技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開了一種曝光設(shè)備與曝光方法。曝光設(shè)備包括光源單元、光線處理單元、第一反射單元與第二反射單元。所述光源單元用于沿第一方向出射第一光線并形成第一光路。所述第一反射單元設(shè)置于第一光路上用于接收第一光線并反射至沿第二方向傳輸?shù)牡诙饩€，所述第二光線用于針對第一元件進行曝光，所述第二方向不同于第一方向。所述第二反射單元與所述第一反射單元間隔第一距離設(shè)置于所述第一光路上，用于自所述第一反射單元接收沿第一方向輸出第一光線，并且反射至第二方向形成第三光線，所述第三光線用于針對第二元件進行曝光。

技術(shù)研發(fā)人員：沈順杰;宋江江
受保護的技術(shù)使用者：武漢華星光電技術(shù)有限公司
技術(shù)研發(fā)日：2017.04.18
技術(shù)公布日：2017.08.18