技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供了一種基于激光沖擊波的薄膜元件光學(xué)性能后處理方法，以未進(jìn)行激光沖擊波后處理時(shí)升溫過(guò)程中薄膜元件透過(guò)率的變化特性T0的為基準(zhǔn)，分別獲得E0、Em和ΔE對(duì)S次激光沖擊波處理后樣品升溫過(guò)程中薄膜元件透過(guò)率的變化特性TS的影響規(guī)律；根據(jù)TS的提升情況，對(duì)初始激光能量E0、能量遞增梯度ΔE和最大激光能量Em進(jìn)行優(yōu)化，當(dāng)薄膜元件透過(guò)率的變化特性曲線隨溫度的改變不再發(fā)生變化，且對(duì)應(yīng)波長(zhǎng)的透過(guò)率或反射率滿足被測(cè)樣品的要求時(shí)，停止循環(huán)，完成薄膜元件光學(xué)性能后處理。本發(fā)明實(shí)現(xiàn)了對(duì)高功率光學(xué)薄膜元件光學(xué)性能尤其是穩(wěn)定性的改善，結(jié)合實(shí)時(shí)在線調(diào)整后處理工藝參數(shù)，解決了低堆積密度薄膜的光學(xué)性能易受環(huán)境影響的難題。

技術(shù)研發(fā)人員：劉文文;曹宇;張健;朱德華
受保護(hù)的技術(shù)使用者：溫州大學(xué)
文檔號(hào)碼：201710088946
技術(shù)研發(fā)日：2017.02.20
技術(shù)公布日：2017.06.30