本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種針對(duì)觸控或者顯示用基板曝光的接近式曝光設(shè)備。

背景技術(shù)：

顯示設(shè)備已廣泛地應(yīng)用于各領(lǐng)域中，而在現(xiàn)有的顯示設(shè)備中所采用的顯示面板在制作時(shí)均需要采用曝光設(shè)備對(duì)設(shè)置于基板上的層結(jié)構(gòu)進(jìn)行曝光處理。所采用的曝光設(shè)備通常為接近式曝光設(shè)備。具體地，利用接近式曝光設(shè)備在基板上曝光形成預(yù)定圖案。

隨著顯示面板的分辨率與尺寸的提高，導(dǎo)致顯示面板中像素單元的數(shù)量較大，從而使得顯示面板的制作時(shí)間延長，然而，現(xiàn)有的接近式曝光設(shè)備每次僅能夠針對(duì)一個(gè)基板進(jìn)行曝光，導(dǎo)致曝光效率較小，從而無法滿足顯示面板生產(chǎn)需求。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

為解決前述問題，本發(fā)明提供一種曝光效率較高的曝光設(shè)備。

進(jìn)一步，提供一種曝光效率較高的曝光方法。

一種曝光設(shè)備，包括光源單元、第一反射單元以及第二反射單元。所述光源單元用于沿第一方向出射第一光線并形成第一光路。所述第一反射單元設(shè)置于第一光路上，用于所述第一光線并反射至沿第二方向傳輸?shù)牡诙饩€，所述第二光線用于針對(duì)第一元件進(jìn)行曝光，所述第二方向不同于所述第一方向。所述第二反射單元與所述第一反射單元間隔第一距離設(shè)置于所述第一光路上，用于自所述第一反射單元接收沿第一方向輸出的所述第一光線，并且反射至所述第二方向形成第三光線，所述第三光線用于針對(duì)第二元件進(jìn)行曝光。

一種曝光方法，包括步驟：

沿第一方向出射第一光線，并形成第一光路；

反射所述第一光線至第二方向，并且形成第一光線，所述第二光線用于針對(duì)第一元件進(jìn)行曝光，所述第二方向不同于第一方向；

在第一方向間隔第一距離反射所述第一光線至所述第二方向，形成沿所述第二方向傳輸?shù)牡谌饩€，所述第三光線用于針對(duì)第二元件進(jìn)行曝光。

相較于現(xiàn)有技術(shù)，曝光設(shè)備能夠同時(shí)針對(duì)兩個(gè)待曝光的元件進(jìn)行曝光處理，有效提升了曝光效率。

進(jìn)一步，由于曝光設(shè)備中具有兩個(gè)相互的曝光光路，因此在兩個(gè)曝光光路設(shè)置相同或者不同的圖案的掩膜，從而能夠同時(shí)曝光不同圖案的元件。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為本發(fā)明一實(shí)施例中曝光設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2為本發(fā)明一變更實(shí)施例中第一反射單元的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖3為如圖1所示曝光設(shè)備的曝光方法流程圖。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖，對(duì)本發(fā)明的基板承載裝置作詳細(xì)說明。

請(qǐng)參閱圖1，其為本發(fā)明一實(shí)施例中曝光設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖。如圖1所示，曝光設(shè)備10包括光源單元11、光線處理單元12、第一反射單元13、第二反射單元14、第一透光元件15以及第二透光元件16。

光源單元11沿著第一方向x出射曝光用的光線，并在第一方向形成第一光路l1。其中，光線處理單元12、第一反射單元13以及第二反射單元14間隔預(yù)定距離依次設(shè)置于第一光路l1上。其中，光線處理單元12設(shè)置于第一光路l1上，用于針對(duì)光源單元11出射的光線進(jìn)行均勻化處理，第一反射單元13與第二反射單元14間隔第一距離。

第一反射單元13用于接收經(jīng)光線處理單元12均勻化處理后的第一光線，并將其反射至沿第二方向y傳輸?shù)牡诙饩€，并且構(gòu)成第二光路l2。其中，所述第二光線用于針對(duì)第一元件p1進(jìn)行曝光，所述第二方向x不同于第一方向y。較佳地，第一方向x與第二方向y相互垂直。

第二反射單元14用于自所述第一反射單元13沿著第一方向x出射的所述均勻化處理后的第一光線，并且將其反射至沿第二方向y傳輸?shù)牡谌饩€，并且構(gòu)成第三光路l3。所述第三光線用于針對(duì)第二元件p2進(jìn)行曝光。

本實(shí)施例中，第一元件p1與第二元件p2為半成品的顯示面板，并且第一元件p1與第二元件p2均分別放置于承載臺(tái)(未標(biāo)示)上，所述承載臺(tái)分別對(duì)應(yīng)于第二光路l2與第三光路l3。

第一透射元件15與第一反射單元13間隔一定距離設(shè)置于第二光路l2上，用于控制自第一反射單元13出射的第二光線沿預(yù)定位置出射。對(duì)應(yīng)地，第二透射元件16與第二反射單元14間隔一定距離設(shè)置于第三光路l3上，用于控制自第二發(fā)射單元14出射的第二光線沿預(yù)定位置出射。

在本實(shí)施例中，光源單元11包括發(fā)光源110、凹面反射聚光鏡111與第一平面鏡112。其中，發(fā)光源110用于出射曝光用的光線，本實(shí)施例中，所述發(fā)光源110為高壓水銀燈，所述曝光用的光線為紫外線。當(dāng)然，在本反其他實(shí)施例中，曝光用的光線還可以為深紫外線等，并不以此為限。

凹面發(fā)射聚光鏡111與第一平面鏡112設(shè)置于發(fā)光源110的相對(duì)兩側(cè)，且凹面發(fā)射聚光鏡111鄰近發(fā)光源110設(shè)置，用于將發(fā)光源110出射的光線進(jìn)行匯聚并反射至第一平面鏡112，以提高光線的利用率。第一平面鏡112用于接收自所述發(fā)光源110以及所述凹面發(fā)射聚光鏡111的光線并反射至第一方向，從而形成第一光線且構(gòu)成第一光路l1。其中，需要說明的是，發(fā)光源110出射光線的方向基本垂直于第一方向。

光線處理單元12用于針對(duì)第一光線進(jìn)行均勻化處理，并且將第一光線均處理為全部沿著第一方向x的光線進(jìn)行輸出。本實(shí)施例中，光線處理單元12為平行光凸透鏡陣列(flyeyes)。

第一反射單元13為半穿透半發(fā)射元件，用于將經(jīng)光線處理單元12均勻化處理后的第一光線一部分反射至第一方向形成第二光線，并且將另外一部分經(jīng)光線處理單元12均勻化處理后的第一光線繼續(xù)沿著第一方向x傳輸至第二反射單元14。本實(shí)施例中，第一反射單元13為半穿透半發(fā)射鏡片。

將經(jīng)光線處理單元12均勻化處理后的第一光線一部分反射至第一方向形成第二光線，并且將另外一部分經(jīng)光線處理單元12均勻化處理后的第一光線繼續(xù)沿著第一方向傳輸至第二反射單元14。本實(shí)施例中，第一反射單元13為半穿透半發(fā)射鏡片。

第一透光元件15與第一反射單元13間隔一定距離設(shè)置于第二光路l2上，以使得第二光線在預(yù)定位置進(jìn)行出射，本實(shí)施例中，第一透光元件15為具有位于第二光路l2上的開口或者通孔的透鏡元件，第一透光元件15使得第二光線僅自所述開口或者通孔的位置穿過，通過控制所述開口或者通孔的面積便于較佳地控制第二光路l2的光通量。

第二反射單元14為第二平面鏡，用于將自第一反射單元13沿第一方向x輸出的第一光線反射至第二方向y形成第三光線，構(gòu)成第三光路l3。

第二透光元件16與第一反射單元14間隔一定距離設(shè)置于第三光路l3上，以使得第三光線在預(yù)定位置進(jìn)行出射，本實(shí)施例中，第二透光元件16為具有位于第三光路l3上的開口或者通孔的透鏡元件，第二透光元件16使得第二光線僅自所述開口或者通孔的位置穿過，通過控制所述開口或者通孔的面積便于較佳地控制第三光路l3的光通量。

較佳地，所述曝光設(shè)備還包括第一掩膜承載臺(tái)17與第二掩膜承載臺(tái)18，第一掩膜承載臺(tái)17用于承載第一掩膜31，第一掩膜31具有第一圖案；所述第二掩膜承載臺(tái)18用于承載第二掩膜32，第二掩膜32具有第二圖案。其中，第一掩膜31對(duì)應(yīng)的第一圖案與第二掩膜32對(duì)應(yīng)的第二圖案可以相同，也可以不同。

第一掩膜承載臺(tái)17對(duì)應(yīng)設(shè)置于第二光路l2上，并且接收自所述第一透光單元15自預(yù)定位置透射出的第二光線。第二掩膜承載臺(tái)18設(shè)置于第三光路l3上，并且接收自所述第二透光單16元自預(yù)定位置透射出的第三光線。第一掩膜承載臺(tái)17承載的第一掩膜31與第二掩膜承載臺(tái)18承載的第二掩膜32分別針對(duì)第一元件p1與所述第二元件p2進(jìn)行曝光。另外，當(dāng)曝光設(shè)備10針對(duì)第一元件p1與第二元件p2進(jìn)行曝光時(shí)，將第一元件p1按照與第一掩膜17間隔一定距離設(shè)置于第二光路l2上；同時(shí)，將第二元件p2按照與第二掩膜18間隔一定距離設(shè)置于第三光路l3上。然后啟動(dòng)光源單元11使其按照預(yù)定的光路出射光線，從而對(duì)第一元件p1與第二元件p2進(jìn)行對(duì)應(yīng)圖案的曝光處理。

相較于現(xiàn)有技術(shù)，曝光設(shè)備10能夠同時(shí)針對(duì)兩個(gè)待曝光的元件進(jìn)行曝光處理，有效提升了曝光效率。進(jìn)一步，由于曝光設(shè)備10中具有兩個(gè)相互的曝光光路l2、l3，因此在兩個(gè)曝光光路l2、l3設(shè)置相同或者不同的圖案的掩膜，從而能夠同時(shí)曝光不同圖案的元件。

請(qǐng)參閱圖2，其為本發(fā)明一變更實(shí)施例中第一反射單元的結(jié)構(gòu)示意圖。

如圖2所示，第一反射單元13包括半穿透半反射元件131、反射元件132以及透射元件133。其中，半穿透半反射元件131、反射元件132以及透射元件133不同時(shí)位于所述第二光路l2上。也即是，當(dāng)半穿透半反射元件131位于第二光路l2時(shí)，反射元件132以及透射元件133并未位于第二光路l2上；當(dāng)反射元件132位于第二光路l2時(shí)，半穿透半反射元件131以及透射元件133并未位于第二光路l2上；當(dāng)透射元件133位于第二光路l2時(shí)，半穿透半反射元件131以及反射元件132并未位于第二光路l2上。可以理解，通過將半穿透半反射元件131、反射元件132以及透射元件133按照120度角度對(duì)稱的方式設(shè)置于一轉(zhuǎn)動(dòng)裝置(圖未示)上，轉(zhuǎn)動(dòng)裝置通過轉(zhuǎn)動(dòng)前述三個(gè)元件，每次轉(zhuǎn)動(dòng)120度時(shí)，即可將需要的半穿透半反射元件131、反射元件132以及透射元件133設(shè)置于第二光路l2上。

當(dāng)半穿透半反射元件131位于所述第一光路l1時(shí)，經(jīng)過光線處理單元12均勻化處理后的第一光線一部分經(jīng)由半穿透半反射元件131反射至第二方向y形成第二光線，另外一部分沿著第一方向穿透所述半穿透半反射元件131傳輸至所述第二反射單元14。對(duì)應(yīng)地，曝光設(shè)備10可以同時(shí)針對(duì)兩個(gè)元件進(jìn)行曝光，也即可以同時(shí)針對(duì)第一元件p1與第二元件p2進(jìn)行曝光。

當(dāng)反射元件132位于所述第一光路l1時(shí)，經(jīng)由光線處理單元12均勻化處理后的第一光線全部經(jīng)由所述反射元件132反射至第二方向y形成所述第二光線。對(duì)應(yīng)地，曝光設(shè)備10可僅針對(duì)第一元件p1進(jìn)行曝光。

當(dāng)透射元件133位于所述第一光路l2時(shí)，經(jīng)由光線處理單元12均勻化處理后的第一光線全部經(jīng)由透射元件133后沿著第一方向傳輸至所述第二反射單元14，再經(jīng)由第二反射單元14反射至第二方向的第三光路l2，形成第三光線。對(duì)應(yīng)地，曝光設(shè)備10可僅針對(duì)第二元件p2進(jìn)行曝光。

可變更地，透射元件133也可以省略，僅以空氣作為第一光線的傳播介質(zhì)，也即是第一反射單元13包括半穿透半反射元件131與反射元件132，而不設(shè)置透射元件133，其仍然能夠達(dá)成當(dāng)半穿透半反射元件131與反射元件132均未位于第一光路l1上時(shí)，使得經(jīng)由光線處理單元12均勻化處理后的第一光線全部直接傳輸至第二反射單元14，使得曝光設(shè)備10僅針對(duì)第二元件p2進(jìn)行曝光。

請(qǐng)參閱圖3，其為如圖1所示曝光設(shè)備的曝光方法流程圖。如圖3所示，所述曝光方法包括步驟：

步驟301：沿第一方向x出射第一光線，并形成第一光路l1。

具體地，驅(qū)動(dòng)發(fā)光源110向位于第一光路l1的第一平面鏡112發(fā)射光線，同時(shí)，凹面反射聚光鏡111將發(fā)光源110出射的光線進(jìn)行匯聚亦進(jìn)一步反射至第一平面鏡112。第一反射鏡112將接收的發(fā)光源110出射的光線以及凹面反射聚光鏡111匯聚反射的光線反射至第一方向，從而形成第一光路l1。

步驟302：均勻化處理所述第一光線。

具體地，距離第一反射鏡112一定距離且設(shè)置于第一光路l1的光線處理單元12將第一反射鏡112進(jìn)行均勻化處理，并且使得該些光線均沿著第一方向進(jìn)行傳輸。

步驟303：反射所述均勻化處理后的第一光線至第二方向y，并且形成第二光路l2，所述第二光線用于針對(duì)第一元件p1(圖1)進(jìn)行曝光，所述第二方向y不同于第一方向y。本實(shí)施例中第二方向y垂直第一方向x。

具體地，在第一光路l1距離所述光線處理單元12一定距離設(shè)置第一反射單元13，第一反射單元13接收所述均勻化處理后的第一光線并反射至沿第二方向傳輸?shù)牡诙饩€，從而構(gòu)成第二光路。

本實(shí)施例中，所述第一反射單元13為半穿透半反射元件，所述均勻化處理后的第一光線部分經(jīng)由所述半穿透半反射單元元件反射至第二方向形成第二光線，另外一邊部分沿著第一方向穿透所述半穿透半反射元件傳輸至所述第二反射單元14。

較佳地，在所述第二光路l2間隔所述第一反射單元13一定距離設(shè)置第一透光單元15，以控制所述第二光線沿預(yù)定位置以預(yù)定的光通量出射。

對(duì)應(yīng)地，在所述第二光路l2上設(shè)置具有第一圖案的第一掩膜31，以接收自所述第一透光單元15自預(yù)定位置透射出的第二光線，以按照所述第一圖案對(duì)所述第一元件p1進(jìn)行曝光。

步驟304：在第一方向x間隔第一距離反射所述均勻化處理后的第一光線至所述第二方向，形成沿所述第二方向y傳輸?shù)牡谌饩€以構(gòu)成第三光路l3，所述第三光線用于針對(duì)第二元件p2進(jìn)行曝光。

具體地，在第一光路l1距離所述第一反射單元13第一距離設(shè)置第二反射單元14，將自第一方向x接收的光線全部反射至第二方向y形成第三光線。其中，第二反射單元14為平面鏡。

較佳地，在所述第三光路l3間隔所述第二反射單元14一定距離設(shè)置第二透光單元16，以控制所述第三光線沿預(yù)定位置出射。

對(duì)應(yīng)步驟304，可變更地，第一反射單元13包括半穿透半反射元件131、反射元件132以及透射元件133，其中，控制半穿透半反射元件131、反射元件132以及透射元件133三者不同時(shí)位于所述第一光路上l1。

控制半穿透半反射元件131位于所述第一光路l1，所述均勻化處理后的第一光線部分經(jīng)由所述半穿透半反射元件131反射至第二方向y形成第二光線，構(gòu)成第二光路l2，另外一部分沿著第一方向x1穿過半穿透半反射元件131傳輸至所述第二反射單元14。

控制反射元件132位于所述第一光路l1，所述均勻化處理后的第一光線全部經(jīng)由反射元件132反射至第二方向形成所述第二光線，構(gòu)成第二光路l2。

控制透射元件133位于第一光路l1，所述均勻化處理后的第一光線全部經(jīng)由透射元件133沿著第一方向x傳輸至第二反射單元14反射至第二方向y形成所述第三光線，構(gòu)成第三光路l3。

當(dāng)然，透射元件133的功效在于將所述均勻化處理后的第一光線全部傳輸至第二反射單元14，因此，透射元件133可以為透射光學(xué)元件，亦可以為空氣介質(zhì)，換句話說即是第一反射單元13僅設(shè)置半穿透半反射元件131與反射元件132實(shí)體元件即可。

以上所述的實(shí)施方式，并不構(gòu)成對(duì)該技術(shù)方案保護(hù)范圍的限定。任何在上述實(shí)施方式的精神和原則之內(nèi)所作的修改、等同替換和改進(jìn)等，均應(yīng)包含在該技術(shù)方案的保護(hù)范圍之內(nèi)。