技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供一種高精度光刻膠面形控制方法，該方法是將傳統(tǒng)光刻工藝中較高溫度的堅(jiān)膜過(guò)程替換為使用低于光刻膠玻璃化轉(zhuǎn)變溫度的低溫真空?qǐng)?jiān)膜方法，避免了傳統(tǒng)工藝中因較高堅(jiān)膜溫度使光刻膠發(fā)生塑性變形所導(dǎo)致的面形變化。本發(fā)明的方法使光刻膠面形在堅(jiān)膜前后變化小，同時(shí)光刻膠刻蝕比提高或不變，進(jìn)而滿足了高精度圖形轉(zhuǎn)移以及對(duì)溫度敏感的特殊襯底光刻樣品的制作要求。

技術(shù)研發(fā)人員：羅先剛;高平;趙澤宇;蒲明博;王彥欽;馬曉亮;李雄
受保護(hù)的技術(shù)使用者：中國(guó)科學(xué)院光電技術(shù)研究所
文檔號(hào)碼：201611135736
技術(shù)研發(fā)日：2016.12.12
技術(shù)公布日：2017.05.31