與第二透光部12的光出射面通過斜面結(jié)構(gòu)相連，第二透光部12的光入射面的面積大于第二透光部12的光出射面的面積。通過限定斜面結(jié)構(gòu)加工的位置，使得該斜面結(jié)構(gòu)能夠連接第二透光部12的光入射面與第二透光部12的光出射面，由于第二透光部12的光入射面的面積大于第二透光部12的光出射面的面積，因此，接近式曝光狀態(tài)時，斜面結(jié)構(gòu)所在的斜面與被曝光基板3所在平面的夾角α為銳角，在這種條件下，第二透光部12的斜面結(jié)構(gòu)分別與曝光裝置中的邊緣支撐4相配合，斜面結(jié)構(gòu)能夠更加穩(wěn)固地與邊緣支撐4相配合，以更好的支撐掩膜板；

其中，斜面結(jié)構(gòu)所在的斜面與被曝光基板3所在平面的夾角α為銳角，所夾銳角為25°～45°時，達(dá)到最佳支撐效果。

實(shí)施例二

請參閱圖1-圖3，本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種曝光系統(tǒng)，包括上述實(shí)施例提供的掩膜板。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明實(shí)施例提供的曝光系統(tǒng)的有益效果與上述技術(shù)方案提供的掩膜板的有益效果相同，在此不做贅述。

在上述實(shí)施方式的描述中，具體特征、結(jié)構(gòu)、材料或者特點(diǎn)可以在任何的一個或多個實(shí)施例或示例中以合適的方式結(jié)合。

以上所述，僅為本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式，但本實(shí)用新型的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本實(shí)用新型揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本實(shí)用新型的保護(hù)范圍應(yīng)以所述權(quán)利要求的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。