技術總結(jié)
本實用新型提出一種涂膠顯影設備涂敷單元，包括：下蓋，其結(jié)構適配于第一尺寸基片和第二尺寸基片；上蓋和內(nèi)蓋，位于所述下蓋上方，其結(jié)構適配于第二尺寸基片；吸盤，穿設所述下蓋、上蓋和內(nèi)蓋，用于吸附基片；鐵盤，設置于所述吸盤外周，其上設置有清除基片背部殘留化學品的背清噴頭，以及收集廢液的孔。本實用新型提出的涂膠顯影設備涂敷單元，適用于多種尺寸基片的處理，節(jié)約購機成本，從而降低了生產(chǎn)成本。

技術研發(fā)人員：俞韶兵;馬劍
受保護的技術使用者：上海精典電子有限公司
文檔號碼：201621374677
技術研發(fā)日：2016.12.15
技術公布日：2017.06.30