本發(fā)明涉及顯示技術領域，具體涉及一種光配向裝置及其去除光配向雜質的組件和方法。

背景技術：

在lcd(liquidcrystaldisplay,液晶顯示裝置)的制造過程中需要對液晶進行配向制程，控制液晶分子在lcd中的初始排列方式，從而精確控制液晶分子在lcd顯示過程中的排列方式，以實現(xiàn)顯示效果。現(xiàn)有的配向制程一般采用光配向方法。結合圖1所示，光源11發(fā)出的光經(jīng)過濾光片12和偏光片13后變?yōu)榫€偏極紫外光，線偏極紫外光照射到具有感光劑的配向膜14時，配向膜14的部分分子鏈斷裂，從而產生小分子雜質15。這些雜質15會在lcd顯示時形成異物型亮點，影響lcd的顯示品質。為了避免這些雜質15進入lcd內部，現(xiàn)有技術一般在偏光片13和配向膜14之間設置一透光玻璃16，但是隨著透光玻璃16上聚集的雜質15越來越多，透光玻璃16的光穿透率越來越低，勢必會影響光配向品質。

技術實現(xiàn)要素：

鑒于此，本發(fā)明提供一種光配向裝置及其去除光配向雜質的組件和方法，能夠去除光配向過程中配向膜產生的雜質，確保光配向品質。

本發(fā)明一實施例的去除光配向雜質的組件，包括除塵機構，所述除塵機構的內部設置有輸氣管道，輸氣管道的一端間隔設置于配向膜的上方，除塵機構用于在負壓差的作用下將光配向雜質吸入輸氣管道內。

本發(fā)明一實施例的光配向裝置，包括上述去除光配向雜質的組件。

本發(fā)明一實施例的去除光配向雜質的方法，包括：

將除塵機構設置于配向膜的上方，使得除塵機構內部設置的輸氣管道的一端間隔設置于配向膜的上方；

除塵機構在負壓差的作用下將光配向雜質吸入輸氣管道內。

有益效果：本發(fā)明通過除塵機構將光配向雜質吸入輸氣管道內，能夠去除光配向過程中配向膜產生的雜質，并且避免這些雜質在線偏極紫外光的照射方向上聚集，從而確保光配向品質。

附圖說明

圖1是現(xiàn)有技術的光配向裝置的結構剖示圖；

圖2是本發(fā)明一實施例的光配向裝置的結構剖示圖；

圖3是本發(fā)明另一實施例的光配向裝置的結構剖示圖；

圖4是本發(fā)明去除光配向雜質的方法一實施例的流程示意圖。

具體實施方式

下面將結合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明所提供的各個示例性的實施例的技術方案進行清楚、完整地描述。在不沖突的情況下，下述各個實施例及其技術特征可以相互組合。

請參閱圖2，為本發(fā)明一實施例的光配向裝置。所述光配向裝置20可以包括反光板21、光源22、濾光片23、偏光片24、配向膜25以及去除光配向雜質的組件26。

光源22可用于發(fā)出紫外光。

反光板21用于對遠離配向膜25的紫外光進行反射，使得紫外光經(jīng)過反射后照向配向膜25，提高紫外光利用率。

濾光片23設置于光源22的下方，用于調整紫外光的波長，使得預定波長(例如200～500納米)的紫外光進入偏光片24。

偏光片24設置于濾光片23的下方，偏光片24用于獲取線偏極紫外光，以基于ips(in-planeswitching,橫向電場效應顯示)技術和ffs(fringefieldswitching,邊緣場開關)技術的光配向制程為例，偏光片24僅允許平行于偏光片24的紫外光通過。

配向膜25包括高分子聚合物，例如pi(polyimide,聚酰亞胺)，高分子聚合物被線偏極紫外光照射之后會形成長鍵分子，使得配向膜25具有異方性，液晶分子會沿著長鍵分子方向排列，從而實現(xiàn)光配向。

所述去除光配向雜質的組件(下文簡稱組件)26可以包括除塵機構261和集塵機構262。除塵機構261的內部設置有兩端開口的輸氣管道，輸氣管道的一端間隔設置于配向膜25的上方。集塵機構262的內部設置有存儲空間，該存儲空間與輸氣管道的另一端連通。

在光配向制程中，光源22發(fā)出的紫外光經(jīng)過濾光片23和偏光片24之后變?yōu)榫€偏極紫外光，線偏極紫外光照射到具有感光劑的配向膜25之后，配向膜25中的部分分子鏈斷裂，從而產生小分子雜質，這些小分子雜質可稱為光配向雜質27。此時，除塵機構261在負壓差的作用下將光配向雜質27吸入輸氣管道內，而后，光配向雜質27從輸氣管道的另一端進入集塵機構262的存儲空間。

在本發(fā)明一實施例中，除塵機構261的內部可以設置有風機葉輪和電動機。在電動機的高速驅動下，風機葉輪的葉片不斷對空氣做功，使得葉片對應區(qū)域中的空氣以極高的速度從輸氣管道的另一端(風機葉輪的后端)排出，使得輸氣管道內部形成瞬時真空，同時輸氣管道的一端(風機葉輪的前端)的空氣不斷地補充入葉輪中，輸氣管道的內部與外界大氣壓形成一個相當高的負壓差。在此負壓差的作用下，位于輸氣管道的一端處的光配向雜質27隨氣流進入輸氣管道，而后在集塵機構262內部經(jīng)過過濾器，光配向雜質27留在集塵機構262的存儲空間內，而空氣經(jīng)過濾后排出。

基于上述，本實施例的組件26能夠去除光配向制程中配向膜25產生的光配向雜質27，避免光配向雜質27在線偏極紫外光的照射方向上聚集，確保紫外光的利用率，從而確保光配向品質。

請參閱圖3，為本發(fā)明另一實施例的光配向裝置。所述光配向裝置30可以包括反光板31、光源32、濾光片33、偏光片34、配向膜35以及去除光配向雜質的組件36。其中，除去除光配向雜質的組件36之外，光配向裝置30的各個結構元件可以與上述光配向裝置20的相同，光配向裝置30的各個結構元件的作用可參閱上述，此處不再贅述。

與圖2所示實施例不同的是，本實施例的去除光配向雜質的組件36不僅包括除塵機構361和集塵機構362，還包括光感應器363以及與除塵機構361連接的移動機構364。

在光配向制程中，光感應器363用于檢測配向膜35是否被紫外光照射。在光感應器363檢測到配向膜35被紫外光照射時，移動機構364用于控制除塵機構361移動，具體地，移動機構364可以為電動馬達，其控制除塵機構361在配向膜35的上方沿平行于配向膜35的方向移動，與此同時，除塵機構361內部輸氣管道的一端沿平行于配向膜35的方向移動，從而能夠及時的去除光配向雜質37。

進一步地，除塵機構361可以在輸氣管道的一端設置控制元件365，該控制元件365與光感應器363連接，并用于根據(jù)光感應器363的檢測結果控制輸氣管道的導通和截止。其中，當光感應器363檢測到配向膜35未被紫外光照射時，控制元件365可以控制輸氣管道截止，移動機構364控制除塵機構361不移動，除塵機構361內部的電動機和風機葉輪停止運行；當光感應器363檢測到配向膜35被紫外光照射時，控制元件365控制輸氣管道導通，移動機構364控制除塵機構361移動。

在除塵機構361的移動過程中，為了避免除塵機構261因各種晃動撞向配向膜25、吸入配向膜25中的pi等影響光配向品質的因素，本實施例設置除塵機構261(的輸氣管道的一端)與配向膜35之間具有預定距離，例如，該預定距離可以為5～400毫米。

請參閱圖4，為本發(fā)明一實施例的去除光配向雜質的方法。所述去除光配向雜質的方法可以包括步驟s41～s42。

s41：將除塵機構設置于配向膜的上方，使得除塵機構內部設置的輸氣管道的一端間隔設置于配向膜的上方。

s42：除塵機構在負壓差的作用下將光配向雜質吸入輸氣管道內。

在光配向制程之前，除塵機構可以連接有集塵機構，該集塵機構與輸氣管道的另一端連通。在光配向制程中，光配向雜質27從輸氣管道的另一端進入集塵機構262的存儲空間。

另外，除塵機構還可以連接有移動機構，移動機構連接有光感應器。在步驟s42之前，光感應器檢測配向膜是否被紫外光照射。若光感應器檢測到配向膜被紫外光照射，則在執(zhí)行步驟s42的同時，移動機構控制除塵機構移動，使得輸氣管道的一端沿平行于配向膜的方向移動。

其中，除塵機構的在輸氣管道的一端可以設置控制元件，該控制元件與光感應器連接，根據(jù)光感應器的檢測結果，控制元件控制輸氣管道的導通和截止。具體地，當光感應器檢測到配向膜未被紫外光照射時，控制元件可以控制輸氣管道截止，移動機構控制除塵機構不移動，除塵機構停止吸入光配向雜質；當光感應器檢測到配向膜被紫外光照射時，控制元件控制輸氣管道導通，除塵機構吸入光配向雜質，移動機構控制除塵機構移動。

本實施例的方法可以基于上述去除光配向雜質的組件20、30，因此具有與其相同的有益效果。

以上所述僅為本發(fā)明的實施例，并非因此限制本發(fā)明的專利范圍，凡是利用本發(fā)明說明書及附圖內容所作的等效結構或等效流程變換，例如各實施例之間技術特征的相互結合，或直接或間接運用在其他相關的技術領域，均同理包括在本發(fā)明的專利保護范圍內。