本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種彩膜基板的制造方法、彩膜基板和顯示面板。

背景技術(shù)：

顯示面板通常包括彩膜基板、陣列基板和形成于這兩個基板之間的液晶層。其中，彩膜基板通常包括色阻層和黑矩陣(英文：Black Matrix；簡稱：BM)圖形，其中色阻層可以包括多個子色阻層，每個子色阻層的顏色可以不同，黑矩陣圖形用于將不同的子色阻層隔開。

相關(guān)技術(shù)中有一種彩膜基板的制造方法，在該方法中，首先在襯底基板上形成BM圖案，然后在形成有BM圖案的襯底基板上形成色阻層，再在形成有色阻層的襯底基板上形成平坦層(英文：Over Cover；簡稱：OC)，該平坦層用于降低形成有BM圖案和色阻層的襯底基板上各個位置的段差。

在實現(xiàn)本發(fā)明的過程中，發(fā)明人發(fā)現(xiàn)現(xiàn)有技術(shù)至少存在以下問題：上述制造彩膜基板的方法較為復(fù)雜。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

為了解決現(xiàn)有技術(shù)制造彩膜基板的方法較為復(fù)雜的問題，本發(fā)明實施例提供了一種彩膜基板的制造方法、彩膜基板和顯示面板。所述技術(shù)方案如下：

根據(jù)本發(fā)明的第一方面，提供了一種彩膜基板的制造方法，所述方法包括：

在襯底基板上形成色阻層；

在形成有所述色阻層的襯底基板上形成轉(zhuǎn)化層，所述轉(zhuǎn)化層的厚度大于所述色阻層的厚度且所述轉(zhuǎn)化層能夠在預(yù)設(shè)光線照射下發(fā)生色彩轉(zhuǎn)化；

以所述預(yù)設(shè)光線照射所述轉(zhuǎn)化層，使所述轉(zhuǎn)化層轉(zhuǎn)化為由黑矩陣BM圖案和平坦層構(gòu)成的兩層結(jié)構(gòu)，所述BM圖案位于所述轉(zhuǎn)化層靠近所述襯底基板的一側(cè)。

可選的，所述轉(zhuǎn)化層由不透明材質(zhì)制成，

所述以預(yù)設(shè)光線照射所述轉(zhuǎn)化層，使所述轉(zhuǎn)化層轉(zhuǎn)化為由黑矩陣BM圖案和平坦層構(gòu)成的兩層結(jié)構(gòu)，包括：

以所述預(yù)設(shè)光線從所述轉(zhuǎn)化層遠離所述襯底基板的一側(cè)照射所述轉(zhuǎn)化層，使所述轉(zhuǎn)化層遠離所述襯底基板的一側(cè)的第一預(yù)設(shè)厚度的膜層轉(zhuǎn)變?yōu)橥该鞯钠教箤?，所述第一預(yù)設(shè)厚度大于所述轉(zhuǎn)化層的厚度與所述色阻層的厚度的差值。

可選的，所述以所述預(yù)設(shè)光線從所述轉(zhuǎn)化層遠離所述襯底基板的一側(cè)照射所述轉(zhuǎn)化層，使所述轉(zhuǎn)化層遠離所述襯底基板的一側(cè)的第一預(yù)設(shè)厚度的膜層轉(zhuǎn)變?yōu)橥该鞯钠教箤?，包括?/p>

在所述轉(zhuǎn)化層中不透明的膜層的厚度等于所述色阻層的厚度時，在所述轉(zhuǎn)化層和所述預(yù)設(shè)光線的光源之間設(shè)置掩膜板，所述掩膜板用于阻擋所述預(yù)設(shè)光線照射到所述色阻層。

可選的，所述預(yù)設(shè)光線為紫外線，所述轉(zhuǎn)化層中包括光催化劑，所述光催化劑用于使所述轉(zhuǎn)化層照射到紫外線的部分轉(zhuǎn)化為透明狀態(tài)。

可選的，所述光催化劑包括二氧化鈦、氧化鋅和氧化錫中的至少一種。

可選的，所述光催化劑在所述轉(zhuǎn)化層中的質(zhì)量分數(shù)為0.1％至10％。

可選的，所述紫外線的波長為330微米至400微米，所述紫外線的照射時間為10分鐘至40分鐘。

可選的，所述轉(zhuǎn)化層由透明材質(zhì)制成，

所述以預(yù)設(shè)光線照射所述轉(zhuǎn)化層，使所述轉(zhuǎn)化層變?yōu)閮蓚?cè)分別為不透明的BM圖案和透明的平坦層的膜層，包括：

以所述預(yù)設(shè)光線從所述襯底基板遠離所述色阻層的一側(cè)照射所述轉(zhuǎn)化層，使所述轉(zhuǎn)化層靠近所述襯底基板的一側(cè)的第二預(yù)設(shè)厚度的膜層轉(zhuǎn)變?yōu)椴煌该鞯腂M圖案，所述第二預(yù)設(shè)厚度小于所述色阻層的厚度。

可選的，所述以所述預(yù)設(shè)光線從所述襯底基板遠離所述色阻層的一側(cè)照射所述轉(zhuǎn)化層，使所述轉(zhuǎn)化層靠近所述襯底基板的一側(cè)的第二預(yù)設(shè)厚度的膜層轉(zhuǎn)變?yōu)椴煌该鞯腂M圖案之前，所述方法包括：

在所述預(yù)設(shè)光線的光源和所述襯底基板之間設(shè)置掩膜板，所述掩膜板用于阻擋所述預(yù)設(shè)光線照射到所述色阻層。

可選的，所述預(yù)設(shè)光線為紫外線，所述轉(zhuǎn)化層中包括光催化劑或透明的感光材料，所述光催化劑或所述透明的感光材料用于使所述轉(zhuǎn)化層照射到紫外線的部分轉(zhuǎn)化為不透明狀態(tài)。

根據(jù)本發(fā)明的第二方面，提供一種彩膜基板，所述彩膜基板為第一方面任一所述的方法制造而成的彩膜基板。

根據(jù)本發(fā)明的第三方面，提供一種顯示面板，所述顯示面板包括第二方面所述的彩膜基板。

本發(fā)明實施例提供的技術(shù)方案帶來的有益效果是：

通過在襯底基板上形成轉(zhuǎn)化層，再以預(yù)設(shè)光線將轉(zhuǎn)化層轉(zhuǎn)化為BM圖案和平坦層，而無需分兩次形成BM圖案和平坦層。解決了相關(guān)中制造彩膜基板的方法較為復(fù)雜的問題。達到了簡化彩膜基板的制造方法的效果。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案，下面將對實施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1是本發(fā)明實施例示出的一種彩膜基板的制造方法的流程圖；

圖2-1是本發(fā)明實施例示出的另一種彩膜基板的制造方法的流程圖；

圖2-2是圖2-1所示實施例中一種襯底基板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2-3是圖2-1所示實施例中另一種襯底基板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2-4是圖2-所示實施例中一種設(shè)置轉(zhuǎn)化層的流程圖；

圖2-5是圖2-1所示實施例中另一種襯底基板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2-6是圖2-1所示實施例中一種形成BM圖案和平坦層的流程圖；

圖2-7是圖2-1所示實施例中另一種襯底基板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2-8是圖2-1所示實施例中另一種襯底基板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3-1是本發(fā)明實施例示出的另一種彩膜基板的制造方法的流程圖

圖3-2是圖3-1所示實施例中一種襯底基板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3-3是圖3-1所示實施例中另一種襯底基板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3-4是圖3-1所示實施例中另一種襯底基板的結(jié)構(gòu)示意圖。

上述各個附圖中，附圖標記的含義可以為：21-襯底基板，22-色阻層，23-轉(zhuǎn)化層，231-平坦層，232-BM圖案，31-掩膜板，32-預(yù)設(shè)光線的光源，33-隔墊物，h1-第一預(yù)設(shè)厚度，h2-轉(zhuǎn)化層的厚度與色阻層的厚度的差值，h3-BM圖案的厚度，h4-色阻層的厚度。

通過上述附圖，已示出本發(fā)明明確的實施例，后文中將有更詳細的描述。這些附圖和文字描述并不是為了通過任何方式限制本發(fā)明構(gòu)思的范圍，而是通過參考特定實施例為本領(lǐng)域技術(shù)人員說明本發(fā)明的概念。

具體實施方式

為使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點更加清楚，下面將結(jié)合附圖對本發(fā)明實施方式作進一步地詳細描述。

圖1是本發(fā)明實施例示出的一種彩膜基板的制造方法的流程圖，本實施例以該彩膜基板的制造方法應(yīng)用于制造彩膜基板來舉例說明。該彩膜基板的制造方法可以包括如下幾個步驟：

步驟101、在襯底基板上形成色阻層。

步驟102、在形成有色阻層的襯底基板上形成轉(zhuǎn)化層，轉(zhuǎn)化層能夠在預(yù)設(shè)光線照射下發(fā)生色彩轉(zhuǎn)化。

步驟103、以預(yù)設(shè)光線照射轉(zhuǎn)化層，使轉(zhuǎn)化層轉(zhuǎn)化為由黑矩陣BM圖案和平坦層構(gòu)成的兩層結(jié)構(gòu)，BM圖案位于轉(zhuǎn)化層靠近襯底基板的一側(cè)。

綜上所述，本發(fā)明實施例提供的彩膜基板的制造方法，通過在襯底基板上形成轉(zhuǎn)化層，再以預(yù)設(shè)光線將轉(zhuǎn)化層轉(zhuǎn)化為BM圖案和平坦層，而無需分兩次形成BM圖案和平坦層。解決了相關(guān)中制造彩膜基板的方法較為復(fù)雜的問題。達到了簡化彩膜基板的制造方法的效果。

下面根據(jù)轉(zhuǎn)化層由透明材質(zhì)制成還是由不透明材質(zhì)制成分情況進行說明。

在轉(zhuǎn)化層由不透明材質(zhì)制成時：

圖2-1是本發(fā)明實施例示出的另一種彩膜基板的制造方法的流程圖，本實施例以該彩膜基板的制造方法應(yīng)用于制造彩膜基板來舉例說明。該彩膜基板的制造方法可以包括如下幾個步驟：

步驟201、在襯底基板上形成色阻層。

首先可以在襯底基板上形成色阻層，該色阻層可以包括不同顏色(如紅色、綠色和藍色)的子色阻層。

步驟201結(jié)束時，襯底基板的結(jié)構(gòu)可以如圖2-2所示，其中，色阻層22形成在襯底基板21上。

步驟202、在形成有色阻層的襯底基板上形成轉(zhuǎn)化層，轉(zhuǎn)化層能夠在預(yù)設(shè)光線照射下發(fā)生色彩轉(zhuǎn)化。

轉(zhuǎn)化層的厚度大于色阻層的厚度，可選的，轉(zhuǎn)化層的厚度可以等于相關(guān)技術(shù)中平坦層的厚度與BM圖案的厚度的和。由于轉(zhuǎn)化層的厚度較大，轉(zhuǎn)化層遠離襯底基板的一側(cè)會較為平坦。

步驟202結(jié)束時，襯底基板的結(jié)構(gòu)可以如圖2-3所示，其中，轉(zhuǎn)化層23形成于形成有色阻層22的襯底基板21上。

此外，預(yù)設(shè)光線可以為紫外線(英文：Ultraviolet rays)，紫外線為電磁波譜中波長從10nm～400nm的輻射的總稱。

該轉(zhuǎn)化層的材料可以和相關(guān)技術(shù)中BM圖案的材料相同，該轉(zhuǎn)化層中包括光催化劑，光催化劑用于使轉(zhuǎn)化層照射到紫外線的部分轉(zhuǎn)化為透明狀態(tài)。光催化劑包括二氧化鈦(TiO₂)、氧化鋅(ZnO)和氧化錫(SnO₂)中的至少一種。且光催化劑在轉(zhuǎn)化層中的質(zhì)量分數(shù)為0.1％至10％。質(zhì)量分數(shù)(英文：mass fraction)指化合物中某種物質(zhì)質(zhì)量占總質(zhì)量的百分比。

如圖2-4所示，本步驟可以包括下面3個子步驟：

子步驟2021，在BM膠中添加光催化劑。

BM膠為用于形成BM圖案的原材料。BM膠中包括透明的基底和有機染料。

子步驟2022，通過超聲波震蕩使光催化劑在BM膠中分散均勻，得到轉(zhuǎn)化層原材料。

也可以通過其他方式使BM膠中的光催化劑分散均勻，本發(fā)明實施例不作出限制。光催化劑在BM膠中分散均勻后，包括光催化劑的BM膠即為轉(zhuǎn)化層原材料

子步驟2023，以轉(zhuǎn)化層原材料在形成有色阻層的襯底基板上形成轉(zhuǎn)化層。

需要說明的是，光催化劑于上世紀六七十年代由日本學者發(fā)現(xiàn)。以TiO₂為例，其作為光催化劑組分的晶粒大小多處于納米范圍(1nm～30nm)，以其為單一活性組分的光催化劑和與其他物質(zhì)摻雜制得的復(fù)合光催化劑均能夠有效降解如四堿式硫酸鉛(4BS)、亞甲基藍和活性艷黃等有機染料。降解原理大都為首先破壞鍵能較高的化學鍵，如C＝C雙鍵、N＝N雙鍵等，之后再破壞鍵能中等的化學鍵，如苯環(huán)和萘環(huán)等，將染料的有機物分子由大分子結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)化為小分子結(jié)構(gòu)，逐步無機化從而達到降解的效果。對于本發(fā)明實施例，不透明的轉(zhuǎn)化層中有機染料的降解原理與上述描述基本相同，都是通過光催化使其中的有機染料分子降解褪色并無機化，逐步分離并形成BM圖案和OC層。

此外，本發(fā)明實施例中，轉(zhuǎn)化層也可以包括有感光材料，并由該感光材料實現(xiàn)轉(zhuǎn)化層被預(yù)設(shè)光線照射從而分離形成BM圖案和OC層的功能。示例性的，不透明的轉(zhuǎn)化層可以通過在透明的基底中加入不透明的感光材料制成，該感光材料被預(yù)設(shè)光線照射后能夠褪色，使轉(zhuǎn)化層被預(yù)設(shè)光線照射到的部分轉(zhuǎn)化為透明狀態(tài)。

步驟203、以預(yù)設(shè)光線從轉(zhuǎn)化層遠離襯底基板的一側(cè)照射轉(zhuǎn)化層，使轉(zhuǎn)化層遠離襯底基板的一側(cè)的第一預(yù)設(shè)厚度的膜層轉(zhuǎn)變?yōu)橥该鞯钠教箤樱谝活A(yù)設(shè)厚度大于轉(zhuǎn)化層的厚度與色阻層的厚度的差值。

即轉(zhuǎn)化層中不透明部分的厚度小于色阻層的厚度，使色阻層露出來。在預(yù)設(shè)光線為紫外線時，紫外線的波長為330微米至400微米，紫外線的照射時間為10分鐘至40分鐘。

步驟203結(jié)束時，襯底基板的結(jié)構(gòu)可以如圖2-5所示，其中，轉(zhuǎn)化層23轉(zhuǎn)變?yōu)榘ú煌该鞯腂M圖案232和透明的平坦層231的膜層，平坦層231的厚度第一預(yù)設(shè)厚度h1大于轉(zhuǎn)化層23的厚度與色阻層22的厚度的差值h2。

如圖2-6所示，在轉(zhuǎn)化層中的光催化劑可能會對色阻層造成影響時，步驟203可以包括下面一個子步驟：

子步驟2031、在轉(zhuǎn)化層中不透明的膜層的厚度等于色阻層的厚度時，在轉(zhuǎn)化層和預(yù)設(shè)光線的光源之間設(shè)置掩膜板，掩膜板用于阻擋預(yù)設(shè)光線照射到色阻層。

掩膜版可以避免預(yù)設(shè)光線照射到色阻層，使得轉(zhuǎn)化層中的光催化劑造成影響。

子步驟2031設(shè)置掩膜板后的結(jié)構(gòu)可以如圖2-7所示，其中，掩膜版31設(shè)置在預(yù)設(shè)光線的光源32和轉(zhuǎn)化層23之間，預(yù)設(shè)光線的光源32可以為面光源，預(yù)設(shè)光線可以為紫外線。

需要說明的是，在轉(zhuǎn)化層中的光催化劑不會對色阻層造成影響時，步驟203可以不包括子步驟2031。

本發(fā)明實施例提供的彩膜基板的制造方法中，BM圖案和平坦層實質(zhì)是一個膜層轉(zhuǎn)化而來，平坦層的平坦程度較高，可以避免相關(guān)技術(shù)中由于平坦層不夠平坦引起的后端對盒工序中的配向不良及Rubbing Mura(Rubbing Mura是指由于摩擦取向過程中取向膜受到損傷造成的不良)等。

步驟204、在形成有BM圖案和平坦層的襯底基板上形成隔墊物。

隔墊物(英文：Photo Spacer；簡稱：PS)用于在后續(xù)的對盒工序中控制彩膜基板和陣列基板之間的距離。

本步驟結(jié)束時，襯底基板的結(jié)構(gòu)可以如圖2-8所示，其中，隔墊物33分布在平坦層231上。圖2-8中其他標記的含義可以參考圖2-5，在此不再贅述。

綜上所述，本發(fā)明實施例提供的彩膜基板的制造方法，通過在襯底基板上形成轉(zhuǎn)化層，再以預(yù)設(shè)光線將轉(zhuǎn)化層轉(zhuǎn)化為BM圖案和平坦層，而無需分兩次形成BM圖案和平坦層。解決了相關(guān)中制造彩膜基板的方法較為復(fù)雜的問題。達到了簡化彩膜基板的制造方法的效果。

在轉(zhuǎn)化層由透明材質(zhì)制成時：

圖3-1是本發(fā)明實施例示出的另一種彩膜基板的制造方法的流程圖，本實施例以該彩膜基板的制造方法應(yīng)用于制造彩膜基板來舉例說明。該彩膜基板的制造方法可以包括如下幾個步驟：

步驟301、在襯底基板上形成色阻層。

首先可以在襯底基板上形成由透明材質(zhì)的色阻層，該色阻層可以包括不同顏色的子色阻層。

步驟301結(jié)束時，襯底基板的結(jié)構(gòu)可以如圖2-2所示。

步驟302、在形成有色阻層的襯底基板上形成轉(zhuǎn)化層，轉(zhuǎn)化層能夠在預(yù)設(shè)光線照射下發(fā)生色彩轉(zhuǎn)化。

轉(zhuǎn)化層的厚度大于色阻層的厚度，可選的，轉(zhuǎn)化層的厚度可以等于相關(guān)技術(shù)中平坦層的厚度與BM圖案的厚度的和。由于轉(zhuǎn)化層的厚度較大，轉(zhuǎn)化層遠離襯底基板的一側(cè)會較為平坦。

轉(zhuǎn)化層的材料可以與相關(guān)技術(shù)中OC層的材料相同，預(yù)設(shè)光線為紫外線。轉(zhuǎn)化層中包括有光催化劑或透明的感光材料，光催化劑或透明的感光材料用于使轉(zhuǎn)化層照射到紫外線的部分轉(zhuǎn)化為不透明狀態(tài)，轉(zhuǎn)化層轉(zhuǎn)化為不透明狀態(tài)的部分可以呈現(xiàn)為黑色。

步驟302結(jié)束時，襯底基板的結(jié)構(gòu)可以如圖3-2所示，透明的轉(zhuǎn)化層23設(shè)置在設(shè)置有色阻層22的襯底基板21上。

步驟303、在預(yù)設(shè)光線的光源和襯底基板之間設(shè)置掩膜板，掩膜板用于阻擋預(yù)設(shè)光線照射到色阻層。

在預(yù)設(shè)光線的光源和襯底基板之間設(shè)置掩膜板后，襯底基板的結(jié)構(gòu)可以如圖3-3所示，掩膜版31設(shè)置在預(yù)設(shè)光線的光源32和襯底基板21之間，預(yù)設(shè)光線的光源32可以為面光源，預(yù)設(shè)光線可以為紫外線。

步驟304、以預(yù)設(shè)光線從襯底基板遠離色阻層的一側(cè)照射轉(zhuǎn)化層，使轉(zhuǎn)化層靠近襯底基板的一側(cè)的第二預(yù)設(shè)厚度的膜層轉(zhuǎn)變?yōu)椴煌该鞯腂M圖案，第二預(yù)設(shè)厚度小于色阻層的厚度。

步驟304結(jié)束時，襯底基板的結(jié)構(gòu)可以如圖3-4所示，BM圖案232的厚度h3小于色阻層22的厚度h4。231為平坦層。圖3-4中其他標記的含義可以參考圖3-3，在此不再贅述。

步驟305，在形成有BM圖案和平坦層的襯底基板上形成隔墊物。

步驟305結(jié)束時，襯底基板的結(jié)構(gòu)可以如圖2-8所示。

綜上所述，本發(fā)明實施例提供的彩膜基板的制造方法，通過在襯底基板上形成轉(zhuǎn)化層，再以預(yù)設(shè)光線將轉(zhuǎn)化層轉(zhuǎn)化為BM圖案和平坦層，而無需分兩次形成BM圖案和平坦層。解決了相關(guān)中制造彩膜基板的方法較為復(fù)雜的問題。達到了簡化彩膜基板的制造方法的效果。

本發(fā)明還提供一種彩膜基板，該彩膜基板為由圖2-1所示方法制造而成的彩膜基板，或由圖3-1所示方法制造而成的彩膜基板。

本發(fā)明還提供一種顯示面板，該顯示面板包括本發(fā)明實施例提供的彩膜基板。

本發(fā)明中術(shù)語“A和B的至少一種”，僅僅是一種描述關(guān)聯(lián)對象的關(guān)聯(lián)關(guān)系，表示可以存在三種關(guān)系，例如，A和B的至少一種，可以表示：單獨存在A，同時存在A和B，單獨存在B這三種情況。同理，“A、B和C的至少一種”表示可以存在七種關(guān)系，可以表示：單獨存在A，單獨存在B，單獨存在C，同時存在A和B，同時存在A和C，同時存在C和B，同時存在A、B和C這七種情況。同理，“A、B、C和D的至少一種”表示可以存在十五種關(guān)系，可以表示：單獨存在A，單獨存在B，單獨存在C，單獨存在D，同時存在A和B，同時存在A和C，同時存在A和D，同時存在C和B，同時存在D和B，同時存在C和D，同時存在A、B和C，同時存在A、B和D，同時存在A、C和D，同時存在B、C和D，同時存在A、B、C和D，這十五種情況。

本領(lǐng)域普通技術(shù)人員可以理解實現(xiàn)上述實施例的全部或部分步驟可以通過硬件來完成，也可以通過程序來指令相關(guān)的硬件完成，所述的程序可以存儲于一種計算機可讀存儲介質(zhì)中，上述提到的存儲介質(zhì)可以是只讀存儲器，磁盤或光盤等。

以上所述僅為本發(fā)明的較佳實施例，并不用以限制本發(fā)明，凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。