本實(shí)用新型涉及激光直接成像技術(shù)領(lǐng)域，尤其是涉及一種LDI設(shè)備及其拼接調(diào)試系統(tǒng)。

背景技術(shù)：

光刻技術(shù)是用于在基底表面上印刷具有特征構(gòu)圖的技術(shù)。這樣的基底可用于制造半導(dǎo)體器件、多種集成電路、平面顯示器(例如液晶顯示器)、電路板、生物芯片、微機(jī)械電子芯片、光電子線路芯片等。生產(chǎn)良率是印刷電路板(Printed Circuit Board，簡(jiǎn)稱PCB)行業(yè)的重要要求，生產(chǎn)過程中任何器件的精度，都將影響產(chǎn)品的良率，其中在曝光環(huán)節(jié)的影響尤其顯著。因此，對(duì)鏡筒等器件的的定位精度調(diào)節(jié)在曝光之前的校準(zhǔn)工作是光刻機(jī)實(shí)際生產(chǎn)中的重要部分。

目前，激光直接成像(Laser Direct Image，簡(jiǎn)稱LDI)光刻機(jī)在對(duì)基底進(jìn)行曝光顯影之前，都需要對(duì)物鏡鏡筒的位置進(jìn)行校準(zhǔn)。由于生產(chǎn)件尺寸的需要，實(shí)際生產(chǎn)中需要多個(gè)鏡筒的多個(gè)光路同時(shí)進(jìn)行曝光，以保證生產(chǎn)效率，如圖1，現(xiàn)有技術(shù)曝光結(jié)構(gòu)示意圖?，F(xiàn)有技術(shù)LDI設(shè)備上有四個(gè)鏡筒，激光從四個(gè)鏡筒中投射下來對(duì)對(duì)象進(jìn)行曝光，由于曝光圖形的完整性，需要四個(gè)鏡筒下投射的光斑能夠拼接完好，理想狀態(tài)下是無縫銜接，要達(dá)到這種效果就需要對(duì)鏡筒進(jìn)行不斷的調(diào)整，調(diào)整之后進(jìn)行曝光驗(yàn)證拼接的好壞，現(xiàn)在拼接調(diào)試所采用的方法是曝光密集的橫線和豎線。如圖2，現(xiàn)有技術(shù)曝光基底圖形示意圖。曝光顯影后，在顯微鏡下進(jìn)行觀測(cè)：在拼接處的x方向會(huì)出現(xiàn)曝光重疊或者撕裂(斷開)，y方向會(huì)出現(xiàn)錯(cuò)位；將重疊、撕裂和錯(cuò)位的大小(Δx和Δy)進(jìn)行測(cè)量，之后將測(cè)量數(shù)據(jù)補(bǔ)償?shù)狡毓廛浖?nèi)，來達(dá)到調(diào)整拼接的目的。

在實(shí)現(xiàn)本實(shí)用新型過程中，發(fā)明人發(fā)現(xiàn)現(xiàn)有技術(shù)中至少存在如下問題：

在現(xiàn)有技術(shù)的拼接調(diào)試的過程中需要進(jìn)行曝光、顯影、手動(dòng)測(cè)量和補(bǔ)償再驗(yàn)證四個(gè)步驟，多次驗(yàn)證需要多次顯影，造成時(shí)間和物料的浪費(fèi)，人工測(cè)量也會(huì)帶來測(cè)量誤差，因此，現(xiàn)有技術(shù)存在拼接調(diào)試過程繁瑣，誤差大的技術(shù)問題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

有鑒于此，本實(shí)用新型的目的在于提供一種LDI設(shè)備及其拼接調(diào)試系統(tǒng)，以緩解了現(xiàn)有技術(shù)中存在的拼接調(diào)試過程繁瑣，誤差大的技術(shù)問題。

第一方面，本實(shí)用新型實(shí)施例提供了一種LDI設(shè)備拼接調(diào)試系統(tǒng)，包括：光源模塊、調(diào)試模板、物鏡鏡筒、調(diào)試模塊和基底；

所述光源模塊產(chǎn)生光束照射至所述調(diào)試模板，使所述光束經(jīng)所述調(diào)試模板投射至所述物鏡鏡筒；

所述光束經(jīng)所述物鏡鏡筒后投射至所述基底；

所述調(diào)試模塊調(diào)試所述物鏡鏡筒。

結(jié)合第一方面，本實(shí)用新型實(shí)施例提供了第一方面的第一種可能的實(shí)施方式，其中，所述調(diào)試模塊包括：數(shù)據(jù)模塊、驅(qū)動(dòng)模塊和鏡筒調(diào)節(jié)模塊；

所述數(shù)據(jù)模塊生成所述物鏡鏡筒的位置數(shù)據(jù)和補(bǔ)償數(shù)據(jù)；

所述驅(qū)動(dòng)模塊根據(jù)所述位置數(shù)據(jù)和補(bǔ)償數(shù)據(jù)，控制所述鏡筒調(diào)節(jié)模塊調(diào)節(jié)所述物鏡鏡筒的位置。

結(jié)合第一方面的第一種可能的實(shí)施方式，本實(shí)用新型實(shí)施例提供了第一方面的第二種可能的實(shí)施方式，其中，所述數(shù)據(jù)模塊包括數(shù)據(jù)采集模塊和補(bǔ)償計(jì)算模塊；

所述數(shù)據(jù)采集模塊對(duì)所述物鏡鏡筒的位置進(jìn)行數(shù)據(jù)采集，生成鏡筒的位置數(shù)據(jù)；

所述補(bǔ)償計(jì)算模塊將所述位置數(shù)據(jù)處理后，獲得補(bǔ)償數(shù)據(jù)。

結(jié)合第一方面的第二種可能的實(shí)施方式，本實(shí)用新型實(shí)施例提供了第一方面的第三種可能的實(shí)施方式，其中，所述驅(qū)動(dòng)模塊根據(jù)所述補(bǔ)償數(shù)據(jù)生成鏡筒控制信息。

結(jié)合第一方面的第三種可能的實(shí)施方式，本實(shí)用新型實(shí)施例提供了第一方面的第四種可能的實(shí)施方式，其中，所述鏡筒調(diào)節(jié)模塊根據(jù)所述鏡筒控制信息對(duì)所述物鏡鏡筒的位置進(jìn)行調(diào)試。

結(jié)合第一方面，本實(shí)用新型實(shí)施例提供了第一方面的第五種可能的實(shí)施方式，其中，所述光源模塊為激光器。

結(jié)合第一方面，本實(shí)用新型實(shí)施例提供了第一方面的第六種可能的實(shí)施方式，其中，所述基底為玻璃纖維板、陶瓷基板、鋼化玻璃板或者普通光學(xué)玻璃板。

結(jié)合第一方面，本實(shí)用新型實(shí)施例提供了第一方面的第七種可能的實(shí)施方式，其中，所述物鏡鏡筒還包括透鏡組。

第二方面，本實(shí)用新型實(shí)施例還提供一種LDI設(shè)備，包括：基座、顯影裝置和上述LDI設(shè)備拼接調(diào)試系統(tǒng)；

所述顯影裝置和所述LDI設(shè)備拼接調(diào)試系統(tǒng)設(shè)置于所述基座的內(nèi)部；

所述顯影裝置對(duì)所述基底進(jìn)行顯影。

結(jié)合第二方面，本實(shí)用新型實(shí)施例提供了第二方面的第一種可能的實(shí)施方式，其中，還包括載物臺(tái)；

所述基底放置于所述載物臺(tái)上。

本實(shí)用新型實(shí)施例帶來了以下有益效果：

本實(shí)用新型實(shí)施例提供了一種LDI設(shè)備及其拼接調(diào)試系統(tǒng)，包括基座、顯影裝置和LDI設(shè)備拼接調(diào)試系統(tǒng)，顯影裝置和LDI設(shè)備拼接調(diào)試系統(tǒng)設(shè)置于基座的內(nèi)部，顯影裝置對(duì)基底進(jìn)行顯影。其中，LDI設(shè)備拼接調(diào)試系統(tǒng)，包括光源模塊、調(diào)試模板、物鏡鏡筒、調(diào)試模塊和基底，光源模塊產(chǎn)生光束照射至調(diào)試模板，使光束經(jīng)調(diào)試模板投射至物鏡鏡筒，光束經(jīng)物鏡鏡筒后投射至基底，調(diào)試模塊調(diào)試物鏡鏡筒。本實(shí)用新型實(shí)施例通過采用上述技術(shù)方案，省去了現(xiàn)有拼接調(diào)試過程中的顯影工序，避免了人工測(cè)量產(chǎn)生的誤差，緩解了現(xiàn)有技術(shù)中存在的拼接調(diào)試過程繁瑣，誤差大的技術(shù)問題，從而實(shí)現(xiàn)了簡(jiǎn)化拼接調(diào)試流程，提高生產(chǎn)效率的目的。

本實(shí)用新型的其他特征和優(yōu)點(diǎn)將在隨后的說明書中闡述，并且，部分地從說明書中變得顯而易見，或者通過實(shí)施本實(shí)用新型而了解。本實(shí)用新型的目的和其他優(yōu)點(diǎn)在說明書、權(quán)利要求書以及附圖中所特別指出的結(jié)構(gòu)來實(shí)現(xiàn)和獲得。

為使本實(shí)用新型的上述目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能更明顯易懂，下文特舉較佳實(shí)施例，并配合所附附圖，作詳細(xì)說明如下。

附圖說明

為了更清楚地說明本實(shí)用新型具體實(shí)施方式或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)具體實(shí)施方式或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖是本實(shí)用新型的一些實(shí)施方式，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為現(xiàn)有技術(shù)曝光結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為現(xiàn)有技術(shù)曝光基底圖形示意圖；

圖3為本實(shí)用新型實(shí)施例所提供的拼接調(diào)試系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4為本實(shí)用新型實(shí)施例所提供的拼接調(diào)試系統(tǒng)中，曝光基底圖形示意圖；

圖5為本實(shí)用新型實(shí)施例所提供的拼接調(diào)試系統(tǒng)模塊示意圖。

圖標(biāo)：

100-光源模塊；200-調(diào)試模板；300-物鏡鏡筒；400-基底；500-調(diào)試模塊；510-數(shù)據(jù)模塊；511-數(shù)據(jù)采集模塊；512-補(bǔ)償計(jì)算模塊；520-驅(qū)動(dòng)模塊；530-鏡筒調(diào)節(jié)模塊。

具體實(shí)施方式

為使本實(shí)用新型實(shí)施例的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。通常在此處附圖中描述和示出的本實(shí)用新型實(shí)施例的組件可以以各種不同的配置來布置和設(shè)計(jì)。因此，以下對(duì)在附圖中提供的本實(shí)用新型的實(shí)施例的詳細(xì)描述并非旨在限制要求保護(hù)的本實(shí)用新型的范圍，而是僅僅表示本實(shí)用新型的選定實(shí)施例?；诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。

LDI光刻機(jī)在對(duì)基底進(jìn)行曝光顯影之前，都需要對(duì)物鏡鏡筒的位置進(jìn)行校準(zhǔn)。由于生產(chǎn)件尺寸的需要，實(shí)際生產(chǎn)中需要多個(gè)鏡筒的多個(gè)光路同時(shí)進(jìn)行曝光，以保證生產(chǎn)效率，基于曝光圖形所需的完整性，需要多個(gè)鏡筒下投射的光斑進(jìn)行拼接調(diào)試。目前，現(xiàn)有技術(shù)的拼接調(diào)試的過程中需要進(jìn)行曝光、顯影、手動(dòng)測(cè)量和補(bǔ)償再驗(yàn)證四個(gè)步驟，多次驗(yàn)證需要多次顯影，造成時(shí)間和物料的浪費(fèi)，人工測(cè)量也會(huì)帶來測(cè)量誤差，基于此，本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種LDI設(shè)備及其拼接調(diào)試系統(tǒng)，可以簡(jiǎn)化拼接調(diào)試流程，提高生產(chǎn)效率。

為便于對(duì)本實(shí)施例進(jìn)行理解，對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例所公開的LDI設(shè)備及其拼接調(diào)試系統(tǒng)進(jìn)行詳細(xì)介紹。

實(shí)施例一：

參見圖3，本實(shí)用新型實(shí)施例所提供的拼接調(diào)試系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖。

本實(shí)用新型實(shí)施例提供的LDI設(shè)備拼接調(diào)試系統(tǒng)，包括光源模塊100、調(diào)試模板200、物鏡鏡筒300、調(diào)試模塊500和基底400，光源模塊產(chǎn)生光束照射至調(diào)試模板，使光束經(jīng)調(diào)試模板投射至物鏡鏡筒，光束經(jīng)物鏡鏡筒后投射至基底，調(diào)試模塊調(diào)試物鏡鏡筒。具體的，由于生產(chǎn)件的規(guī)模尺寸需要，物鏡鏡筒內(nèi)的光路系統(tǒng)對(duì)基底進(jìn)行曝光，每次曝光為調(diào)試模板的三分之一，分別對(duì)調(diào)試模板進(jìn)行三次曝光后得到完整的曝光圖形，因此要求對(duì)拼接圖形進(jìn)行調(diào)試驗(yàn)證，以此判斷物鏡鏡筒位置的精確度。

參見圖4，本實(shí)用新型實(shí)施例所提供的拼接調(diào)試系統(tǒng)中，曝光基底圖形示意圖。本實(shí)用新型實(shí)施例提供的調(diào)試模板采用兩個(gè)圓形的刻蝕圖形，使用該調(diào)試模板進(jìn)行曝光，由于未采用密集的橫線和豎線圖形，曝光后無需進(jìn)行顯影，即可對(duì)曝光圖形進(jìn)行觀測(cè)，通過對(duì)兩圓形圖形的測(cè)量，能夠判定拼接是否符合要求，并對(duì)不符合要求的部分進(jìn)行調(diào)試，直至拼接處重疊、撕裂和錯(cuò)位的大小在可允許誤差范圍之內(nèi)。

參見圖5，本實(shí)用新型實(shí)施例所提供的拼接調(diào)試系統(tǒng)模塊示意圖。

本實(shí)用新型實(shí)施例提供的LDI設(shè)備拼接調(diào)試系統(tǒng)，調(diào)試模塊500包括數(shù)據(jù)模塊510、驅(qū)動(dòng)模塊520和鏡筒調(diào)節(jié)模塊530，數(shù)據(jù)模塊生成物鏡鏡筒的位置數(shù)據(jù)和補(bǔ)償數(shù)據(jù)，驅(qū)動(dòng)模塊根據(jù)位置數(shù)據(jù)和補(bǔ)償數(shù)據(jù)，控制鏡筒調(diào)節(jié)模塊調(diào)節(jié)物鏡鏡筒的位置。

本實(shí)用新型實(shí)施例提供的LDI設(shè)備拼接調(diào)試系統(tǒng)，數(shù)據(jù)模塊510包括數(shù)據(jù)采集模塊511和補(bǔ)償計(jì)算模塊512，數(shù)據(jù)采集模塊對(duì)物鏡鏡筒的位置進(jìn)行數(shù)據(jù)采集，生成鏡筒的位置數(shù)據(jù)，補(bǔ)償計(jì)算模塊將位置數(shù)據(jù)處理后，獲得補(bǔ)償數(shù)據(jù)。

具體的，將圖形中兩個(gè)圓的位置分別放置在理論拼接處的兩側(cè)，曝光之后，利用設(shè)備中的相機(jī)對(duì)兩個(gè)圓的位置進(jìn)行測(cè)量，將測(cè)量數(shù)據(jù)記錄下來，數(shù)據(jù)采集模塊對(duì)物鏡鏡筒的位置進(jìn)行數(shù)據(jù)采集，生成鏡筒的位置數(shù)據(jù)O₁(x₁,y₁)和O₂(x₂,y₂)。補(bǔ)償計(jì)算模塊將兩個(gè)圓的坐標(biāo)x值相減表示x方向的拼接錯(cuò)位值(Δx＝x₂-x₁)、兩個(gè)圓的坐標(biāo)y值相減表示y方向的拼接錯(cuò)位值(Δy＝y(tǒng)₂-y₁)，得到補(bǔ)償數(shù)據(jù)Δx和Δy。

在拼接處的x方向會(huì)出現(xiàn)曝光重疊或者撕裂(斷開)，理論上，設(shè)定Δx的值應(yīng)為某一精確數(shù)值Δx_理，理想狀態(tài)下達(dá)到該數(shù)值即為完全拼接，在實(shí)際生產(chǎn)中，Δx在誤差允許的范圍內(nèi)的波動(dòng)是合理的，即Δx越接近Δx_理，拼接效果越好。在拼接處的y方向會(huì)出現(xiàn)錯(cuò)位，理論上，設(shè)定Δy的值應(yīng)為某一精確數(shù)值Δy_理＝0，理想狀態(tài)下Δy＝0即為完全拼接，在實(shí)際生產(chǎn)中，Δy在誤差允許的范圍內(nèi)的波動(dòng)是合理的，即Δy越接近0，拼接效果越好。

本實(shí)用新型實(shí)施例提供的驅(qū)動(dòng)模塊根據(jù)補(bǔ)償數(shù)據(jù)生成鏡筒控制信息。驅(qū)動(dòng)模塊讀取補(bǔ)償數(shù)據(jù)Δx和Δy，根據(jù)該數(shù)據(jù)判定鏡筒所需調(diào)整的方向及大小，生成相對(duì)應(yīng)的鏡筒控制信息。

本實(shí)用新型實(shí)施例提供的鏡筒調(diào)節(jié)模塊根據(jù)上述鏡筒控制信息對(duì)物鏡鏡筒的位置進(jìn)行調(diào)試。至此，本實(shí)用新型實(shí)施例提供的LDI設(shè)備拼接調(diào)試系統(tǒng)完成一次拼接調(diào)試，在實(shí)際生產(chǎn)過程中，需要對(duì)鏡筒進(jìn)行多次調(diào)試，直至補(bǔ)償數(shù)據(jù)Δx和Δy達(dá)到拼接合格的可允許誤差范圍之內(nèi)。

本實(shí)用新型實(shí)施例提供的LDI設(shè)備拼接調(diào)試系統(tǒng)中光源模塊為激光器。激光器是光刻機(jī)的主要部分，該LDI設(shè)備為激光直寫式光刻機(jī)。優(yōu)選的是，激光器為半導(dǎo)體固態(tài)激光器，半導(dǎo)體固態(tài)激光器可以是紫外光、紅光、藍(lán)光等半導(dǎo)體固態(tài)激光器。

本實(shí)用新型實(shí)施例提供的LDI設(shè)備拼接調(diào)試系統(tǒng)中基底為玻璃纖維板、陶瓷基板、鋼化玻璃板或者普通光學(xué)玻璃板。

本實(shí)用新型實(shí)施例提供的物鏡鏡筒還包括透鏡組。

實(shí)施例二：

本實(shí)用新型實(shí)施例還提供一種LDI設(shè)備，包括基座、顯影裝置和上述LDI設(shè)備拼接調(diào)試系統(tǒng)，顯影裝置和LDI設(shè)備拼接調(diào)試系統(tǒng)設(shè)置于基座的內(nèi)部，顯影裝置對(duì)基底進(jìn)行顯影。

本實(shí)用新型實(shí)施例提供的LDI設(shè)備拼接調(diào)試系統(tǒng)，與上述實(shí)施例提供的LDI設(shè)備拼接調(diào)試系統(tǒng)具有相同的技術(shù)特征，所以也能解決相同的技術(shù)問題，達(dá)到相同的技術(shù)效果。

本實(shí)用新型實(shí)施例提供的LDI設(shè)備還包括載物臺(tái)，上述基底放置于載物臺(tái)上。

本實(shí)用新型實(shí)施例提供了一種LDI設(shè)備及其拼接調(diào)試系統(tǒng)，包括基座、顯影裝置和LDI設(shè)備拼接調(diào)試系統(tǒng)，顯影裝置和LDI設(shè)備拼接調(diào)試系統(tǒng)設(shè)置于基座的內(nèi)部，顯影裝置對(duì)基底進(jìn)行顯影。其中，LDI設(shè)備拼接調(diào)試系統(tǒng)，包括光源模塊、調(diào)試模板、物鏡鏡筒、調(diào)試模塊和基底，光源模塊產(chǎn)生光束照射至調(diào)試模板，使光束經(jīng)調(diào)試模板投射至物鏡鏡筒，光束經(jīng)物鏡鏡筒后投射至基底，調(diào)試模塊調(diào)試物鏡鏡筒。本實(shí)用新型實(shí)施例通過采用上述技術(shù)方案，省去了現(xiàn)有拼接調(diào)試過程中的顯影工序，避免了人工測(cè)量產(chǎn)生的誤差，緩解了現(xiàn)有技術(shù)中存在的拼接調(diào)試過程繁瑣，誤差大的技術(shù)問題，從而實(shí)現(xiàn)了簡(jiǎn)化拼接調(diào)試流程，提高生產(chǎn)效率的目的。

所述作為分離部件說明的單元可以是或者也可以不是物理上分開的，作為單元顯示的部件可以是或者也可以不是物理單元，即可以位于一個(gè)地方，或者也可以分布到多個(gè)網(wǎng)絡(luò)單元上?？梢愿鶕?jù)實(shí)際的需要選擇其中的部分或者全部單元來實(shí)現(xiàn)本實(shí)施例方案的目的。

另外，在本實(shí)用新型各個(gè)實(shí)施例中的各功能單元可以集成在一個(gè)處理單元中，也可以是各個(gè)單元單獨(dú)物理存在，也可以兩個(gè)或兩個(gè)以上單元集成在一個(gè)單元中。

所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員可以清楚地了解到，為描述的方便和簡(jiǎn)潔，上述描述的系統(tǒng)和裝置的具體工作過程，可以參考前述方法實(shí)施例中的對(duì)應(yīng)過程，在此不再贅述。

另外，在本實(shí)用新型實(shí)施例的描述中，除非另有明確的規(guī)定和限定，術(shù)語“安裝”、“相連”、“連接”應(yīng)做廣義理解，例如，可以是固定連接，也可以是可拆卸連接，或一體地連接；可以是機(jī)械連接，也可以是電連接；可以是直接相連，也可以通過中間媒介間接相連，可以是兩個(gè)元件內(nèi)部的連通。對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以具體情況理解上述術(shù)語在本實(shí)用新型中的具體含義。

所述功能如果以軟件功能單元的形式實(shí)現(xiàn)并作為獨(dú)立的產(chǎn)品銷售或使用時(shí)，可以存儲(chǔ)在一個(gè)計(jì)算機(jī)可讀取存儲(chǔ)介質(zhì)中?；谶@樣的理解，本實(shí)用新型的技術(shù)方案本質(zhì)上或者說對(duì)現(xiàn)有技術(shù)做出貢獻(xiàn)的部分或者該技術(shù)方案的部分可以以軟件產(chǎn)品的形式體現(xiàn)出來，該計(jì)算機(jī)軟件產(chǎn)品存儲(chǔ)在一個(gè)存儲(chǔ)介質(zhì)中，包括若干指令用以使得一臺(tái)計(jì)算機(jī)設(shè)備(可以是個(gè)人計(jì)算機(jī)，服務(wù)器，或者網(wǎng)絡(luò)設(shè)備等)執(zhí)行本實(shí)用新型各個(gè)實(shí)施例所述方法的全部或部分步驟。而前述的存儲(chǔ)介質(zhì)包括：U盤、移動(dòng)硬盤、只讀存儲(chǔ)器(ROM，Read-Only Memory)、隨機(jī)存取存儲(chǔ)器(RAM，Random Access Memory)、磁碟或者光盤等各種可以存儲(chǔ)程序代碼的介質(zhì)。

在本實(shí)用新型的描述中，需要說明的是，術(shù)語“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“豎直”、“水平”、“內(nèi)”、“外”等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系，僅是為了便于描述本實(shí)用新型和簡(jiǎn)化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作，因此不能理解為對(duì)本實(shí)用新型的限制。此外，術(shù)語“第一”、“第二”、“第三”僅用于描述目的，而不能理解為指示或暗示相對(duì)重要性。

最后應(yīng)說明的是：以上所述實(shí)施例，僅為本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式，用以說明本實(shí)用新型的技術(shù)方案，而非對(duì)其限制，本實(shí)用新型的保護(hù)范圍并不局限于此，盡管參照前述實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行了詳細(xì)的說明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解：任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本實(shí)用新型揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，其依然可以對(duì)前述實(shí)施例所記載的技術(shù)方案進(jìn)行修改或可輕易想到變化，或者對(duì)其中部分技術(shù)特征進(jìn)行等同替換；而這些修改、變化或者替換，并不使相應(yīng)技術(shù)方案的本質(zhì)脫離本實(shí)用新型實(shí)施例技術(shù)方案的精神和范圍，都應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本實(shí)用新型的保護(hù)范圍應(yīng)以所述權(quán)利要求的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。