本發(fā)明屬于光刻技術(shù)領(lǐng)域，涉及一種剝離液，具體涉及一種光刻膠剝離液。

背景技術(shù)：

電子行業(yè)飛速發(fā)展，光刻膠應(yīng)用也越來越廣泛。在半導(dǎo)體元器件制造過程中，經(jīng)過涂敷-顯影-蝕刻過程，在底層金屬材料上蝕刻出所需線條之后，必須在除去殘余光刻膠的同時(shí)不能損傷任何基材，才能再進(jìn)行下道工序。因此，光刻膠的剝離質(zhì)量也直接影響著產(chǎn)品的質(zhì)量。

目前的光刻膠剝離液一般以堿(有機(jī)堿、無機(jī)堿)、極性有機(jī)溶劑、緩蝕劑和/或水組成。常規(guī)的水系剝離液所用的堿包含無機(jī)堿，如naoh，koh的2～6％溶液，具有堿性強(qiáng)，剝離速度快等優(yōu)點(diǎn)。但會(huì)嚴(yán)重侵蝕金屬基材，使金屬線條發(fā)生腐蝕斷裂。其次，naoh，koh做剝離液使用時(shí)，雖然能使光刻膠從基板剝落，但卻不能很好地溶解掉，剝離后的膜渣過大，難以過濾，在循環(huán)使用時(shí)就會(huì)堵塞管路。例如專利cn105116696a就公開了一種水系光刻膠剝離液，其組成是無機(jī)堿、有機(jī)堿、有機(jī)溶劑、緩蝕劑、堿金屬鹽、高分子聚合物、螯合劑和去離子水。室溫下為均一溶液，在使用溫度下溶液會(huì)分層，依靠循環(huán)泵將剝離下來的膠膜抽走，雖不會(huì)堵塞管路，但在高溫、強(qiáng)堿條件下，對(duì)金屬基材的侵蝕太嚴(yán)重。又例如專利cn104570628a公開了一種低刻蝕的光刻膠剝離液，包含季胺氫氧化物、醇胺、溶劑、帶有顏料吸附基團(tuán)的星型共聚物和特定結(jié)構(gòu)的硅烷。其原料難得，經(jīng)濟(jì)性不強(qiáng)。

因此，本領(lǐng)域需要一種剝離效果好、不損傷基材、制備簡單、使用方便的光刻膠剝離液。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的是為了克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，旨在提供一種光刻膠剝離液，其對(duì)于鉬(mo)、銅(cu)、鋁(al)布線以及其他金屬布線的防腐蝕性優(yōu)良、剝離效果好、使用壽命長；此外，其制備簡單，操作方便。

為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供如下技術(shù)方案：

一種光刻膠剝離液，其特征在于，由有機(jī)胺、極性有機(jī)溶劑和添加劑組成，其中，各種成份的重量百分比為：

有機(jī)胺1至10wt％；

極性有機(jī)溶劑85至98.9wt％；

添加劑0.1至5wt％。

進(jìn)一步地，其中，所述有機(jī)胺包括醇胺。

更進(jìn)一步地，其中，所述醇胺為選自一乙醇胺、二乙醇胺、n-甲基二乙醇胺、n,n-二甲基乙醇胺、三乙醇胺、異丙醇胺、二異丙醇胺、三異丙醇胺中的至少一種。

此外，其中，所述極性有機(jī)溶劑為選自酰胺類和醇醚類中的至少一種。

進(jìn)一步地，其中，所述酰胺類為選自n-甲基甲酰胺、n,n-二甲基甲酰胺、n-甲基吡咯烷酮中的至少一種。

更進(jìn)一步地，其中，所述醇醚類為選自乙二醇單丁醚、乙二醇乙醚、二乙二醇乙醚、二乙二醇甲醚、二乙二醇丁醚、二甘醇二甲醚、三乙二醇丁醚中的至少一種。

另一方面，其中，所述添加劑包括唑類化合物。

進(jìn)一步地，其中，所述唑類化合物為選自苯并三氮唑、2-巰基苯并噻唑、甲基苯并三氮唑、氯化三苯基四唑、2,5-二巰基噻二唑、咪唑、吡唑、氨基四唑中的至少一種。

與現(xiàn)有的光刻膠剝離液相比，本發(fā)明的光刻膠剝離液具有如下有益技術(shù)效果：

1、其制備簡單，剝離效果好。

2、其對(duì)于鉬(mo)、銅(cu)、鋁(al)布線以及其他金屬布線的防腐蝕性優(yōu)良。

3、其使用壽命長。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)一步說明，實(shí)施例的內(nèi)容不作為對(duì)本發(fā)明的保護(hù)范圍的限制。

一般來說，目前的光刻膠剝離液都是由堿(有機(jī)堿、無機(jī)堿)、極性有機(jī)溶劑、添加劑和/或水組成。在該體系中，堿對(duì)光刻膠的溶解剝離起著主要作用，堿的含量也直接影響著光刻膠的剝離效果。無機(jī)堿在大多數(shù)有機(jī)溶劑中溶解性極差，選擇特定的有機(jī)溶劑又會(huì)造成光刻膠的剝離效果不好，且無機(jī)堿的水溶液又會(huì)嚴(yán)重侵蝕金屬層，影響剝離質(zhì)量。因此，本發(fā)明選用有機(jī)胺與極性有機(jī)溶劑配合，根據(jù)“極性相似相溶”原則，二者之間兼容性很好，保證了剝離質(zhì)量。同樣的，經(jīng)過大量實(shí)驗(yàn)發(fā)現(xiàn)，兩種或兩種以上的有機(jī)胺與極性有機(jī)溶劑配合使用，會(huì)有更好的剝離效果，而添加劑的作用就是為了不腐蝕金屬布線。

因此，本發(fā)明的光刻膠剝離液由有機(jī)胺、極性有機(jī)溶劑及添加劑組成。其中，有機(jī)胺選自mea、dea、mdea、ipa、dipa、n,n-二甲基乙醇胺、三乙醇胺、三異丙醇胺中的至少一種。

有機(jī)溶劑無限制，優(yōu)選為極性有機(jī)溶劑。更優(yōu)選為醇醚類與酰胺類。添加劑優(yōu)選含氮化合物，與有機(jī)胺及有機(jī)溶劑配合，既不會(huì)腐蝕金屬布線，又不會(huì)影響剝離效果。

而且本發(fā)明為非水系光刻膠剝離液，相對(duì)于水的易揮發(fā)，非水系光刻膠剝離液性能會(huì)更穩(wěn)定，使用壽命會(huì)更長。

在本發(fā)明的光刻膠剝離液中，所使用的醇胺的例子包括一乙醇胺(monoethanolamine，mea)，二乙醇胺(diethanolamine，dea)，n-甲基二乙醇胺(n-methyldiethanolamine，mdea)、n,n-二甲基乙醇胺(n,n-dimethylethanolamine)、三乙醇胺(triethanolamine，tea)、異丙醇胺(iso-propanolamine,ipa)二異丙醇胺(diisopropanolamine，dipa)、三異丙醇胺(triisopropanolamine)、以及其混合物。同時(shí)，在本發(fā)明中，醇胺的比例以光刻膠剝離液的總重計(jì)，占1至10重量％(wt％)。

再者，本發(fā)明所使用的極性有機(jī)溶劑無限制，優(yōu)選為酰胺類與醇醚類的至少一種。并且，所述酰胺類可選自n-甲基甲酰胺(n-methylformamide，nmf)、n,n-二甲基甲酰胺(n,n-dimethylformamide，dmf)、n-甲基吡咯烷酮(n-methylpyrrolidone，nmp)，此類物質(zhì)對(duì)于光刻膠的剝離也有一定促進(jìn)作用。

醇醚類包括乙二醇單丁醚(ethyleneglycolmonobutylether)、乙二醇乙醚(ethyleneglycolmonomethylether)、二乙二醇乙醚(diethyleneglycoldiethylether)、二乙二醇甲醚(diethyleneglycolmonomethylether)、二乙二醇丁醚(diethyleneglycolmonobutylether，dgbe)、二甘醇二甲醚(diethyleneglycoldimethylether)、三乙二醇丁醚(triethyleneglycolmonobuthylether)以及其混合物。

同時(shí)，其中，極性有機(jī)溶劑的比例以光刻膠剝離液的總重計(jì)，占85至98.9重量％(wt％)。

此外，本發(fā)明所使用的添加劑包括含氮化合物，優(yōu)選唑類化合物(azole)。而唑類化合物的例子包括苯并三氮唑(benzotriazole，bta)、2-巰基苯并噻唑(2-mercaptobenzothiazole，mbt)、甲基苯并三氮唑(tolyltriazole,tta)、氯化三苯基四唑(triphenyltetrazoliumchloride,ttc)、2,5-二巰基噻二唑(2,5-dimercapto-1,3,4-thiadiazole，dmtda)、咪唑、吡唑、氨基四唑(aminotetrazole)、以及其混合物。同時(shí)，含氮化合物的比例以光刻膠剝離液的總重計(jì)，占0.1至5重量％(wt％)。

本發(fā)明提供的光刻膠剝離液制備方法簡單，只需在室溫下將相應(yīng)重量份的各種組分混合均勻即可。

同時(shí)，本發(fā)明的光刻膠剝離液在40-55℃使用溫度下剝離效果好，同時(shí)不腐蝕鉬(mo)、銅(cu)、鋁(al)布線以及其他金屬布線。具體使用方法為：將ito玻璃在光刻膠剝離液中浸泡合適的時(shí)間，比如1-2分鐘，取出漂洗后，用高純氮?dú)獯蹈杉纯伞?/p>

下面，通過一些實(shí)施例來進(jìn)一步詳細(xì)說明本發(fā)明，但本發(fā)明并不限于下列實(shí)施例中的實(shí)施例。

其中，○：清洗效果好，沒有損傷基材；×：光刻膠清除不干凈；△：損傷基材。

由上述實(shí)施例可知，采用本發(fā)明的原料及其重量百分比的光刻膠剝離液，其光刻膠清除效果好，且不損傷基材。

本發(fā)明的上述實(shí)施例僅僅是為清楚地說明本發(fā)明所作的舉例，而并非是對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式的限定。對(duì)于所屬領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在上述說明的基礎(chǔ)上還可以做出其它不同形式的變化或變動(dòng)。這里無法對(duì)所有的實(shí)施方式予以窮舉。凡是屬于本發(fā)明的技術(shù)方案所引伸出的顯而易見的變化或變動(dòng)仍處于本發(fā)明的保護(hù)范圍之列。