本發(fā)明涉及一種液晶面板制作設(shè)備，特別是一種CF基板的制造方法及UV固化裝置、CF基板生產(chǎn)線。

背景技術(shù)：

目前現(xiàn)有的CF(彩色濾光片)制程因應(yīng)移動設(shè)備產(chǎn)品日益多變且分辨率PPI隨之增加，為滿足高分辨率的需求，CF制程相對應(yīng)所使用的技術(shù)亦具有相應(yīng)的技術(shù)難度，在黑色矩陣(BM)制程、RGB像素制程、PS(photo spacer：柱子制作)部分圖案的線寬(CD)都有不同程度的縮小，技術(shù)難度部分也有不同程度的上升，特別是BM制程，細(xì)線寬施做需要烘烤，烘烤后仍保持較陡的錐度，該狀況下，需要光阻配合較小的流動性(melt flow)，碳素的結(jié)構(gòu)大小直接影響該特性，結(jié)構(gòu)越大，流動性越小，但同時阻抗部分會因為結(jié)構(gòu)變大而減小，這是我們所不想看到的。流動性部分和光阻內(nèi)部鍵合狀況也有一定影響，曝光時，受穿透度影響，光阻表面部分受光必然大于光阻內(nèi)部，化學(xué)物光阻內(nèi)部高分子進行聚合，在烘烤后，光阻會再次流動，從而錐度下降，線寬變大。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

為克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，本發(fā)明提供一種CF基板的制造方法及UV固化裝置、CF基板生產(chǎn)線，從而確保光阻內(nèi)部的高分子更加聚合。

本發(fā)明提供了一種CF基板的制造方法，包括CF制程，在CF制程結(jié)束后，對CF基板進行一道UV硬化工序，所述UV硬化工序為在CF基板的背面通過UV燈進行照射。

進一步地，所述UV燈的波長為300-450nm。

進一步地，所述UV燈的波長為450nm。

本發(fā)明還提供了一種UV固化裝置，包括外殼以及設(shè)于外殼相對兩側(cè)的入口和出口，在外殼內(nèi)設(shè)有輥子輸送裝置，輥子輸送裝置設(shè)置在入口與出口之間，在輥子輸送裝置的下方設(shè)有間隔設(shè)置的UV燈，所述UV燈設(shè)置在輥子輸送裝置的相鄰兩個輥軸之間的空隙處，每個UV燈分別設(shè)有一個鎮(zhèn)流器，每個鎮(zhèn)流器均與電源連接。

進一步地，在每個UV燈上均設(shè)有一個反射罩，反射罩的反射面朝上。

進一步地，每兩個反射罩相互連接固定成一組反射罩組。

進一步地，所述UV燈的波長為300-450nm。

進一步地，所述UV燈的波長為450nm。

進一不地，所述輥子輸送裝置的輸送速度為4000mm/min。

本發(fā)明提供一種CF基板生產(chǎn)線，還包括所述的UV固化裝置。

本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比，通過在CF基板制程之后增加一道UV硬化工藝，通過對CF基板的背面進行UV光照硬化，使膜層下部(高分子聚合部分)更加聚合，錐角更好，即圖形可以做得更細(xì)的線寬。

附圖說明

圖1是本發(fā)明的CF基板的制造方法的流程圖。

圖2是本發(fā)明的UV固化機的內(nèi)部結(jié)構(gòu)示意圖。

圖3是本發(fā)明CF基板生產(chǎn)線的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實施方式

下面結(jié)合附圖和實施例對本發(fā)明作進一步詳細(xì)說明。

如圖1所示，本發(fā)明的CF基板的制造方法，包括現(xiàn)有技術(shù)的CF制程，在CF制程結(jié)束后，即完成烘烤后，對CF基板(彩色濾光片基板)進行一道UV硬化工序(S108)，所述UV硬化工序為在CF基板的背面通過UV燈進行照射，從而確保光阻內(nèi)部的鍵結(jié)狀況，以提高產(chǎn)線制程范圍。

UV燈的波長為300-450nm，優(yōu)選為450nm。

所述CF制程大致包括以下步驟：

步驟一S101、清洗，對基板通過洗凈裝置進行清洗，去除基板表面的顆粒；

步驟二S102、涂布，通過CF涂布機涂布光阻劑，形成涂層；

步驟三S103、干燥，利用真空干燥裝置對具有涂層的基板進行干燥，利用真空干燥設(shè)備將壓力降到30pa，讓溶劑達到沸點，進行烘干；

步驟四S104、預(yù)烘烤，通過預(yù)烘烤裝置即熱板對基板上剩余溶劑進行烘干；

步驟五S105、曝光，通過曝光裝置進行紫外線照射，對光阻進行反應(yīng)；

步驟六S106、顯影，采用顯影裝置利用堿性的KOH，將沒有照到光的材料去除；

步驟七S107、烘烤，通過CF烘烤機進行烘烤溫度為230℃后將基板上剩余溶劑去掉，制成CF基板。

在進行了上述CF制程后，進行步驟八S108，UV硬化。

由于本發(fā)明所要保護的主旨為在制成CF基板后進行一道UV硬化工藝，因此，制作CF基板可以按照現(xiàn)有技術(shù)的CF制程進行，在此不再贅述。

如圖2所示，本發(fā)明的UV固化裝置包括外殼4，在外殼4的相對相側(cè)分別設(shè)有入口5和出口6，在外殼4內(nèi)設(shè)有輥子輸送裝置1，輥子輸送裝置1設(shè)置在入口5與出口6之間，從而使CF基板能夠從入口5進入后經(jīng)輥子輸送裝置1輸送從出口6送出，在輥子輸送裝置1的下方設(shè)有間隔設(shè)置的UV燈2，所述UV燈2設(shè)置在輥子輸送裝置1的相鄰兩個輥軸之間的空隙處，在每個UV燈2上均設(shè)有一個反射罩3，反射罩3的反射面朝上，每個UV燈2分別設(shè)有一個鎮(zhèn)流器7，每個鎮(zhèn)流器7均與電源8連接，這樣能夠從分的對CF基板的背面進行照射。

作為本實施例的其中一優(yōu)選，每兩個反射罩3相互連接固定成一組反射罩組。

所述UV燈的波長為300-450nm，優(yōu)選為450nm。

所述輥子輸送裝置1可采用現(xiàn)有技術(shù)的輥子輸送裝置，在此不再贅述，所述輥子輸送裝置1的輸送速度為4000mm/min。

如圖3所示，本發(fā)明的CF基板生產(chǎn)線包括，包括依次排列并相互通過輸送裝置連接的洗凈裝置10、涂布裝置20、真空干燥裝置30、預(yù)烘烤裝置40、曝光裝置50、顯影裝置60、烘烤裝置70以及本發(fā)明的UV固化機80。

本發(fā)明的UV固化裝置也可以采用現(xiàn)有技術(shù)的UV固化機。

雖然已經(jīng)參照特定實施例示出并描述了本發(fā)明，但是本領(lǐng)域的技術(shù)人員將理解：在不脫離由權(quán)利要求及其等同物限定的本發(fā)明的精神和范圍的情況下，可在此進行形式和細(xì)節(jié)上的各種變化。