1.一種彩膜基板的制造方法，其特征在于，所述方法包括：
在襯底基板上形成色阻層；
在形成有所述色阻層的襯底基板上形成轉(zhuǎn)化層，所述轉(zhuǎn)化層的厚度大于所述色阻層的厚度且所述轉(zhuǎn)化層能夠在預(yù)設(shè)光線照射下發(fā)生色彩轉(zhuǎn)化；
以所述預(yù)設(shè)光線照射所述轉(zhuǎn)化層，使所述轉(zhuǎn)化層轉(zhuǎn)化為由黑矩陣BM圖案和平坦層構(gòu)成的兩層結(jié)構(gòu)，所述BM圖案位于所述轉(zhuǎn)化層靠近所述襯底基板的一側(cè)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述轉(zhuǎn)化層由不透明材質(zhì)制成，
所述以所述預(yù)設(shè)光線照射所述轉(zhuǎn)化層，使所述轉(zhuǎn)化層轉(zhuǎn)化為由黑矩陣BM圖案和平坦層構(gòu)成的兩層結(jié)構(gòu)，包括：
以所述預(yù)設(shè)光線從所述轉(zhuǎn)化層遠離所述襯底基板的一側(cè)照射所述轉(zhuǎn)化層，使所述轉(zhuǎn)化層遠離所述襯底基板的一側(cè)的第一預(yù)設(shè)厚度的膜層轉(zhuǎn)變?yōu)橥该鞯钠教箤?，所述第一預(yù)設(shè)厚度大于所述轉(zhuǎn)化層的厚度與所述色阻層的厚度的差值。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述以所述預(yù)設(shè)光線從所述轉(zhuǎn)化層遠離所述襯底基板的一側(cè)照射所述轉(zhuǎn)化層，使所述轉(zhuǎn)化層遠離所述襯底基板的一側(cè)的第一預(yù)設(shè)厚度的膜層轉(zhuǎn)變?yōu)橥该鞯钠教箤?，包括?/p>
在所述轉(zhuǎn)化層中不透明的膜層的厚度等于所述色阻層的厚度時，在所述轉(zhuǎn)化層和所述預(yù)設(shè)光線的光源之間設(shè)置掩膜板，所述掩膜板用于阻擋所述預(yù)設(shè)光線照射到所述色阻層。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述預(yù)設(shè)光線為紫外線，所述轉(zhuǎn)化層中包括光催化劑，所述光催化劑用于使所述轉(zhuǎn)化層照射到所述紫外線的部分轉(zhuǎn)化為透明狀態(tài)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，所述光催化劑包括二氧化鈦、氧化鋅和氧化錫中的至少一種。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，所述光催化劑在所述轉(zhuǎn)化層中的質(zhì)量分數(shù)為0.1％至10％。
7.根據(jù)權(quán)利要求4-6任一所述的方法，其特征在于，所述紫外線的波長為330微米至400微米，所述紫外線的照射時間為10分鐘至40分鐘。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述轉(zhuǎn)化層由透明材質(zhì)制成，所述以所述預(yù)設(shè)光線照射所述轉(zhuǎn)化層，使所述轉(zhuǎn)化層轉(zhuǎn)化為由黑矩陣BM圖案和平坦層構(gòu)成的兩層結(jié)構(gòu)，包括：
以所述預(yù)設(shè)光線從所述襯底基板遠離所述色阻層的一側(cè)照射所述轉(zhuǎn)化層，使所述轉(zhuǎn)化層靠近所述襯底基板的一側(cè)的第二預(yù)設(shè)厚度的膜層轉(zhuǎn)變?yōu)椴煌该鞯腂M圖案，所述第二預(yù)設(shè)厚度小于所述色阻層的厚度。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于，所述以所述預(yù)設(shè)光線從所述襯底基板遠離所述色阻層的一側(cè)照射所述轉(zhuǎn)化層，使所述轉(zhuǎn)化層靠近所述襯底基板的一側(cè)的第二預(yù)設(shè)厚度的膜層轉(zhuǎn)變?yōu)椴煌该鞯腂M圖案之前，所述方法包括：
在所述預(yù)設(shè)光線的光源和所述襯底基板之間設(shè)置掩膜板，所述掩膜板用于阻擋所述預(yù)設(shè)光線照射到所述色阻層。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于，所述預(yù)設(shè)光線為紫外線，所述轉(zhuǎn)化層中包括光催化劑或透明的感光材料，所述光催化劑或所述透明的感光材料用于使所述轉(zhuǎn)化層照射到所述紫外線的部分轉(zhuǎn)化為不透明狀態(tài)。
11.一種彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板為權(quán)利要求1至10任一所述的方法制造而成的彩膜基板。
12.一種顯示面板，其特征在于，所述顯示面板包括權(quán)利要求11所述的彩膜基板。