1.一種具有傾斜端面的裸露型光纖陣列的基板，其特征在于：包括平臺結(jié)構(gòu)（21）、刻槽結(jié)構(gòu)（22）和壓力分散結(jié)構(gòu)（23），所述刻槽結(jié)構(gòu)（22）位于平臺結(jié)構(gòu)（21）和壓力分散結(jié)構(gòu)（23）之間，且所述刻槽結(jié)構(gòu)（22）上表面高于壓力分散結(jié)構(gòu)（23）和平臺結(jié)構(gòu)（21）的上表面，所述刻槽結(jié)構(gòu)（22）表面有刻槽。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具有傾斜端面的裸露型光纖陣列的基板，其特征在于：所述刻槽結(jié)構(gòu)（22）的刻槽為V型槽或U型槽。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具有傾斜端面的裸露型光纖陣列的基板，其特征在于：所述刻槽結(jié)構(gòu)（22）與壓力分散結(jié)構(gòu)（23）的高度差大于0.15mm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具有傾斜端面的裸露型光纖陣列的基板，其特征在于：所述刻槽結(jié)構(gòu)（22）與平臺結(jié)構(gòu)（21）的高度差大于0.25mm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具有傾斜端面的裸露型光纖陣列的基板，其特征在于：壓力分散結(jié)構(gòu)（23）的形狀為矩形、或梯形、或球形。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具有傾斜端面的裸露型光纖陣列的基板，其特征在于：所述壓力分散結(jié)構(gòu)（13）長度大于0.2mm。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具有傾斜端面的裸露型光纖陣列的基板，其特征在于：所述平臺結(jié)構(gòu)（21）與刻槽結(jié)構(gòu)（22）的連接處設(shè)有斜面，所述斜面角度為30°至60°。
8.一種利用權(quán)利要求1—7任一權(quán)利要求所述的基板制作具有傾斜端面的裸露型光纖陣列的方法，其特征在于：包括基板（2）、光纖（1）、蓋板（3）；
按以下步驟制作具有傾斜光纖端面的光纖裸露型光纖陣列：
步驟1：將光纖（1）一端的包覆層剝離干凈，形成去除包覆層的裸光纖（12），用酒精清潔裸光纖（12）表面的殘渣，并切割整齊；
步驟2：將所述裸光纖（12）放入所述刻槽結(jié)構(gòu)（22）的刻槽中，且裸光纖的端面（13）從所述壓力分散結(jié)構(gòu)（23）伸出；
步驟3：將所述蓋板（3）壓在所述刻槽結(jié)構(gòu)（22）上方的裸光纖區(qū)域，且蓋板（3）的寬度不超過基板（2）的寬度，蓋板（3）的長度不超過基板（3）的長度；
步驟4：將紫外固化膠從蓋板（3）的尾端（30）、刻槽結(jié)構(gòu)（22）與平臺結(jié)構(gòu)（21）的交界區(qū)域滴入，紫外固化膠緩慢滲透充滿全部蓋板下表面區(qū)域后用紫外燈對紫外膠進行固化，使得蓋板（3）、基板（2）、光纖（1）在紫外膠的粘合下形成一個整體光纖陣列；
步驟5：將固化好的光纖陣列的端面（13）進行角度研磨加工，形成特定角度的光學(xué)斜面。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種具有傾斜端面的裸露型光纖陣列的制作方法，其特征在于：還包括石蠟（4）；
所述步驟5的具體過程包括：
步驟5-1：將石蠟（4）融化后滴在壓力分散結(jié)構(gòu)（23）上方的裸光纖（12）上，使得蓋板（3）的前端（31）伸出的裸光纖（12）與壓力分散結(jié)構(gòu)（23）在石蠟（4）的組合下形成一個整體；
步驟5-2：將光纖陣列裝配進特定角度設(shè)計的研磨夾具中，對光纖端面（13）進行研磨拋光；
步驟5-3：將研磨拋光后的光纖裸露型光纖陣列進行超聲波清洗，去除剩余的石蠟；
步驟5-4：用石蠟清洗劑對光纖裸露型光纖陣列的前端裸露光纖殘留的石蠟進行再次清潔。