本發(fā)明涉及液晶顯示器領(lǐng)域，尤其涉及一種高ppi面板cf光罩共用的方法。

背景技術(shù)：

液晶顯示面板通常由彩色濾光片(cf)基板、薄膜晶體管陣列基板以及配置于兩基板間的液晶層所構(gòu)成，并分別在兩基板的相對內(nèi)側(cè)設(shè)置像素電極、公共電極，通過施加電壓控制液晶分子改變方向，將背光模組的光線折射出來產(chǎn)生畫面。目前，隨著高ppi(像素密度)面板日益受到市場歡迎，各面板生產(chǎn)廠家也需要不斷提升制造技術(shù)以適應(yīng)新產(chǎn)品的要求。

如圖1所示，其為現(xiàn)有技術(shù)中采用光罩共用方式制備cf的過程示意圖。基板(glass)上已經(jīng)制備有黑色矩陣(bm)，首先利用rgb光罩(rgbmask)根據(jù)對準標(biāo)記(alignmentmark)在基板上制備一種顏色的色阻，例如r色阻，作為后續(xù)制程的覆蓋標(biāo)記，為確保制得合格的產(chǎn)品，制程中需要通過測量覆蓋標(biāo)記(overlaymark)與rgb光罩的相對距離來校準rgb光罩的位置。通常，覆蓋標(biāo)記都是以水平排布設(shè)計，即覆蓋標(biāo)記均在一條水平線上。如圖1所示，色阻與黑色矩陣的相對位置ovl可以表示為ovl＝((x1-x2)，(y1-y2))，可以看出當(dāng)對位準確時ovl＝(0,0)。

為了共用光罩，需要將rgb光罩分別做1子像素距離的平移(1hshift)和2子像素距離的平移(2hshift)，以便再用該光罩制作另外兩種顏色的色阻。光罩平移時需要與基板上的覆蓋標(biāo)記10進行比較來校準位置。如圖1中所示，通過測量h，a，b及c的值，可以校準rgb光罩與覆蓋標(biāo)記10的相對位置，以確保rgb光罩平移到準確位置來制備其他顏色的色阻，最終制得合格的產(chǎn)品。圖中黑色代表的是bm光罩的圖形，rgb分別代表rgb光罩圖形，覆蓋標(biāo)記10均在一條水平線上。

但是，高ppi面板在采用常規(guī)光罩共用設(shè)計時會遇到問題?，F(xiàn)有技術(shù)中通常覆蓋標(biāo)記都是以水平排布設(shè)計，即覆蓋標(biāo)記均在一條水平線上。這種設(shè)計不利于小像素的光罩共用情況。參見圖2，其為高ppi面板cf采用現(xiàn)有光罩共用方式所遇問題示意圖。對于高ppi面板小像素的情況，h<c，也就是原有覆蓋標(biāo)記20的尺寸相對于平移距離h太大，共用移動光罩后，覆蓋標(biāo)記20會發(fā)生交疊致使無法量測，進而無法保證rgb光罩位置的準確，進而影響后續(xù)制程。

參見圖3，其是解決高ppi面板cf所遇問題的現(xiàn)有方法示意圖?，F(xiàn)有解決不交疊的方法就是將覆蓋標(biāo)記30的色條做小，但是這樣又會存在色條剝落(peeling)風(fēng)險。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

因此，本發(fā)明的目的在于提供一種高ppi面板cf光罩共用的方法，避免不利于高ppi面板小像素的光罩共用的情況。

本發(fā)明提供了一種高ppi面板cf光罩共用的方法，其中，用于與光罩配合對位的覆蓋標(biāo)記在黑色矩陣上分布于不同水平線上。

其中，將光罩相對對應(yīng)的覆蓋標(biāo)記在橫向平移一倍子像素距離，使用該光罩制備色阻。

其中，將光罩相對對應(yīng)的覆蓋標(biāo)記在橫向平移兩倍子像素距離，使用該光罩制備色阻。

其中，將光罩相對對應(yīng)的覆蓋標(biāo)記在縱向平移一倍像素距離，使用該光罩制備色阻。

其中，將光罩相對對應(yīng)的覆蓋標(biāo)記在縱向平移兩倍像素距離，使用該光罩制備色阻。

其中，將光罩相對對應(yīng)的覆蓋標(biāo)記在橫向平移一倍子像素距離或兩倍子像素距離，再縱向平移一倍像素距離或兩倍像素距離，使用該光罩制備色阻。

綜上，本發(fā)明高ppi面板cf光罩共用的方法實現(xiàn)了更加有效且更方便光罩共用的設(shè)計，既可以水平方向移動，又可以豎直方向作動；水平或者豎直方向移動控制使用同一光罩制備rgb色阻，可降低成本。

附圖說明

下面結(jié)合附圖，通過對本發(fā)明的具體實施方式詳細描述，將使本發(fā)明的技術(shù)方案及其他有益效果顯而易見。

附圖中，

圖1為現(xiàn)有技術(shù)中采用光罩共用方式制備cf的過程示意圖；

圖2為高ppi面板cf采用現(xiàn)有光罩共用方式所遇問題示意圖；

圖3是解決高ppi面板cf所遇問題的現(xiàn)有方法示意圖；

圖4為本發(fā)明高ppi面板cf光罩共用的方法一較佳實施例的示意圖；

圖5為本發(fā)明高ppi面板cf光罩共用的方法又一較佳實施例的示意圖。

具體實施方式

參見圖4，其為本發(fā)明高ppi面板cf光罩共用的方法一較佳實施例的示意圖。此實施例中將覆蓋標(biāo)記40設(shè)計為沿不同水平線在縱向上分布，rgb光罩可以參照覆蓋標(biāo)記40在橫向上平移1h或2h，h為子像素距離，然后使用同一光罩制作色阻，以實現(xiàn)光罩共用的目的，利用同一光罩來制作不同顏色色阻，而且避免發(fā)生交疊問題。

本發(fā)明所提出的覆蓋標(biāo)記設(shè)計，將覆蓋標(biāo)記設(shè)計成不同水平線分布。其中，在使用光罩制備r色阻之后，將光罩在水平方向和/或豎直方向移動特定距離后，如一倍或兩倍子像素/像素距離，再使用同一光罩制備g色阻，接著按同樣方式制備b色阻。

圖5為本發(fā)明高ppi面板cf光罩共用的方法又一較佳實施例的示意圖。首先利用光罩在褐色矩陣上制備r色阻，然后可以以該r色阻為覆蓋標(biāo)記，將光罩相對其在縱向平移一倍像素距離v并橫向平移一倍子像素距離后，使用該光罩制備色阻，或者將光罩相對其記在縱向平移兩倍像素距離2v，使用該光罩制備色阻。

綜上，本發(fā)明高ppi面板cf光罩共用的方法實現(xiàn)了更加有效且更方便光罩共用的設(shè)計，既可以水平方向移動，又可以豎直方向作動；水平或者豎直方向移動控制使用同一光罩制備rgb色阻，可降低成本。

以上所述，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，可以根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)方案和技術(shù)構(gòu)思作出其他各種相應(yīng)的改變和變形，而所有這些改變和變形都應(yīng)屬于本發(fā)明后附的權(quán)利要求的保護范圍。

技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供一種高PPI面板CF光罩共用的方法。該高PPI面板CF光罩共用的方法中，用于與光罩配合對位的覆蓋標(biāo)記在黑色矩陣上分布于不同水平線上。該高PPI面板CF光罩共用的方法中，將光罩相對對應(yīng)的覆蓋標(biāo)記在橫向平移一倍子像素距離或兩倍子像素距離，再縱向平移一倍像素距離或兩倍像素距離，使用該光罩制備色阻。本發(fā)明高PPI面板CF光罩共用的方法實現(xiàn)了更加有效且更方便光罩共用的設(shè)計，既可以水平方向移動，又可以豎直方向作動；水平或者豎直方向移動控制使用同一光罩制備RGB色阻，可降低成本。

技術(shù)研發(fā)人員：甘啟明
受保護的技術(shù)使用者：深圳市華星光電技術(shù)有限公司
技術(shù)研發(fā)日：2017.04.17
技術(shù)公布日：2017.08.18