本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，具體的，本發(fā)明涉及彩膜基板及其制備方法、顯示裝置和涂膠系統(tǒng)。更具體的，涉及制備彩膜基板的方法、彩膜基板、顯示裝置和涂膠系統(tǒng)。

背景技術(shù)：

隨著TFT-LCD(薄膜晶體管-液晶顯示器)的技術(shù)發(fā)展，對該顯示器的畫面品質(zhì)的要求日益增高。目前，現(xiàn)有的制造工藝中最終在Cell段(即成盒工藝，包括形成配向膜、滴液晶、對盒等操作)填充液晶后，獲得的Cell Gap(液晶單元盒厚)的均一性不高，就會導(dǎo)致在通電使用過程中指示器亮度的不均勻，進一步造成出現(xiàn)各種瑕疵，即出現(xiàn)Target(靶材)Mura問題，如此容易造成制造的顯示器的次級品率較高。

所以，現(xiàn)階段TFT-LCD顯示面板的制造方法有待改進。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明旨在至少在一定程度上解決相關(guān)技術(shù)中的技術(shù)問題之一。

本發(fā)明是基于發(fā)明人的下列發(fā)現(xiàn)而完成的：

本發(fā)明人在研究過程中發(fā)現(xiàn)，TFT-LCD顯示面板的具體結(jié)構(gòu)主要包括CF(Color Film，彩膜)基板、TFT(Thin Film Transistor，薄膜晶體管)基板和填充其間的液晶。參照圖1(其中，下圖為陣列基板結(jié)構(gòu)示意圖，上圖為四探針法測定陣列基板上金屬膜層厚度的結(jié)果圖，顏色越深表示膜層厚度越大)，由于，TFT基板200上表面的平行排列的多根靶材210在鍍膜過程中，容易形成單根靶材中間的膜厚偏高(顏色較深)，而兩根靶材間隙的成膜厚度相對較薄(顏色較淺)。發(fā)明人還發(fā)現(xiàn)TFT基板上表面的厚度差在左右。而CF基板通常包括襯底、間隔設(shè)置在襯底下表面的黑矩陣層和彩色濾光層，以及覆蓋黑矩陣層和彩色濾光層的透明絕緣層，其中，透明絕緣層的下表面是平整的平面，且由于配向膜為厚度均勻的膜層，無法對陣列基板表面的厚度差異進行補償，由此，由于陣列基板上濺射成膜導(dǎo)致的高度差，配對后的CF基板的下表面與TFT基板上表面之間的Cell Gap就會存在均一性差的問題，從而在顯示器使用過程中容易出現(xiàn)Mura現(xiàn)象。

本發(fā)明的發(fā)明人經(jīng)過深入研究發(fā)現(xiàn)，在CF基板的制備過程中，根據(jù)TFT基板表面的Array(陣列)反饋信息對CF基板的透明絕緣層厚度進行相應(yīng)的調(diào)節(jié)，如此可實現(xiàn)CF基板厚度的可調(diào)節(jié)性，從而對TFT基板表面的Array的厚度差異進行補償，進一步提高Cell段填充液晶后的Cell Gap的均一性，有效地解決由于TFT基板上表面濺射成膜厚度差異所帶來的Mura等畫面品質(zhì)問題。

有鑒于此，本發(fā)明的一個目的在于提出一種提高Cell段填充液晶后Cell Gap均一性的制備彩膜基板的方法。

在本發(fā)明的第一方面，本發(fā)明提出了一種制備彩膜基板的方法。

根據(jù)本發(fā)明的實施例，在形成透明絕緣層的步驟中，根據(jù)與所述彩膜基板配對的陣列基板上的金屬膜層的厚度，確定所述透明絕緣層的厚度。

發(fā)明人意外地發(fā)現(xiàn)，采用本發(fā)明實施例的制備彩膜基板的方法，根據(jù)存在表面高度差異的陣列基板上金屬膜層的厚度信息，調(diào)節(jié)CF基板的透明絕緣層的形成厚度，可以根據(jù)實際使用需要，使得陣列基板和彩膜基板之間滿足特定的要求，以提高其使用效果。在本發(fā)明的一些實施例中，可以使得透明絕緣層的厚度補償陣列基板上表面的厚度差異，進而有效提高Cell段填充液晶后的Cell Gap的均一性，有效地解決由于TFT基板上表面濺射成膜厚度差異所帶來的Mura等畫面品質(zhì)問題。

另外，根據(jù)本發(fā)明上述實施例的制備彩膜基板的方法，還可以具有如下附加的技術(shù)特征：

根據(jù)本發(fā)明的實施例，所述透明絕緣層是通過涂膠形成的，且所述形成透明絕緣層的步驟包括：獲取與所述彩膜基板配對的陣列基板上的金屬膜層的成膜數(shù)據(jù)；根據(jù)所述成膜數(shù)據(jù)，確定所述金屬膜層的厚度；根據(jù)所述金屬膜層的厚度，確定所述透明絕緣層的厚度；根據(jù)所述透明絕緣層的厚度，確定涂膠的壓力時間曲線；根據(jù)所述涂膠的壓力時間曲線進行涂膠，以形成所述透明絕緣層。

根據(jù)本發(fā)明的實施例，所述成膜數(shù)據(jù)包括金屬膜層的方塊電阻。

根據(jù)本發(fā)明的實施例，所述透明絕緣層朝向所述陣列基板的面上任意一點到所述金屬膜層的垂直距離的最大值與最小值的差值不超過所述最大值的2％。由此，該含有該彩膜基板的顯示裝置的顯示效果理想，Mura等畫面品質(zhì)問題得到明顯改善。

在本發(fā)明的第二方面，本發(fā)明提出了一種彩膜基板。

根據(jù)本發(fā)明的實施例，所述彩膜基板是通過上述的方法制備的。

發(fā)明人意外地發(fā)現(xiàn)，本發(fā)明實施例的彩膜基板，由于其下表面的透明絕緣層的厚度是根據(jù)與之配對的TFT基板(即陣列基板)的表面厚度信息進行調(diào)整的，從而可以提高Cell段填充液晶后的Cell Gap的均一性，并有效地解決由于TFT基板上表面濺射成膜厚度差異所帶來的Mura等畫面品質(zhì)問題。本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠理解的是，前面針對制備彩膜基板的方法所描述的特征和優(yōu)點，仍適用于該彩膜基板，在此不再贅述。

在本發(fā)明的第三方面，本發(fā)明提出了一種顯示裝置。

根據(jù)本發(fā)明的實施例，所述顯示裝置包括：陣列基板；彩膜基板，所述彩膜基板和所述陣列基板是相對設(shè)置的；液晶層，所述液晶層設(shè)置于所述陣列基板和彩膜基板之間；其中，所述陣列基板靠近所述彩膜基板的一側(cè)設(shè)置有金屬膜層，所述彩膜基板靠近所述陣列基板的一側(cè)設(shè)置有透明絕緣層，且所述透明絕緣層的厚度是根據(jù)所述金屬膜層的厚度確定的。

發(fā)明人意外地發(fā)現(xiàn)，本發(fā)明實施例的顯示裝置，由于其Cell Gap的均一性更好，而能有效地解決Mura等畫面品質(zhì)問題。

另外，根據(jù)本發(fā)明上述實施例的顯示裝置，還可以具有如下附加的技術(shù)特征：

根據(jù)本發(fā)明的實施例，所述彩膜基板包括：襯底；黑矩陣層，所述黑矩陣層設(shè)置在所述襯底的下表面，且具有多個開口；彩色濾光層，所述彩色濾光層設(shè)置在所述襯底朝向所述陣列基板的一側(cè)，且在所述黑矩陣層的所述多個開口中；和透明絕緣層，所述透明絕緣層設(shè)置在所述彩色濾光層和所述黑矩陣層遠離所述襯底的一側(cè)；其中，所述透明絕緣層朝向所述陣列基板的面上任意一點到所述金屬膜層的垂直距離的最大值與最小值的差值不超過所述最大值的2％。由此，該顯示裝置的顯示效果理想，Mura等畫面品質(zhì)問題得到明顯改善。

根據(jù)本發(fā)明的實施例，該顯示裝置的具體種類不受特別限制，只要是具有顯示功能的裝置即可。在本發(fā)明的一些實施例中，該顯示裝置可以為限制面板、手機、平板電腦、游戲機、可穿戴設(shè)備、家用電器等任何可以實現(xiàn)顯示的產(chǎn)品。

在本發(fā)明的第四方面，本發(fā)明提出了一種涂膠系統(tǒng)。

根據(jù)本發(fā)明的實施例，所述涂膠系統(tǒng)包括：信息獲取模塊，用于獲取金屬膜層的厚度；透明絕緣層厚度確定模塊，用于根據(jù)所述金屬膜層的厚度確定透明絕緣層的厚度；涂膠模塊，用于根據(jù)所述透明絕緣層的厚度進行涂膠，其中，所述透明絕緣層設(shè)置在彩膜基板的一側(cè)，所述金屬膜層設(shè)置在與所述彩膜基板配對的陣列基板的一側(cè)，且所述透明絕緣層與所述金屬膜層相對設(shè)置。

發(fā)明人意外地發(fā)現(xiàn)，采用本發(fā)明實施例的涂膠系統(tǒng)，能根據(jù)金屬膜層的厚度信息，靈活調(diào)節(jié)透明絕緣層的形成厚度，從而使透明絕緣層和金屬膜層滿足特定的使用要求，例如可以使得透明絕緣層下表面上任一點到金屬膜層的垂直距離更均勻。

根據(jù)本發(fā)明的實施例，可以通過調(diào)整透明絕緣層的厚度使得透明絕緣層朝向陣列基板的面上任意一點到金屬膜層的垂直距離的最大值與最小值的差值不超過所述最大值的2％。由此，有該彩膜基板和陣列基板形成的顯示裝置的顯示效果理想，Mura等畫面品質(zhì)問題得到明顯改善。

另外，根據(jù)本發(fā)明上述實施例的涂膠系統(tǒng)，還可以具有如下附加的技術(shù)特征：

根據(jù)本發(fā)明的實施例，所述信息獲取模塊進一步包括：成膜數(shù)據(jù)獲取單元，用于獲取所述金屬膜層的成膜數(shù)據(jù)；金屬膜層厚度確定單元，用于根據(jù)所述成膜數(shù)據(jù)確定所述金屬膜層的厚度。

根據(jù)本發(fā)明的實施例，所述涂膠模塊進一步包括：時間壓力曲線確定單元，用于根據(jù)所述透明絕緣層的厚度確定所述涂膠的時間壓力曲線；涂膠處理單元，用于根據(jù)所述時間壓力曲線進行所述涂膠。根據(jù)本發(fā)明的實施例，所述成膜數(shù)據(jù)包括所述金屬膜層的方塊電阻。

本發(fā)明的附加方面和優(yōu)點將在下面的描述中部分給出，部分將從下面的描述中變得明顯，或通過本發(fā)明的實踐了解到。

附圖說明

本發(fā)明的上述和/或附加的方面和優(yōu)點從結(jié)合下面附圖對實施例的描述中將變得明顯和容易理解，其中：

圖1是本發(fā)明一個實施例的TFT基板的俯視圖和對應(yīng)的側(cè)視結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是本發(fā)明一個實施例的顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3是本發(fā)明一個實施例的彩膜基板的內(nèi)部結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4是本發(fā)明一個實施例的涂膠系統(tǒng)的組成示意圖；

圖5是本發(fā)明一個實施例的涂膠處理示意圖。

附圖標(biāo)記

100 彩膜基板

110 襯底

120 黑矩陣層

130 彩色濾光層

140 透明絕緣層

200 陣列基板

210 靶材

220 金屬膜層

300 信息獲取模塊

400 透明絕緣層厚度確定模塊

500 涂膠模塊

510 噴嘴

具體實施方式

下面詳細描述本發(fā)明的實施例，本技術(shù)領(lǐng)域人員會理解，下面實施例旨在用于解釋本發(fā)明，而不應(yīng)視為對本發(fā)明的限制。除非特別說明，在下面實施例中沒有明確描述具體技術(shù)或條件的，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以按照本領(lǐng)域內(nèi)的常用的技術(shù)或條件或按照產(chǎn)品說明書進行。所用試劑或儀器未注明生產(chǎn)廠商者，均為可通過市購到的常規(guī)產(chǎn)品。

在本發(fā)明的一個方面，本發(fā)明提出了一種制備彩膜基板的方法。

根據(jù)本發(fā)明的實施例，在形成透明絕緣層的步驟中，根據(jù)與彩膜基板配對的陣列基板上的金屬膜層的厚度，確定透明絕緣層的厚度。本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解的是，該制備彩膜基板的方法不僅限于形成透明絕緣層的步驟，還可以包括其他必要的制備步驟，例如，襯底的表面處理步驟、黑矩陣層的形成步驟和彩色濾光層的填充步驟，等等，均可按照本領(lǐng)域常規(guī)操作進行，在此不再進行過多贅述。

需要說明的是，本文中所采用的描述方式“與彩膜基板配對的陣列基板”是指將彩膜基板用于制備顯示面板時，與該彩膜基板進行對盒的陣列基板。本文中所采用的描述方式“陣列基板上的金屬膜層”是指制備TFT過程中通過濺射形成的至少一層鍍膜。透明絕緣層為彩膜基板中的現(xiàn)有結(jié)構(gòu)，例如可以為平坦層。

本發(fā)明的發(fā)明人經(jīng)過研究發(fā)現(xiàn)，在CF基板的制備過程中，預(yù)先根據(jù)TFT基板表面的金屬膜層的厚度信息，對CF基板的透明絕緣層厚度進行相應(yīng)的調(diào)節(jié)，如此可實現(xiàn)CF基板厚度的可調(diào)節(jié)性，從而實現(xiàn)對TFT基板表面的金屬膜層厚度差異進行補償，進一步提高Cell段填充液晶后的Cell Gap的均一性，有效地解決由于TFT基板上表面濺射成膜厚度差異所帶來的Mura等畫面品質(zhì)問題。

根據(jù)本發(fā)明的實施例，透明絕緣層的具體形成方式不受特殊的限制，可采用本領(lǐng)域內(nèi)任何已知的在彩膜基板表面形成透明絕緣層的方法。在本發(fā)明的一些實施例中，透明絕緣層是通過涂膠形成的。如此，由于涂膠工藝具有更高的可控性，在透明絕緣層的形成過程中，根據(jù)陣列基板上的金屬膜層的厚度，調(diào)控涂膠過程中的工藝參數(shù)，即可實現(xiàn)對CF基板表面透明絕緣層厚度的更高調(diào)節(jié)性。

根據(jù)本發(fā)明的實施例，形成透明絕緣層的步驟進一步包括：獲取與彩膜基板配對的陣列基板上的金屬膜層的成膜數(shù)據(jù)；根據(jù)成膜數(shù)據(jù)，確定金屬膜層的厚度；根據(jù)金屬膜層的厚度，確定透明絕緣層的厚度；根據(jù)透明絕緣層的厚度，確定涂膠的壓力時間曲線；根據(jù)涂膠的壓力時間曲線進行涂膠，以形成所述透明絕緣層。如此，可以根據(jù)實際使用要求，根據(jù)TFT基板表面的金屬膜層的成膜數(shù)據(jù)，對CF基板的透明絕緣層厚度進行靈活調(diào)整，以更好的滿足使用要求，提高采用該彩膜基板的顯示面板的顯示效果。例如可以調(diào)節(jié)透明絕緣層的厚度實現(xiàn)對TFT基板表面的金屬膜層厚度差異進行補償，進一步提高Cell段填充液晶后的Cell Gap的均一性，從而避免亮度不均勻等現(xiàn)象。

本發(fā)明的發(fā)明人經(jīng)過長期的研究發(fā)現(xiàn)，根據(jù)獲取的與彩膜基板配對的陣列基板上金屬膜層的成膜數(shù)據(jù)，可進行換算成金屬膜層的厚度數(shù)據(jù)，再計算出對應(yīng)的透明絕緣層所需的厚度，然后根據(jù)該厚度，進一步設(shè)計出涂膠工藝中的壓力時間曲線，來調(diào)控涂膠過程中彩膜基板表面形成的透明絕緣層的厚度，從而獲得根據(jù)與彩膜基板配對的陣列基板上金屬膜層的成膜數(shù)據(jù)，所設(shè)計出的能補償陣列基板表面厚度差異的透明絕緣層。

根據(jù)本發(fā)明的實施例，成膜數(shù)據(jù)的具體類型不受特別限制，可采用本領(lǐng)域內(nèi)任何已知的數(shù)據(jù)類型，只要該數(shù)據(jù)能有效地反映出與彩膜基板配對的陣列基板上的金屬膜層的厚度信息即可。在本發(fā)明的一些實施例中，該成膜數(shù)據(jù)包括金屬膜層的方塊電阻。如此，采用上述的方塊電阻的數(shù)據(jù)，可以更靈敏、快速地反映出陣列基板上的金屬膜層的厚度信息，進一步提高對彩膜基板的透明絕緣層厚度的調(diào)節(jié)效果，更進一步提高Cell段填充液晶后的Cell Gap的均一性，更有效地解決由于TFT基板上表面濺射成膜厚度差異所帶來的Mura等畫面品質(zhì)問題。而且，方塊電阻可以直接從制備陣列基板的廠家獲得，不需要單獨測量，操作步驟簡單、方便快速。

本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解，將彩膜基板與陣列基板制備顯示面板時，需要將二者對位貼合，或者說進行對盒處理，如果采用傳統(tǒng)的下表面平坦的彩膜基板，對盒處理后，由于平面靶材自身的鍍膜原理造成的陣列基板上表面金屬膜層的厚度差異，不同位置對應(yīng)的液晶單元盒厚存在一定差異，金屬膜層厚度較大的位置，液晶單元盒厚相應(yīng)較小，金屬膜層厚度較小的位置，液晶單元盒厚相應(yīng)較大，這種cell gap不均勻會容易導(dǎo)致畫面亮度顯示不均勻。而根據(jù)本發(fā)明的實施例，根據(jù)陣列基板上金屬膜層的厚度調(diào)整透明絕緣層的厚度，可以使得透明絕緣層朝向陣列基板的面上任意一點到陣列基板上金屬膜層的垂直距離的最大值與最小值的差值不大于所述最大值的2％。具體的，參見圖2，如果陣列基板200上金屬膜層220的厚度較薄，則相應(yīng)位置的透明絕緣層140的厚度則較大，如果陣列基板200上金屬膜層220的厚度較厚，則相應(yīng)位置的透明絕緣層140的厚度則較小，由此，根據(jù)陣列基板上金屬膜層的厚度調(diào)節(jié)透明絕緣層的厚度，可以有效保證任意一點上，透明絕緣層下表面到陣列基板上金屬膜層的垂直距離L均一性較佳。如此，制備出的符合上述標(biāo)準(zhǔn)的彩膜基板表面的透明絕緣層，能夠更進一步提高Cell段填充液晶后的Cell Gap的均一性，更有效地解決由于TFT基板上表面濺射成膜厚度差異所帶來的Mura等畫面品質(zhì)問題。

根據(jù)本發(fā)明的實施例，通過調(diào)節(jié)透明絕緣層的厚度，可以使得透明絕緣層朝向所述陣列基板的面上任意一點到所述金屬膜層的垂直距離的最大值與最小值的差值不超過所述最大值的2％。例如，在本發(fā)明的一些實施例中，透明絕緣層朝向所述陣列基板的面上任意一點到所述金屬膜層的垂直距離的最大值與最小值的差值不超過所述最大值的1％。在本發(fā)明的另一些實施例中，透明絕緣層朝向所述陣列基板的面上任意一點到所述金屬膜層的垂直距離的最大值與最小值相等。由此，該含有該彩膜基板的顯示裝置的顯示效果理想，Mura等畫面品質(zhì)問題得到明顯改善。

需要說明的是，本發(fā)明中描述的方向“上”是指彩膜基板在實際使用過程中朝向用戶的方向，而“下”是指彩膜基板在實際使用過程中背向用戶的方向。

綜上所述，根據(jù)本發(fā)明的實施例，本發(fā)明提出了一種制備彩膜基板的方法，根據(jù)存在表面高度差異的TFT基板的厚度信息，調(diào)節(jié)CF基板的透明絕緣層的形成厚度，從而使對盒處理后CF基板下表面上任一點到TFT基板的上表面的垂直距離更均勻，提高Cell段填充液晶后的Cell Gap的均一性，有效地解決由于TFT基板上表面濺射成膜厚度差異所帶來的Mura等畫面品質(zhì)問題。

在本發(fā)明的另一個方面，本發(fā)明提出了一種彩膜基板。根據(jù)本發(fā)明的實施例，彩膜基板是通過上述的方法制備的。由于其表面的透明絕緣層的厚度是根據(jù)與之配對的TFT基板上金屬膜層的厚度信息進行調(diào)整的，可以根據(jù)實際需要使得彩膜基板和陣列基板之間滿足特定的使用要求，從而提高由其組成的顯示面板的使用效果。例如，可以通過調(diào)整透明絕緣層的厚度使得彩膜基板和陣列基板之間的垂直距離更均一，從而可以提高Cell段填充液晶后的Cell Gap的均一性，并有效地解決由于TFT基板上表面濺射成膜厚度差異所帶來的Mura等畫面品質(zhì)問題。本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠理解的是，前面針對制備彩膜基板的方法所描述的特征和優(yōu)點，仍適用于該彩膜基板，在此不再贅述。

在本發(fā)明的另一個方面，本發(fā)明提出了一種制備顯示面板的方法。

據(jù)本發(fā)明的實施例，該制備顯示面板的方法包括：提供陣列基板和彩膜基板，其中，彩膜基板是通過前述的方法制備的；將陣列基板和彩膜基板進行對盒。本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解的是，不僅限于提供陣列基板和彩膜基板、對盒處理的步驟，制備彩膜基板的方法還可以包括其他必要的制備步驟，例如，在陣列基板上表面和彩膜基板下表面形成配向膜的步驟、灌入液晶的步驟、貼上偏光片的步驟，等等，在此不再進行過多贅述。

本發(fā)明的發(fā)明人經(jīng)過研究發(fā)現(xiàn)，將根據(jù)與其配對的陣列基板上的金屬膜層的厚度制備出的能補償陣列基板表面厚度差異的彩膜基板，與陣列基板進行對盒處理，能夠獲得CellGap均一性高的顯示面板，從而提高TFT-LCD的畫面品質(zhì)，且該制備顯示面板的方法能降低顯示器的次級品率。需要說明的是，“對盒”處理是指將配對的彩膜基板和陣列基板進行精準(zhǔn)地位置配對并組合成一體，然后在兩塊基板的四周側(cè)邊進行封邊的制備步驟，以便獲得顯示面板。

綜上所述，根據(jù)本發(fā)明的實施例，本發(fā)明提出了一種制備顯示面板的方法，獲得的顯示面板中彩膜基板下表面上任一點到TFT基板上表面的垂直距離更均勻，從而提高Cell段填充液晶后的Cell Gap的均一性，并有效地解決由于TFT基板上表面濺射成膜厚度差異所帶來的Mura等畫面品質(zhì)問題。本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠理解的是，前面針對制備彩膜基板的方法所描述的特征和優(yōu)點，仍適用于該制備顯示面板的方法，在此不再贅述。

在本發(fā)明的另一個方面，本發(fā)明提出了一種顯示面板。根據(jù)本發(fā)明的實施例，該顯示面板是通過前述的方法制備的。其中彩膜基板下表面的透明絕緣層的厚度是通過陣列基板上金屬膜層的厚度確定的，由此可以根據(jù)實際需要使得彩膜基板和陣列基板之間滿足特定的使用要求。在本發(fā)明的一些實施例中，彩膜基板下表面上任一點到TFT基板上表面的垂直距離更均勻，從而提高Cell段填充液晶后的Cell Gap的均一性，并有效地解決由于TFT基板上表面濺射成膜厚度差異所帶來的Mura等畫面品質(zhì)問題。本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠理解的是，前面針對制備彩膜基板的方法、彩膜基板所描述的特征和優(yōu)點，仍適用于該顯示面板，在此不再贅述。

在本發(fā)明的另一個方面，本發(fā)明提出了一種顯示裝置。參照圖2～3，對本發(fā)明的顯示裝置進行詳細的描述。

根據(jù)本發(fā)明的實施例，參照圖2，該顯示裝置包括：相對設(shè)置的陣列基板(TFT)200和彩膜基板(CF)100，以及設(shè)置在陣列基板200和彩膜基板100之間的液晶層300；其中，所述陣列基板200靠近所述彩膜基板100的一側(cè)設(shè)置有金屬膜層220，所述彩膜基板100靠近所述陣列基板200的一側(cè)設(shè)置有透明絕緣層140，且所述透明絕緣層140的厚度是根據(jù)所述金屬膜層220的厚度確定的。本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解的是，不僅限于陣列基板和彩膜基板，顯示裝置還可以包括其他必要的部件，例如，配向膜、偏光板或封框膠等，在此不再進行過多贅述。

根據(jù)本發(fā)明的實施例，參照圖3，該彩膜基板包括：襯底110、黑矩陣層120、彩色濾光層130和透明絕緣層140。其中，黑矩陣層120和彩色濾光層130都設(shè)置在襯底110的下表面，且黑矩陣層120有多個開口，彩色濾光層130就設(shè)置在黑矩陣層120的多個開口中，而透明絕緣層140設(shè)置在彩色濾光層130和黑矩陣層120的下表面。由圖中可以看出，左側(cè)示出位置透明絕緣層140的厚度L1相對較薄，右側(cè)示出位置透明光刻膠140的厚度L2相對較厚。

另外，根據(jù)本發(fā)明的實施例，透明絕緣層140朝向陣列基板的面上任意一點，到陣列基板上金屬膜層的垂直距離的最大值與最小值的差值不大于所述最大值的2％。如此，采用上述標(biāo)準(zhǔn)的透明絕緣層，能使彩膜基板的厚度有效地補償TFT基板的上表面的高度差異，使顯示面板的CF基板下表面上任一點到TFT基板的上金屬膜層的垂直距離更均勻，從而提高Cell段填充液晶后的Cell Gap的均一性，有效地解決由于TFT基板上表面濺射成膜厚度差異所帶來的Mura等畫面品質(zhì)問題。

具體的，在本發(fā)明的一些實施例中，透明絕緣層朝向所述陣列基板的面上任意一點到所述金屬膜層的垂直距離的最大值與最小值的差值不超過所述最大值的1％。在本發(fā)明的另一些實施例中，透明絕緣層朝向所述陣列基板的面上任意一點到所述金屬膜層的垂直距離的最大值與最小值相等。由此，該含有該彩膜基板的顯示裝置的顯示效果理想，Mura等畫面品質(zhì)問題得到明顯改善。

綜上所述，根據(jù)本發(fā)明的實施例，本發(fā)明提出了一種顯示裝置，由于其Cell Gap的均一性更好，而能有效地解決Mura等畫面品質(zhì)問題。

在本發(fā)明的另一個方面，本發(fā)明提出了一種涂膠系統(tǒng)。參照圖4，對本發(fā)明的涂膠進行詳細的描述。

根據(jù)本發(fā)明的實施例，參照圖4，該涂膠系統(tǒng)包括三個主要模塊：信息獲取模塊300、透明絕緣層厚度確定模塊400和涂膠模塊500。其中，信息獲取模塊300，用于獲取金屬膜層的厚度信息；透明絕緣層厚度確定模塊400，用于根據(jù)金屬膜層的厚度信息確定出透明絕緣層的厚度；而涂膠模塊500，用于根據(jù)透明絕緣層的厚度進行涂膠，其中，所述透明絕緣層設(shè)置在彩膜基板的一側(cè)，所述金屬膜層設(shè)置在與所述彩膜基板配對的陣列基板的一側(cè)，且所述透明絕緣層與所述金屬膜層相對設(shè)置。該涂膠系統(tǒng)可直接用于上述的彩膜基板、顯示面板的制備過程中，從而獲得能夠補償存在表面高度差異的TFT基板上金屬膜層的CF基板上透明光刻膠層，使CF基板下表面上任一點到TFT基板的上金屬膜層的垂直距離更均勻，提高Cell段填充液晶后的Cell Gap的均一性，有效地解決由于TFT基板上表面濺射成膜厚度差異所帶來的Mura等畫面品質(zhì)問題。

另外，根據(jù)本發(fā)明的實施例，信息獲取模塊300進一步包括：成膜數(shù)據(jù)獲取單元和金屬膜層厚度確定單元。其中，成膜數(shù)據(jù)獲取單元，用于獲取金屬膜層的成膜數(shù)據(jù)；而金屬膜層厚度確定單元，用于根據(jù)成膜數(shù)據(jù)確定出金屬膜層的厚度。如此，將獲取到的金屬膜層的成膜數(shù)據(jù)，換算出金屬膜層的厚度信息，可以更簡便、快捷地獲得金屬膜層的厚度信息。

具體的，根據(jù)本發(fā)明的實施例，成膜數(shù)據(jù)的具體類型不受特殊的限制，可采用本領(lǐng)域內(nèi)任何已知的數(shù)據(jù)類型，只要該數(shù)據(jù)能有效地反映出金屬膜層的厚度信息即可。在本發(fā)明的一些實施例中，成膜數(shù)據(jù)包括金屬膜層的方塊電阻。如此，采用上述的方塊電阻的數(shù)據(jù)，可以更靈敏、快速地反映出金屬膜層的厚度信息。

另外，根據(jù)本發(fā)明的實施例，所述涂膠模塊500進一步包括：時間壓力曲線確定單元和涂膠處理單元。其中，時間壓力曲線確定單元，用于根據(jù)透明絕緣層的厚度確定出涂膠的時間壓力曲線；而涂膠處理單元，用于根據(jù)時間壓力曲線進行涂膠(涂膠示意圖參考圖5)。如此，在根據(jù)金屬膜層的厚度信息確定出透明絕緣層的厚度的基礎(chǔ)上，確定出涂膠時所需的時間壓力曲線，再在CF基板的表面上進行涂膠工藝，可以獲得能夠補償存在表面高度差異的預(yù)設(shè)膜層的透明絕緣層。

根據(jù)本發(fā)明的實施例，根據(jù)金屬膜層的厚度確定透明絕緣層的厚度，可以使得透明絕緣層朝向所述陣列基板的面上任意一點到所述金屬膜層的垂直距離的最大值與最小值的差值不超過所述最大值的2％。例如，在本發(fā)明的一些實施例中，透明絕緣層朝向所述陣列基板的面上任意一點到所述金屬膜層的垂直距離的最大值與最小值的差值不超過所述最大值的1％。在本發(fā)明的另一些實施例中，透明絕緣層朝向所述陣列基板的面上任意一點到所述金屬膜層的垂直距離的最大值與最小值相等。由此，該含有該彩膜基板的顯示裝置的顯示效果理想，Mura等畫面品質(zhì)問題得到明顯改善。綜上所述，根據(jù)本發(fā)明的實施例，本發(fā)明提出了一種涂膠系統(tǒng)，能根據(jù)存在表面高度差異的金屬膜層的厚度信息，調(diào)節(jié)透明絕緣層的形成厚度，從而使透明絕緣層下表面上任一點到金屬膜層的上表面的垂直距離更均勻，有利于提高顯示面板的顯示效果，改善Mura等畫面品質(zhì)問題。

在本發(fā)明的描述中，需要理解的是，術(shù)語“中心”、“縱向”、“橫向”、“長度”、“寬度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“豎直”、“水平”、“頂”、“底”、“內(nèi)”、“外”、“順時針”、“逆時針”、“軸向”、“徑向”、“周向”等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系，僅是為了便于描述本發(fā)明和簡化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作，因此不能理解為對本發(fā)明的限制。

在本發(fā)明的描述中，除非另有明確的規(guī)定和限定，術(shù)語“安裝”、“相連”、“連接”、“固定”等術(shù)語應(yīng)做廣義理解，例如，可以是固定連接，也可以是可拆卸連接，或成一體；可以是機械連接，也可以是電連接；可以是直接相連，也可以通過中間媒介間接相連，可以是兩個元件內(nèi)部的連通或兩個元件的相互作用關(guān)系。對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以根據(jù)具體情況理解上述術(shù)語在本發(fā)明中的具體含義。

在本說明書的描述中，參考術(shù)語“一個實施例”、“一些實施例”、“示例”、“具體示例”、或“一些示例”等的描述意指結(jié)合該實施例或示例描述的具體特征、結(jié)構(gòu)、材料或者特點包含于本發(fā)明的至少一個實施例或示例中。在本說明書中，對上述術(shù)語的示意性表述不必須針對的是相同的實施例或示例。而且，描述的具體特征、結(jié)構(gòu)、材料或者特點可以在任一個或多個實施例或示例中以合適的方式結(jié)合。此外，在不相互矛盾的情況下，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以將本說明書中描述的不同實施例或示例以及不同實施例或示例的特征進行結(jié)合和組合。

盡管上面已經(jīng)示出和描述了本發(fā)明的實施例，可以理解的是，上述實施例是示例性的，不能理解為對本發(fā)明的限制，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員在本發(fā)明的范圍內(nèi)可以對上述實施例進行變化、修改、替換和變型。