1.一種掩膜板，其特征在于，包括襯底，所述襯底上設(shè)置有開口區(qū)域和遮擋區(qū)域，所述開口區(qū)域由多個(gè)基礎(chǔ)圖形組合而成；
所述開口區(qū)域與所述遮擋區(qū)域的面積比為α，1/3≤α<1。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜板，其特征在于，2/5≤α<1。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述基礎(chǔ)圖形的組合方式包括：相鄰的兩個(gè)所述基礎(chǔ)圖形的外輪廓至少有一個(gè)交點(diǎn)和沒有交點(diǎn)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述基礎(chǔ)圖形包括三角形、圓形、正方形、正六邊形和六角星形中的一種或幾種。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述基礎(chǔ)圖形的外接圓的直徑為1～2μm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜板，其特征在于，當(dāng)所述基礎(chǔ)圖形為圓形時(shí)，每個(gè)圓形最多與N個(gè)圓形相切，N＝4或6。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜板包括多個(gè)分區(qū)，每個(gè)所述分區(qū)的開口區(qū)域占對(duì)應(yīng)分區(qū)的開口占有率不同。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的掩膜板，其特征在于，單個(gè)所述分區(qū)內(nèi)的基礎(chǔ)圖形的組合方式相同。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的掩膜板，其特征在于，所述多個(gè)分區(qū)分布成一列，其中的一端為第一端，靠近所述第一端的分區(qū)的開口占有率小于遠(yuǎn)離所述第一端的分區(qū)的開口占有率。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述遮擋區(qū)域的厚度為1150±200埃。
11.一種陣列基板，其特征在于，所述陣列基板的有機(jī)絕緣膜由權(quán)利要求1～10任一項(xiàng)所述的掩膜板制成。