本發(fā)明涉及一種塑化膜片及其制作方法。特別涉及一種光學(xué)膜片組及其制作方法。

背景技術(shù)：

具高絕緣性的塑化膜片，因具有累積靜電的性質(zhì)，在與其他不會泄漏靜電的物體摩擦或剝離時會產(chǎn)生靜電，不僅空氣中的污物、灰塵等容易附著，更會使兩彼此接觸的二膜片相互黏著。

當欲進行液晶面板的組裝工藝時，一般以真空吸嘴吸取單一枚光學(xué)膜片，以進行后段組裝或加工處理。由于相互堆棧的光學(xué)膜片之間存在靜電，導(dǎo)致光學(xué)膜片之間相互吸引黏片，無法一次拮取單一枚光學(xué)膜片，而中斷組裝工藝，影響液晶面板的產(chǎn)能及良率。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于提供一種先進的光學(xué)膜片組及防止黏片方法，以解決現(xiàn)有技術(shù)所面臨的問題。

根據(jù)本說明書的一實施例是提供一種光學(xué)膜片組，包括第一光學(xué)膜片以及第二光學(xué)膜片，第一光學(xué)膜片與第二光學(xué)膜片分別包括第一表面以及位于第一表面的相反一側(cè)的第二表面。其中，第一表面具有第一粗糙度，第二表面具有第二粗糙度；第一光學(xué)膜片與第二光學(xué)膜片互相疊合時，第一光學(xué)膜片的第一表面與第二光學(xué)膜片的第二表面間具有一最大拉力。且第一粗糙度和第二粗糙度的數(shù)值總與最大拉力的數(shù)值乘積實質(zhì)小于1000。

根據(jù)本說明書的另一實施例是提供一種防止光學(xué)膜片黏片的方法，包括下述步驟：首先，提供至少二個光學(xué)膜片，使每一個光學(xué)膜片包括第一表面以及位于第一表面的相反一側(cè)的第二表面；并且使第一表面具有第一粗糙度，使第二表面具有第二粗糙度。接著堆棧這些光學(xué)膜片，使光學(xué)膜片的一者的第一表面與另一者的第二表面接觸。其中，第一粗糙度和第二粗糙度的數(shù)值總與第一表面和第二表面間的最大拉力的數(shù)值乘積實質(zhì)小于1000。

根據(jù)上述，本說明書的實施例提出一種光學(xué)膜片組及防止其黏片的方法，藉由使光學(xué)膜片位于相反兩側(cè)的表面具有不同的粗糙度，并且符合二表面粗糙度數(shù)值總合與二者之間最大拉力的數(shù)值乘積小于1000的條件。來降低相互堆棧時的至少二光學(xué)膜片因靜電而發(fā)生黏片的機會，以解決現(xiàn)有技術(shù)因光學(xué)膜片黏片導(dǎo)致組裝工藝產(chǎn)能及良率不佳的問題。

以下結(jié)合附圖和具體實施例對本發(fā)明進行詳細描述，但不作為對本發(fā)明的限定。

附圖說明

圖1A根據(jù)本說明書的一實施例所繪示的一種光學(xué)膜片的結(jié)構(gòu)透視圖；

圖1B是沿著圖1A的切線S所繪示的光學(xué)膜片的結(jié)構(gòu)剖視圖；

圖1C根據(jù)本說明書的另一實施例所繪示的光學(xué)膜片的結(jié)構(gòu)剖視圖；以及

圖2根據(jù)本說明書的一實施例繪示附數(shù)個相互堆棧的光學(xué)膜片的結(jié)構(gòu)透視圖。

其中，附圖標記

100：光學(xué)膜片 100’：光學(xué)膜片

100”：光學(xué)膜片 101：偏光層

101a：偏光子 101b：第一保護層

101c：第二保護層 102：保護膜

102a：保護膜上表面 102b：保護膜下表面

102c：微結(jié)構(gòu) 103：剝離膜

103a：剝離膜下表面 103b：剝離膜上表面

103c：微結(jié)構(gòu) 104：黏著層

A：剝離膜下表面與保護膜上表面之間的最大拉力

B：保護膜上表面粗糙度 C：剝離膜下表面粗糙度

F：橫向拉力

具體實施方式

本說明書是提供一種在組裝工藝中不會發(fā)生黏片問題的光學(xué)膜片及防止其黏片的方法，可有效增進液晶面板組裝工藝的產(chǎn)能及良率。為讓本發(fā)明的上述和其他目的、特征和優(yōu)點能更明顯易懂，下文特舉數(shù)種實施例詳細說明。

但必須注意的是，這些特定的實施案例與方法，并非用以限定本發(fā)明。本發(fā)明仍可采用其他特征、組件、方法及參數(shù)來加以實施。較佳實施例的提出，僅是用以例示本發(fā)明的技術(shù)特征，并非用以限定本發(fā)明的權(quán)利要求范圍。該技術(shù)領(lǐng)域中具有通常知識者，將可根據(jù)以下說明書的描述，在不脫離本發(fā)明的精神范圍內(nèi)，作均等的修飾與變化。

請參照圖1A和圖1B，圖1A是根據(jù)本說明書的一實施例所繪示的一種光學(xué)膜片100的結(jié)構(gòu)透視圖。圖1B是沿著圖1A的切線S所繪示的光學(xué)膜片100的結(jié)構(gòu)剖視圖。其中，光學(xué)膜片100至少包括一個偏光層101、一個保護膜102以及一個剝離膜103。其中，保護膜102具有上表面102a以及位于上表面102a的相反一側(cè)的下下表面102b；剝離膜103具有下表面103a以及位于下表面103a的相反一側(cè)的上表面103b；且剝離膜103的上表面103b面對保護膜102下表面102b。偏光層則位于剝離膜103的上表面103b和保護膜102的下表面102b之間。

在本實施例之中，光學(xué)膜片100是一種偏光板，其中光學(xué)膜片100的偏光層101至少包括一個偏光子101a、一個第一保護層101b以及一個第二保護層101c。其中，偏光子101a位于第一保護層101b和第二保護層101c之間；第一保護層101b位于保護膜102與偏光子101a之間；以及第二保護層101c位于剝離膜103與偏光子101a之間。

偏光子101a可為聚乙烯醇(PVA)樹脂膜，其可藉由皂化聚醋酸乙烯樹脂制得。聚醋酸乙烯樹脂的例子包括醋酸乙烯的單聚合物，即聚醋酸乙烯，以及醋酸乙烯的共聚合物和其他能與醋酸乙烯進行共聚合的單體。其他能與醋酸乙烯進行共聚合的單體的例子包括不飽和羧酸(例如丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯酸乙酯、正丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸甲酯)、烯烴(例如乙烯、丙烯、1-丁烯、2-甲丙烯)、乙烯醚(例如乙基乙烯醚、甲基乙烯醚、正丙基乙烯醚、異丙基乙烯醚)、不飽和磺酸(例如乙烯基磺酸、乙烯基磺酸鈉)等等。

第一保護層101b及/或第二保護層101c的材料可分別選自由聚甲基丙烯酸甲酯(Polymethylmethacrylate，PMMA)、三聚醋酸纖維素(Triacetyl Cellulose，TAC)、丙烯酸樹脂膜、聚芳香羥樹脂膜、聚醚樹脂膜、環(huán)聚烯烴樹脂膜(例如聚冰片烯樹脂膜)、聚酯(Polyethylene Terephthalate，PET)、聚丙稀(Polypropylene，PP)、環(huán)烯烴聚合物(Cyclo Olefin Polymer，COP)、聚碳酸酯(Polycarbonate，PC)以及上述任意組合所組成的一族群。

保護膜102和剝離膜103是用來保護偏光層101的完整并減少因碰撞或推疊所產(chǎn)生的刮傷或墊傷。保護膜102和剝離膜103可以具有相同或相異的材質(zhì)。在一實施例中，保護膜102和剝離膜103的厚度實質(zhì)介于15微米至40微米之間。

例如在本說明書的一些實施例之中，保護膜102和剝離膜103的材料可選自聚酯樹脂、烯烴樹脂、乙酸纖維素樹脂、聚碳酸酯樹脂、丙烯酸樹脂、聚對苯二甲酸丁二酯(polyethylene terephthalate,PET)、聚乙烯(polyethylene,PE)或聚丙烯(Polypropylene,PP)、環(huán)烯烴樹脂或上述的組合。其中，聚酯樹脂可以例如是聚對苯二甲酸乙二酯或聚萘二甲酸乙二酯，而丙烯酸樹脂可以例如是聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)。

另外，第二保護層101c和剝離膜103的上表面103b之間還包括一黏著層104，用來將剝離膜103黏貼于偏光層101之上。在本實施例中，黏著層104可以是一種包含有丙烯酸樹酯的感壓膠(Pressure Sensitive Adhesive，PSA)。

在一實施例中，保護膜102的上表面102a具有實質(zhì)介于40納米(nm)至90納米之間的粗糙度C。剝離膜103的下表面103a具有實質(zhì)介于15納米至40納米之間的粗糙度B。在一實施例中，粗糙度B與粗糙度C可在薄膜拉伸中產(chǎn)生。

在本說明書的一些實施例之中，剝離膜103的粗糙度B和保護膜102的粗糙度C可以藉由分別在剝離膜103的下表面103a和保護膜102的上表面102a上形成微結(jié)構(gòu)103c和微結(jié)構(gòu)102c的方式來加以實現(xiàn)。例如請參考圖1C，圖1C是根據(jù)本說明書的另一實施例所繪示的光學(xué)膜片100’的結(jié)構(gòu)剖視圖。在本實施例之中，光學(xué)膜片100’的微結(jié)構(gòu)102c和微結(jié)構(gòu)103c形成方式，是藉由噴砂處理或蝕刻處理，采用無化學(xué)活性的微粒子(未繪示)對保護膜102的上表面102a和剝離膜103的下表面103a進行沖擊，以在保護膜102的上表面102a和剝離膜103的下表面103a上形成多個凹陷部。

在本說明書的另一些實施例之中，微結(jié)構(gòu)102c和微結(jié)構(gòu)103c的形成方式，則是藉由沉積和圖案化工藝，以在保護膜102的上表面102a和剝離膜103的下表面103a上形成多個凸出部。并藉由控制多個凸出部或凹陷部的密度來調(diào)整粗糙度B和粗糙度C的數(shù)值。

請參考圖2所繪示，將一光學(xué)膜片100”以膠帶(未繪示)固定，并將另一個光學(xué)膜片100疊置于其上，使被固定的光學(xué)膜片100”的保護膜102的上表面102a與上方光學(xué)膜片100的剝離膜103的下表面103a接觸。當上方光學(xué)膜片100被橫向拉力F拉動時，藉由拉力測試可量測出上方光學(xué)膜片100的剝離膜103的下表面103a與被固定的光學(xué)膜片100”的保護膜102的上表面102a二者之間的最大拉力A。

在本說明書的實施例之中，粗糙度B和粗糙度C的數(shù)值總和(B+C)與剝離膜103下表面103a和保護膜102上表面102a之間的最大拉力A的數(shù)值乘積(B+C)×A實質(zhì)小于1000。其中，最大拉力A值實值小于8牛頓(N)。

粗糙度B、粗糙度C和最大拉力A的數(shù)學(xué)關(guān)系式如下:

A×(B+C)<1000；A<8

在本說明書的一些實施例之中，還可以選擇性地(optionally)在保護膜102上表面102a和/或剝離膜103下表面103a上分別涂布一層抗靜電涂層(未繪示)，藉以進一步調(diào)整剝離膜103下表面103a和保護膜102上表面102a之間的最大拉力A。

其中，抗靜電涂層的材料可以是(a)具有4級銨鹽、吡啶嗡鹽、第1至3級胺基等陽離子性基團的各種陽離子性抗靜電劑；(b)具有磺酸鹽基、硫酸酯鹽基、磷酸酯鹽基、膦酸鹽基等陰離子性基團的陰離子性抗靜電劑；(c)具有胺基酸類、胺基硫酸酯類等的兩性抗靜電劑；(d)具有胺基醇系、甘油系、聚乙二醇系等的非離子性抗靜電劑；或是(e)包含上述抗靜電劑的高分子所形成的高分子型抗靜電劑。

若單一光學(xué)膜片100的剝離膜103的下表面103a和保護膜102的上表面102a粗糙度B和粗糙度C和最大拉力A符合前述數(shù)學(xué)式的條件時，將多個光學(xué)膜片100以相互堆棧的方式行運輸、儲存或進行光學(xué)膜片的組裝工藝時，兩相互接觸的光學(xué)膜片100之間及不會出現(xiàn)黏片的現(xiàn)象。

在一實施例中，亦可在光學(xué)膜片100形成之前，先挑選符合粗糙度B的剝離膜103，粗糙度C的保護膜102和最大拉力A的原膜材料后，再進行光學(xué)膜片100的制作，以避免后續(xù)黏片的現(xiàn)象。

以下特舉出多個符合上述數(shù)學(xué)式的條件的實施例與未符合上述數(shù)學(xué)式的條件的多個比較例來進行黏片測試。將數(shù)枚實施例所提供的光學(xué)膜片100(或比較例的光學(xué)膜片)以下方光學(xué)膜片100的保護膜102的上表面102a與上方光學(xué)膜片100的剝離膜103的下表面103a相互接觸的方式彼此堆棧，再以重物壓放5分鐘以上，移除重物之后，以手取或以光學(xué)膜片組裝工藝中所使用的吸嘴來吸取位于最上方的一片光學(xué)膜片100(或比較例的光學(xué)膜片)，檢測其是否會吸附下方的光學(xué)膜片100(或比較例的光學(xué)膜片)。檢測結(jié)果，X代表不黏片；O代表黏片

詳細測試狀況請參照下表：

值得住意的是，雖然在上述實施例中用來進行黏片測試的光學(xué)膜片的尺寸都為31.5寸，但在前述抗黏片的方法與參數(shù)條件仍適用于其他尺寸，例如大于40寸(例如42寸、50寸或65寸)的較大尺寸實施例，也適用于小于26寸(例如介于15寸至26寸之間)的較小尺寸實施例。

根據(jù)上述，本說明書的實施例是提出一種光學(xué)膜片組及防止其黏片的方法，藉由使光學(xué)膜片位于相反兩側(cè)的表面具有不同的粗糙度，并且符合二表面粗糙度數(shù)值總合與二者之間最大拉力的數(shù)值乘積小于1000的條件。來降低相互堆棧時的至少二光學(xué)膜片因靜電而發(fā)生黏片的機會，以解決現(xiàn)有技術(shù)因光學(xué)膜片黏片導(dǎo)致組裝工藝產(chǎn)能及良率不佳的問題。

藉由本說明書的實施例可于制作光學(xué)膜片前，先依粗糙度篩選適合的保護層及剝離膜材料膜材，來降低相互堆棧時的至少二光學(xué)膜片因靜電而發(fā)生黏片的機會，以解決現(xiàn)有技術(shù)因光學(xué)膜片黏片導(dǎo)致組裝工藝產(chǎn)能及良率不佳的問題。

雖然本發(fā)明已以較佳實施例揭露如上，然其并非用以限定本發(fā)明。此處所述的工藝步驟和結(jié)構(gòu)并未涵蓋制作整體集成電路的完整制造過程。本發(fā)明可以和許多目前已知或未來被發(fā)展出來的不同集成電路制作技術(shù)合并實施。本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域中具有通常知識者，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，當可作各種的更動與潤飾。因此，本發(fā)明的保護范圍當視后附的權(quán)利要求范圍所界定者為準。